微細造形 一覧

インプリント・モールド

日本レーザー

3Dから高アスぺクト比形状まで対応

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高出力フェムト秒レーザー Jasper XO ガラスのレーザー切断

Fluence Technology
[新商品]

高出力のフェムト秒ファイバレーザー。ステントおよび医療機器製造、ガラス切断、半導体・OLED製造、太陽電池製造も最適。最大出力10W、20W、30W、60W、をラインナップ。長期安定性とハンズフリーオペレーションを実現。SESAMフリー技術により堅牢に優れたレーザーです。過酷な環境下でも使用いただけます。

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電動直進ステージ(自動直進ステージ)

Newport

直接駆動超精密ステージからピエゾモータ直進ステージまで、200モデル以上を展開

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マイクロレンズアレイ・DOE試作用 3D光造形装置 Quantum X

Nanoscribe

世界初、マスクレス微細加工のための2光子グレースケール・リソグラフィシステム。屈折型、回折型マイクロ光学素子製造のための最先端装置。

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コンパクト Nd:YAG レザー MWピーク出力 “CP410シリーズ & CP420シリーズ”

Canlas

固体ダイオード励起Qスイッチレーザー。短パルス、コンパクトで微細レーザー加工に最適。ピーク出力はMW。1064 nm 532 nm 355 nmに対応

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アクティブオプティクス(ビーム制御素子)

Optotune

Optotuneでは革新的な光制御コンポーネントを提供しています:フォーカスチューナブルレンズ(焦点可変レンズ)、高速ステアリングミラー、レーザースペックルリデューサー&ビームホモジナイザ、ビームシフトデバイス。

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UV/熱/複合ナノインプリント装置 RubiQ™

SCIVAX

ナノインプリントにおける樹脂硬化方式/プレス⽅式/加圧方式の組み合わせを選択可能。かつレトロフィットを可能にしたR&D専用装置。ナノインプリント・プロセス応用を伴う研究開発を加速します。

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簡易型レーザークリーニング装置

TRUMPF

ナノ秒パルスファイバーレーザー使用 高速&高品質 表面クリーニングを実現。100W or 200W出力モデル。コーティング除去、サビ取り、塗装の剥離に活用いただけます。

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厚膜ポジティブ/ネガティブ・トーン・フォトレジスト

micro resist technology

400nm近傍の波長に感度を有する厚膜フォトレジスト。マスクレス・リソグラフィのアプリケーションを拡げます

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レーザー微細加工 高出力フェムト秒ファイバレーザー Jasper Flex

Fluence Technology
[新商品]

オールファイバの高出力フェムト秒ファイバレーザーです。ポリマ切断、レーザー微細加工、表面構造化、集積フォトニクス機器、ディスプレイ製造、民生用電子向けのアプリケーションに最適です。SESAMフリー発振器で40Gの振動でも動作可能。

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レーザパワーメータ, エネルギーメータ(ディスプレイ)

Ophir

オフィール社の豊富なセンサに対応するディスプレイまたはコンピュータインターフェース。業界最高の校正精度、高性能、優れた操作性。使い勝手抜群のユーザーフレンドリーなレーザパワー/エネルギ測定用ソフトウェア。サンプルコマンド公開により、COMオブジェクトやLabVIEWなどユーザーが自由かつ容易にプログラミング可能。

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フォトディテクタ

Coherent (旧 Electro-Optics Technology)

フォトディテクタを豊富にラインアップ。高速変調CWレーザー、Q-スイッチレーザー、モードロックレーザーの強度・パルス波形のモニタリングに最適。組込み用途にも幅広い実績。

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クラス最速・最高精度 3Dプリンタ 光造形装置 Quantum X Shape

Nanoscribe

Quantum X shapeは、2光子重合(2PP)をベースに独自のプリンティングテクノロジーを組み合わせた、多用途での活用が可能な3Dプリンタです。あらゆる2.5D/3D形状での、サブミクロン精度と高い正確性でのラピッドプロトタイピング可能。またウェハースケールのバッチ生産に最適なツールとなっています。

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Opto-Mechanics製品

Newport

ニューポートの光学マウントは、他社には無い高い安定性を持ち、多種多様のモデルを数多く揃えています。ニューポート社製 Opto-Mechanics製品の詳細は、専用サイトをご参照下さい。

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