加工・製造 一覧

ピコ秒レーザーマーキングシステム

Photon Energy
[オススメ]

レーザーマーキング・コンプリートシステム。光源、光学系、機械系コンポーネント、ソフトウェア含む。比類のない高い柔軟性と直感的な操作性。独立型デバイスでも組込み用にも提供可能。

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小型Qスイッチ固体レーザー Q-switchedシリーズ

CrystaLaser

超コンパクト・多彩な波長・高出力・高安定性・高信頼性。CrystaLaser社のベストセラー製品。260-1444nm。最大出力1mJ。100kHz, 5-200nsパルス

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マイクロレンズアレイ・DOE試作用 3D光造形装置 Quantum X

Nanoscribe
[新商品]

世界初、マスクレス微細加工のための2光子グレースケール・リソグラフィシステム。屈折型、回折型マイクロ光学素子製造のための最先端装置。

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最先端 フラッシュランプ励起 ナノ秒 YAGレーザー&ガラスレーザー

Amplitude Technologies

高度な要求に応える、特別かつ無二のナノ秒パルス・レーザーソリューション。
Premiumlite-YAG YAGレーザー:>75 J @1064 nm, >55 J @532 nm、繰返し周波数 10 Hz
Premiumlite-Glass ガラスレーザー:>250 J @1053 nm, >200 J @527 nm、繰返し周波数 0.1 Hz

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3軸ガルバノスキャナ

RAYLASE

2次元のXY偏向ユニットにZ軸を追加し、3次元加工に対応した3D偏向ユニットです。小スポット径で最大2,000 mm x 2,000 mmもの広いスキャンエリアを処理できます。

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高速ラインスキャンエンジン LSE170/LSE300

Next Scan Technology

テレセントリックf-θ光学系、高スループットのレーザー材料加工を実現

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1000W出力 ピコ秒レーザー Amphos5000シリーズ

AMPHOS

ピコ秒パルス、キロワット出力で、OPCPAポンピングやレーザー加工に好適。最大パルスエネルギー20 mJ。最大出力パワー1000 W。

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400W出力 ピコ秒レーザー Amphos3000シリーズ

AMPHOS

最大出力パワー 400W。最大パルスエネルギー 15mJ。OPCPAポンピングや材料加工に好適。

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フェムト秒ファイバー伝送モジュール Fiber

Amplitude Systemes

中空コアファイバー技術で、分散と非線形の影響を抑えた超短パルスレーザー。ファイバー長 1,2,5m(要相談)、波長 1030nm。

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破片粒子低減 レーザー切断装置 LMTS IR duo

Laser-Mikrotechnologie Dr. Kieburg

破片粒子の少ないレーザー切断を実現。リチウムイオン電池の電極加工に好適。

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最大150μJ出力 高機能フェムト秒/ピコ秒レーザー Satsuma

Amplitude Systemes

革新的なファイバアンプ技術によるコンパクト、ハイパワー、高エネルギー、高繰り返しのフェムト秒/ピコ秒ファイバレーザー。パルス幅は最短 350 fs – 10 ps、繰返し周波数 single shot to 40MHz、最大平均出力 50W、最大パルスエネルギー 150 µJ

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高出力・高繰返し Qスイッチ半導体励起固体レーザー“CL-210シリーズ”

Canlas

レーザー加工に適した短パルスレーザー。
3波長ラインナップ(1064, 532, 355 nm)。最高20W出力。繰返し 1-100kHz。最小パルス幅 20ns

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50W出力 Qスイッチ半導体励起固体レーザー“CL-240シリーズ”

Canlas

50W, 1064nm出力(532 nm開発中)
パルス毎パルスエネルギー変調可能。繰返し20-200kHz。パルス幅 10-150 ns。

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パルスファイバレーザー ”TruPulse”

TRUMPF (旧SPI Lasers)
[オススメ]

高い柔軟性&高速。種々のマーキングやパルス微細加工に最適なナノ秒パルスファイバレーザー

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UV/熱/複合ナノインプリント装置 RubiQ™

SCIVAX

ナノインプリントにおける樹脂硬化方式/プレス⽅式/加圧方式の組み合わせを選択可能。かつレトロフィットを可能にしたR&D専用装置。ナノインプリント・プロセス応用を伴う研究開発を加速します。

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NKT Photonics社 産業用途ピコ秒/フェムト秒レーザー

NKT Photonics

NKT Photonics社では産業用途向け光源として、パルス幅はピコ秒からフェムト秒、また最大出力パワー 40W(ピコ秒) までのさまざまなウルトラファーストレーザーを製造しています。繰返し周波数は、可変と固定、またシングルショットパルスやバーストモードを選択でき、アプリケーションに最適な超高速レーザーを提供いたします。多彩な標準モデルだけでなく、OEMにも対応いたします。 お気軽にお問合せください。

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最大250μJ出力 高機能フェムト秒/ピコ秒レーザー Tangerine

Amplitude Systemes

革新的なファイバアンプ技術によるコンパクト、ハイパワー、高エネルギー、高繰り返しのフェムト秒/ピコ秒ファイバレーザー。パルス幅 <350 fs to >10 ps または最短 150 fs まで、繰返し周波数 single shot to 40MHz、最大平均出力 50W、最大パルスエネルギー 250 µJ。

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高ピークパワー Qスイッチ半導体励起固体レーザー“CP-600シリーズ”

Canlas

高ピークパワー 750μJ @10kHz(1064nm), 300μJ @10kHz(532nm)。パルス幅 約4ns

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低価格 Qスイッチ半導体励起固体レーザー“CL-100シリーズ”

Canlas

レーザー微細加工に適した低価格な高繰返しナノ秒パルスレーザー。2波長ラインナップ(1064, 532 nm)。最高3W出力。繰返し 1-100kHz。最小パルス幅 15ns

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小型CWレーザー“Directシリーズ&Crystalシリーズ”

CrystaLaser

非常に多彩な波長ラインナップ・単一周波数モデル・低ノイズモデルなど幅広いタイプの半導体レーザー&DPSSレーザー。375~1444nm。最大出力2500mW。

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PIV 非コヒーレント・マルチ・パルス・レーザー“FireFly300W”

Oxford Lasers

境界層や壁面流、噴霧の可視化 / PIVに適した非コヒーレント光特性のレーザーです。鏡面やメタルの反射が低く、金属面などの照明に最適です。
最大50 kHzの繰り返しが出来るパルス発振により、ハイスピードカメラの撮影コマ数に関係なく一定の明るさで撮影が可能です。

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インプリント・モールド

日本レーザー

3Dから高アスぺクト比形状まで対応

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マイクロドリリングシステム“ProbeDrill 355”

Oxford Lasers

高速・微細な多穴加工(円および四角形状)

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OEMレーザーマーカー

Photon Energy

レーザーマーキングシステムへの搭載用レーザーマーカー。独立型&コンプリートシステムで他のアセンブリラインや特殊マシンへの組み込みにも最適。

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