破片粒子の少ないレーザー切断を実現。リチウムイオン電池の電極加工に好適。

中心波長 1930±20 nm, バンド幅 (-20dB) >170 nm, 平均出力パワー>10 mW。広範な波長域と優れたパワー安定性。光コンポーネントの試験、分光、ガスセンシング、バイオメディカル、OCTなど幅広い用途に応用可

ナノ秒レーザー加工、OEM組込みに最適。金属、プラスチック、セラミック、ガラスなど多彩な素材に適用できる高い平均出力：最大200W。1064 nm or 532 nm。繰り返し 1-100 kHz, CW

高分解能・高速応答。動的変位測定のスタンダードモデル。

最大６波長、市場で最高クラスの最大1W高出力LED光源。LEDチップのアクティブ温度コントロールと高安定性電流源で高安定性＆高再現性の出力を保証。

ナノインプリントにおける樹脂硬化方式/プレス⽅式/加圧方式の組み合わせを選択可能。かつレトロフィットを可能にしたR&D専用装置。ナノインプリント・プロセス応用を伴う研究開発を加速します。

24 bit AFMコントローラー。サポートの終了した Agilent Technology 製 AFM に対応します。シンプルに既存のコントローラーとの置き換えが可能。既存のAFMヘッドへプラグインの上、専用ソフトウェア使用して同様のAFM動作が行えます。

量子相関と蛍光測定に特化したソフトウェアを提供。FLIM、FLIM-FRET、FCS、FCCS、FLCS、同時計測、蛍光タイムトレース分析等に対応しています。QuCoa、SymPhoTime 64 、EasyTau 2のすべてのデモ機ご用意しております。

2次元のXY偏向ユニットにZ軸を追加し、3次元加工に対応した3D偏向ユニットです。小スポット径で最大2,000 mm x 2,000 mmもの広いスキャンエリアを処理できます。

パワフルな完全一体型サブ・テラヘルツ発振器。最先端のショットキーダイオード・マルチプライヤ利用。高出力 2～350mW。高いチューナビリティ <12%。周波数 > 75, 150, 300, 600 GHz。コンパクト（<1kg）で使い易い。

S neox Five Axis 5軸ステージ付き白色干渉計は、高精度回転ステージモジュールと白色干渉計 高速・多機能モデルS neox の高度な検査および解析機能を組み合わせています。これにより、指定された位置・角度で自動的に3D表面形状測定を行い、完全な3D形状計測が可能になります。

高いスキャナー性能を持つハイエンドAFMです。老舗AFMメーカのハイエンド品並みの測定品質ながらリーズナブルな価格に抑え、非常にコストパフォーマンスの高いAFMになっています。通常のAFMとしての機能のほか、電気特性測定（KFM、C-AFM)などに強みがあります。

従来のAFMの半分以下の低価格ながら、高いイメージング品質を発揮します。日本初上陸の高コストパフォーマンスAFMです。

レーザー干渉を利用した厚さ測定装置。厚膜(1～500μm)測定用。小型・高速・高精度

長寿命プローブ：- AFMプローブ HARDシリーズ,- AFMプローブ 導電性ダイヤモンドコーティング DMD-XSC11

固体ダイオード励起Qスイッチレーザー。短パルス、コンパクトで微細レーザー加工に最適。ピーク出力はＭＷ。1064 nm 532 nm 355 nmに対応

ピコ秒/サブピコ秒パルスレーザーシステムのパルス幅を大幅に短縮するモジュール。最高のスループット効率、良好なビーム品質、高い安定性。入力パルス幅 < 150 fs to 1 psを数サイクルパルスまで短縮可能。対応波長 1030nm, 515nm

広いチューニングレンジ、高いパルスエネルギー、狭線幅のコンパクト・ナノ秒パルス・チタンサファイアレーザー。波長域690～1010 nm、最大出力パワー2.5 W or 6.8 W (モデル依存。ピーク波長)、線幅30～50 ns、繰返し周波数１～3 kHz または １～10 kHz｡

世界初、マスクレス微細加工のための2光子グレースケール・リソグラフィシステム。屈折型、回折型マイクロ光学素子製造のための最先端装置。

>50Hzのパルスレーザーが測定可能。QCLに最適。高い波長精度：±0.08 nm @ 8μm､高い光除去比：20 dB、1〜12μmの波長域。CWレーザーも測定可能。