400nm近傍の波長に感度を有する厚膜フォトレジスト。マスクレス・リソグラフィのアプリケーションを拡げます

3Dから高アスぺクト比形状まで対応

世界最高精細の光造形装置。迅速かつ超精密の微細加工を実現。

世界初、マスクレス微細加工のための2光子グレースケール・リソグラフィシステム。屈折型、回折型マイクロ光学素子製造のための最先端装置。

ナノインプリントにおける樹脂硬化方式/プレス⽅式/加圧方式の組み合わせを選択可能。かつレトロフィットを可能にしたR&D専用装置。ナノインプリント・プロセス応用を伴う研究開発を加速します。

高品質なマイクロ構造を高速かつ安定的に作製できます。シリコーン樹脂製のマイクロ流路、スタンプ、光学部品の試作に最適です。