レーザー加工 一覧

マイクロドリリングシステム“ProbeDrill 355”

Oxford Lasers

高速・微細な多穴加工(円および四角形状)

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最大40 μJ出力 高機能フェムト秒レーザー Satsuma Niji

Amplitude Systemes
[新商品]

平均出力パワー:最大20W、4波長同時出力、フルカスタマイズ、波長域:257nmから最大4000nm(選択)、繰り返し周波数:2 MHz

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OEMレーザーマーカー

Photon Energy

レーザーマーキングシステムへの搭載用レーザーマーカー。独立型&コンプリートシステムで他のアセンブリラインや特殊マシンへの組み込みにも最適。

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狭線幅&低ノイズ 単一周波数ファイバレーザー“Koherasシリーズ”

NKT Photonics

狭線幅&低ノイズ。DFBレーザーベースの縦モードシングル 単一周波数レーザー。755-780nm, 1μm/1.5μm帯。10mW-15W出力。多彩モデルラインナップ。
ハイパワーSHG出力(755-780nm)モデル Koheras HARMONIKは、量子センシング、レーザー冷却&原子トラップに最適。

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400W出力 ピコ秒レーザー Amphos3000シリーズ

AMPHOS

最大出力パワー 400W。最大パルスエネルギー 15mJ。OPCPAポンピングや材料加工に好適。

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300W出力 ピコ秒レーザー Amphos2000シリーズ

AMPHOS

最大出力パワー 300W。ピコ秒パルス 0.9-10ps。微細加工に好適。

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1000W出力 ピコ秒レーザー Amphos5000シリーズ

AMPHOS

ピコ秒パルス、キロワット出力で、OPCPAポンピングやレーザー加工に好適。最大パルスエネルギー20 mJ。最大出力パワー1000 W。

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200mW出力 ピコ秒レーザー Amphos1000シリーズ

AMPHOS

出力パワー200 mW。最大パルスエネルギー 2μJ。ナノ秒~ピコ秒パルスを出力。Yb:YAGのシード光や顕微鏡用途に好適。

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レーザー加工ヘッド“OPTICEL”

レーザックス

幅広い要求事項に柔軟に対応する、信頼性、品質、カスタマイズ性に優れたレーザー加工ヘッド

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小型CWレーザー“Directシリーズ&Crystalシリーズ”

CrystaLaser

非常に多彩な波長ラインナップ・単一周波数モデル・低ノイズモデルなど幅広いタイプの半導体レーザー&DPSSレーザー。375~1444nm。最大出力2500mW。

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2軸ガルバノスキャナ

RAYLASE
[新商品]

レーザービームを2次元で偏向・集光するXY偏向ユニットです。小~中規模程度の加工エリアで、高速処理が必要なさまざまなアプリケーションに好適です。

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最大250μJ出力 高機能フェムト秒/ピコ秒レーザー Tangerine

Amplitude Systemes

革新的なファイバアンプ技術によるコンパクト、ハイパワー、高エネルギー、高繰り返しのフェムト秒/ピコ秒ファイバレーザー。パルス幅 <350 fs to >10 ps または最短 150 fs まで、繰返し周波数 single shot to 40MHz、最大平均出力 50W、最大パルスエネルギー 250 µJ。

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最大500μJ出力 高機能フェムト秒/ピコ秒レーザー Tangor

Amplitude Systemes

革新的なファイバアンプ技術によるコンパクト、ハイパワー、高エネルギー、高繰り返しのフェムト秒/ピコ秒ファイバレーザー。パルス幅 最短 500 fs – 10 ps、繰返し周波数 single shot to 40MHz、最大平均出力 100W、最大パルスエネルギー 500 µJ。

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最大150μJ出力 高機能フェムト秒/ピコ秒レーザー Satsuma

Amplitude Systemes

革新的なファイバアンプ技術によるコンパクト、ハイパワー、高エネルギー、高繰り返しのフェムト秒/ピコ秒ファイバレーザー。パルス幅は最短 350 fs – 10 ps、繰返し周波数 single shot to 40MHz、最大平均出力 50W、最大パルスエネルギー 150 µJ

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材料プロセス用 ピコ秒レーザー CEPHEUS

Photon Energy

ピコ秒レーザー加工、OEM組込みに最適なモードロック・ダイオード励起Nd:YVO4レーザー。透明材料を含む多彩な素材の非熱加工や、高繰り返し周波数、ピコ秒パルスによる高速加工、精密加工に最適。SHG, THG可。最大平均出力50W、最大繰返し1MHz、パルス幅15ps、最大パルスエネルギー300 μJ

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フェムト秒ファイバー伝送モジュール Fiber

Amplitude Systemes

中空コアファイバー技術で、分散と非線形の影響を抑えた超短パルスレーザー。ファイバー長 1,2,5m(要相談)、波長 1030nm。

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最先端 フラッシュランプ励起 ナノ秒 YAGレーザー&ガラスレーザー

Amplitude Technologies

高度な要求に応える、特別かつ無二のナノ秒パルス・レーザーソリューション。
Premiumlite-YAG YAGレーザー:>75 J @1064 nm, >55 J @532 nm、繰返し周波数 10 Hz
Premiumlite-Glass ガラスレーザー:>250 J @1053 nm, >200 J @527 nm、繰返し周波数 0.1 Hz

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高ピークパワー Qスイッチ半導体励起固体レーザー“CP-600シリーズ”

Canlas

高ピークパワー 750μJ @10kHz(1064nm), 300μJ @10kHz(532nm)。パルス幅 約4ns

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3軸ガルバノスキャナ

RAYLASE

2次元のXY偏向ユニットにZ軸を追加し、3次元加工に対応した3D偏向ユニットです。小スポット径で最大2,000 mm x 2,000 mmもの広いスキャンエリアを処理できます。

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低価格 Qスイッチ半導体励起固体レーザー“CL-100シリーズ”

Canlas

レーザー微細加工に適した低価格な高繰返しナノ秒パルスレーザー。2波長ラインナップ(1064, 532 nm)。最高3W出力。繰返し 1-100kHz。最小パルス幅 15ns

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AMPHOS 高出力ピコ秒レーザーシステム 一覧

AMPHOS
[オススメ]

最大1000W、mJエネルギー出力。繰返し 最高100MHz。フェムト秒~ピコ秒パルスのコンパクト、堅牢、高安定性なターンキーシステム

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破片粒子低減 レーザー切断装置 LMTS IR duo

Laser-Mikrotechnologie Dr. Kieburg

破片粒子の少ないレーザー切断を実現。リチウムイオン電池の電極加工に好適。

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ピコ秒レーザーマーキングシステム

Photon Energy
[オススメ]

レーザーマーキング・コンプリートシステム。光源、光学系、機械系コンポーネント、ソフトウェア含む。比類のない高い柔軟性と直感的な操作性。独立型デバイスでも組込み用にも提供可能。

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100μJ出力 高機能フェムト秒レーザー Yuja

Amplitude Systemes

多機能で超コンパクトな 100μJ, 10W 出力のフェムト秒レーザー。繰返し周波数 single shot to 40MHz。

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