材料プロセス用 ナノ秒DPSSレーザー
ナノ秒レーザー加工、OEM組込みに最適。金属、プラスチック、セラミック、ガラスなど多彩な素材に適用できる高い平均出力:最大200W。1064 nm or 532 nm。繰り返し 1-100 kHz, CW
ナノ秒レーザー加工、OEM組込みに最適。金属、プラスチック、セラミック、ガラスなど多彩な素材に適用できる高い平均出力:最大200W。
Photon Energy(フォトンエナジー)社のLEO及びAQUILAは、ナノ秒パルスのダイオード励起固体レーザー(DPSSL)です。平均出力パワーは最大 200 Wです。材料プロセスに最適で、金属、プラスチック、セラミック、ガラスなど各種材料の穴あけ(ドリリング)、切断(カッティング)、彫版(エングレービング)、マーキングに好適です。
これらレーザーはシステム組込みが容易なOEMデバイスとして設計されており、信頼性が高く堅牢です。レーザパラメータは広いスケールで容易に調整でき、非常に柔軟性に優れています。例えばアニーリングマーキングと金属彫版はそれぞれ必要となるレーザーパラメータが著しく異なりますが、Photon Energy社のシステムならハードウェアを一切取り替えることなく、同じシステムで両加工に対応できます。
最大200Wの高い平均出力をもつAQUILAレーザーは、短いサイクル時間が同時に要求される大面積・大容量の加工に最適です。
一方LEOシリーズの最大出力パワーは 15 W で、高精細パターン成形など高い精度が要求されるアプリケーションに好適です。
1064 nm|120~200 W, AQUILAシリーズ
AQUILAシリーズは過酷な環境下での使用を想定して開発されたナノ秒DPSSレーザ(DPSSL)で、非常に堅牢です。平均出力が 120W または 200W と高く、特に短時間に大面積・大容量を加工するような材料プロセスに適しています。
ランプ励起レーザーと比較して、ビーム品質、パルス繰返し周波数、パルスエネルギーのバランスが際立って優れています。さらにレーザパラメータは広いスケールで変更できます。パルス繰返し周波数と、それに応じてパルスエネルギーを調整できるため、AQUILAの広い平均出力範囲を余すことなく活用できます。
応用例
モデル | AQUILA 120 | AQUILA 200 |
---|---|---|
レーザータイプ | Nd:YAG; λ= 1064 nm | Nd:YAG; λ= 1064 nm |
最大平均出力 | 120 W | 200 W |
パルスピークパワー, Nd:YAG | 200 kW @3 kHz | 350 kW @3 kHz |
パルスピークパワー, Nd:YVO4 | – | – |
周波数範囲 | 1-100 kHz ※1, CW | 1-100 kHz ※1, CW |
ビーム品質 | マルチモード | マルチモード |
ビーム径 (出射口) | 4 mm | 5 mm |
冷却 | チラー | チラー |
環境温度 | 10~40 ℃ | |
電気接続 | 230 VAC, 50/60 Hz | 230 VAC, 50/60 Hz |
最大消費電力 | 2.8 kW | 2.8 kW |
ケーブル長 ※2 | 5 m | 5 m |
寸法 (mm), L x W x H | ||
レーザーヘッド | 500x140x128 | 500x140x128 |
レーザーコントロールユニット, 19″ | 472.5x482x133 | 472.5x482x133 |
チラー, 19″ | 636x485x312 | 636x485x312 |
重量 | ||
レーザーヘッド | 10.3 kg | 10.3 kg |
レーザーコントロールユニット | 19 kg | 19 kg |
チラー | 57 kg | 57 kg |
※1 周波数 < 3 kHz でダイオード電流をフル出力で使用しないこと。※2 異なるケーブル長も提供可能。