測定用標準基板・テストサンプル・校正構造体：- AFM 校正用構造体 測定用標準基板 HOPG,- AFM 校正用構造体 TGXYZ,- AFM 校正用構造体 TGX,- AFM 校正用構造体 TGF11シリーズ

S neox Five Axis 5軸ステージ付き白色干渉計は、高精度回転ステージモジュールと白色干渉計 高速・多機能モデルS neox の高度な検査および解析機能を組み合わせています。これにより、指定された位置・角度で自動的に3D表面形状測定を行い、完全な3D形状計測が可能になります。

長寿命LEDを搭載した光散乱原理の濁度計。過酷な環境下でもメンテナンスフリーで使用することのできる堅牢なデザインです。

AFM 超高感度電流増幅器

流れの可視化光源に適した非常にコンパクトな筐体のレーザー

※デモ機あり、サンプル測定可能 高精度 （±0.1 μm）、12μm から 80mmの広い範囲が測定可能な膜厚計（厚み計）です。独自の非接触光学技術を採用。硬質材料と軟質材料の両方を、損傷や変形なく厚さ測定をすることができます。最大31層の厚みを同時に測定することが可能です。

テラヘルツ波とミリ波により、封書から小包までの内包物を精密・安全・高速に可視化

テラヘルツ実験スタートに最適。高出力モデルTC2000の廉価版。最先端の量子カスケードレーザー（QCL）ベース。2～5THz。パルス（QCW）。シングル/マルチモード。出力0.1mＷ以上 at 3.2THz。窒素冷却

高真空・超高真空対応プローブ。低アウトガス・高安定性・非磁性対応可能。

超分解能を持つ時間分解共焦点顕微鏡。誘導放出抑制（STED）顕微鏡法を使用。光学分解能50nm未満（STED）、励起640nm（オプション：595nmおよび660nm）、SPADおよびHybrid-PMTを使用した最大6検出チャンネル、ゲート付きSTED（gSTED）とgSTED-FCSをサポート　

Lumina Instruments社のATシリーズは、ガラス基板、半導体基板、ディスプレイ基板などの基板の欠陥を可視化する欠陥検査イメージング装置です。高速での測定とnm単位の高いPSLパーティクル感度を実現。

ソフトレジスコープを使用すると、壊れやすい導電性サンプルの抵抗と電流を測定できます。 ソフトレジスコープモードでチップに適用される特定の垂直方向の動きは、接触時の電気的測定を最適化し、チップとサンプルを保持します。 市場で入手可能な他の振動技術とは異なり、ソフト抵抗器はサイクル中一定の力で電流/抵抗を測定します。 電気的測定は、AFM接触モードで行われた測定と同等ですが、より壊れやすいサンプルを測定が可能です。

狭線幅レーザーを内蔵したラマン分光計　励起波長が785nmと532nmのタイプをラインナップ。4000cm-1までの広いスペクトル範囲と8cm-1以上の高い分解能で、物質分析・同定が可能です。

超音波で物体内部を高精細／高感度に検査・観察

完全インライン向けLIBSシステム。20kHzの超高繰返し測定（カスタムで100kHzまで可）

NANOSENSORS製AFMカンチレバー。10本、20本、50本、ウエハ（365または370または380）の入り数でご注文可能。製品一覧表からお探しのモデルをすぐに見つけられます。ご相談もお気兼ねなくお問合せください。

業界一の超高速でケミカルイメージ（化学組成マッピング）を測定可能です。1視野のケミカルイメージは35秒で取得できます。固定波数でのイメージングは、毎秒30フレームのリアルタイム取得です。工業サンプルの赤外像を可視化できます。バイオ・医療分野ではがん細胞と正常細胞を赤外吸収スペクトルの違いで判別する研究に応用されています。詳しくは応用例タブをご覧ください。

位相イメージングは、異種材料や特性の不均一性を持つサンプルにおいて、ナノスケールの違いをイメージングするために用いられるAFM技術の一つです。位相コントラストは、チップとサンプル間の相互作用に基づきますが、これらの相互作用は、スキャンパラメーターや、イメージングの測定モード（原子間力の引力領域か斥力領域で捜査しているかなど）に依存します。O’DeaとBurratoは、位相イメージングを使用して、Nafion膜のプロトン伝導ドメインをマッピングしました。彼らは、先端とサンプルの間の特定の相互作用力がプロトン伝導ドメインの分解能に大きく影響することを発見しました。斥力レジームでのイメージングにより、ドメインの面積が大きめに表示され、ドメインの数が少なめに表示されました。引力領域でのイメージングにより、水やフルオロカーボンのドメインが最も正確に測定できました。AFMのフィードバックループが最適化されていない場合、またはカンチレバーが共振周波数を超えて駆動していた時、位相イメージングは組成の違いではなく、形状の変化に対応するイメージになりました。

実際の粒子映像を使用して、粒子サイズや速度とその分布を正確に自動測定

半導体、ディスプレイ、プリント基板における大型の基板の3D表面測定が可能な白色干渉計・共焦点顕微鏡システムです。測定ソフトウェア、また特定の測定ニーズに合わせたプラグインも幅広くご用意。アプリケーションに適した測定ソリューションをご提供致します。

HQ:NSCプローブモデルには、磁気力顕微鏡（MFM)用のコーティングを施した製品もご用意しております。コーティングはチップサイドに膜厚60 nmのコバルト層があり、さらに酸化防止のクロムフィルム膜厚20 nmがカバーしています。トポグラフィーと磁気特性の安定した測定のためにカンチレバーのパラメーターは最適化されています。

フォトニックドップラー速度計測（PDV）は、数10km/sまでの高速度事象の計測に用いられる確立された技術です。ヘテロダイン速度計とも呼ばれ、VISAR（Velocity Interferometer System for Any Reflector）の補助ツールまたは代替ツールとして使用することが出来ます。

溶接のアークや炎の光の中を可視化する溶接可視化システム

一般的な動的光散乱法とは異なり、光源とセンサを2つずつ用いる「クロスコリレーション法」を採用しています。そのため、高濃度な試料でも多重散乱の影響を排除した正確な測定が可能です。（測定範囲 0.5 nm～10 μm）