CWレーザー測定対応。波長精度 最高±0.0001nm。1台で波長測定＆スペクトル分析が可能。可視光(VIS)から中赤外(MIR)領域まで (375nm to 12μm) の波長域をカバー。マイケルソン干渉計ベース。パルスレーザー(>50kHz)の測定が可能。

ブルーレーザーは金属への高い吸収率から金属加工にとって理想的なレーザーです。波長～444nm。BLシリーズ（125W, 250W）とBL-Fシリーズ（125W, 250W, 500W, 1000W）をご用意しています。汎用的なガルバノスキャナとの一体化が可能。はんだ付け、ワイヤなど、薄い銅またはアルミニウム板の接合・溶接に最適です。赤外線レーザーやグリーンレーザーよりも優れた効率で金属加工を行うこと可能です。

広いチューニングレンジ、高いパルスエネルギー、狭線幅のコンパクト・ナノ秒パルス・チタンサファイアレーザー。波長域690～1010 nm、最大出力パワー2.5 W or 6.8 W (モデル依存。ピーク波長)、線幅30～50 ns、繰返し周波数１～3 kHz または １～10 kHz｡

ピコ秒/サブピコ秒パルスレーザーシステムのパルス幅を大幅に短縮するモジュール。最高のスループット効率、良好なビーム品質、高い安定性。入力パルス幅 < 150 fs to 1 psを数サイクルパルスまで短縮可能。対応波長 1030nm, 515nm

24 bit AFMコントローラー。サポートの終了した Agilent Technology 製 AFM に対応します。シンプルに既存のコントローラーとの置き換えが可能。既存のAFMヘッドへプラグインの上、専用ソフトウェア使用して同様のAFM動作が行えます。

NKT Photonics社では産業用途向け光源として、パルス幅はピコ秒からフェムト秒、また最大出力パワー 40W（ピコ秒） までのさまざまなウルトラファーストレーザーを製造しています。繰返し周波数は、可変と固定、またシングルショットパルスやバーストモードを選択でき、アプリケーションに最適な超高速レーザーを提供いたします。多彩な標準モデルだけでなく、OEMにも対応いたします。 お気軽にお問合せください。

高いナノポジショニング・エンジニアリング力で、複雑な位置決めタスクを解決する最適なナノ位置決めソリューションを提案。

一般的な光学的手法では測定が困難な高濃度・高粘度の試料を、希釈することなく、インラインまたはオンラインで測定できます。ミリング、結晶化、重合、沈降、乳化などのプロセスを、リアルタイムに管理する用途に最適です。（測定粒子サイズ 1～3000 µm）

3Dから高アスぺクト比形状まで対応

発振波長1900-2100 nm よりご指定可能。スペクトル線幅はMHｚレベルの狭線幅。平均出力100 mW /１W。狭線幅＆高安定性で幅広い用途で使用いただけます。

高出力（BrixX HP）または縦単一周波数（BrixX NB）モデル。375～2080nmの範囲で多彩な波長ラインナップ、最大出力5W

平均出力パワー 最大20W、4波長同時出力、フルカスタマイズ可能、波長域257nmから最大4000nmまでの範囲で選択可能、繰返し周波数 2 MHz

高出力（最大10W）で狭線幅（sub-kHz）の単一周波数レーザー。周波数変換により波長ラインナップが増えました。位相と強度の両ノイズを抑制。TEC搭載。ルビジウム、ストロンチウム、バリウム、イッテルビウムの波長に正確に対応でき、最先端の量子アプリケーションに最適です。

ピコオーダ、超高速(10MHz)、長作動距離(最大5m)、多様な材質や極端環境（超高真空、高磁場）に対応する変位測定干渉計【レーザー干渉式変位センサ】

量子相関と蛍光測定に特化したソフトウェアを提供。FLIM、FLIM-FRET、FCS、FCCS、FLCS、同時計測、蛍光タイムトレース分析等に対応しています。QuCoa、SymPhoTime 64 、EasyTau 2のすべてのデモ機ご用意しております。

ピコ秒レーザー加工、OEM組込みに最適なモードロック・ダイオード励起Nd:YVO4レーザー。透明材料を含む多彩な素材の非熱加工や、高繰り返し周波数、ピコ秒パルスによる高速加工、精密加工に最適。SHG, THG可。最大平均出力50W、最大繰返し1MHz、パルス幅15ps、最大パルスエネルギー300 μJ

医療・産業分野の厳しい要件を満たす高品質・超小型フェムト秒レーザ。パルス幅 <150 fs、繰返し周波数 最高40MHz、平均出力 >5W、最大パルスエネルギー >500nJ。

Spacetek Technology社の IonTamer™ は飛行時間型の質量分析計 / 残留ガス分析器 (TOF-RGA) です。ガス組成をリアルタイムで、高分解能、高感度にモニターします。世界最高性能のRGAであるIonTamer™は、これまで実験室用装置でしか得られなかった性能を、コンパクトで扱いやすく、組み込み可能にしました。半導体製造、OLEDディスプレイ製造、光学部品、ソーラーパネル製造、真空コーティングプロセス（CVD、PVD、ALD）、真空炉、冶金、超高真空などでの研究、過酷な環境下での用途に対応します。

破片粒子の少ないレーザー切断を実現。リチウムイオン電池の電極加工に好適。

波長範囲 1880-2000 / 1900-2050 nm, 平均出力 >100 mW /1.3 W。 幅広いゲイン波長域、低ノイズ、優れた出力安定性を有します。

Lumina Instruments社のATシリーズは、ガラス基板、半導体基板、ディスプレイ基板などの基板の欠陥を可視化する欠陥検査イメージング装置です。高速での測定とnm単位の高いPSLパーティクル感度を実現。

シリコンナイトライドカンチレバー・チップのガラスホルダーチップの両側に2つ配置。用途としてソフトコンタクトモードで使われます。

ナノ秒レーザー加工、OEM組込みに最適。金属、プラスチック、セラミック、ガラスなど多彩な素材に適用できる高い平均出力：最大200W。1064 nm or 532 nm。繰り返し 1-100 kHz, CW

革新的なファイバアンプ技術によるコンパクト、ハイパワー、高エネルギー、高繰り返しのフェムト秒/ピコ秒ファイバレーザー。パルス幅は最短 350 fs – 10 ps、繰返し周波数 single shot to 40MHz、最大平均出力 50W、最大パルスエネルギー 150 µJ