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加工・製造
2軸ガルバノスキャナ
レーザービームを2次元で偏向・集光するXY偏向ユニットです。小～中規模程度の加工エリアで、高速処理が必要なさまざまなアプリケーションに好適です。
材料プロセス用 ピコ秒レーザー CEPHEUS
ピコ秒レーザー加工、OEM組込みに最適なモードロック・ダイオード励起Nd:YVO4レーザー。透明材料を含む多彩な素材の非熱加工や、高繰り返し周波数、ピコ秒パルスによる高速加工、精密加工に最適。SHG, THG可。最大平均出力50W、最大繰返し1MHz、パルス幅15ps、最大パルスエネルギー300 μJ
高繰返し Qスイッチ半導体励起固体レーザー“CP-400シリーズ”
高繰返し 最大4000Hz。３波長ラインナップ（1064, 532, 355 nm）。最大出力 4W＠4kHz。パルス幅8-10ns
50W出力 Qスイッチ半導体励起固体レーザー“CL-240シリーズ”
50W, 1064nm出力（532 nm開発中）
パルス毎パルスエネルギー変調可能。繰返し20-200kHz。パルス幅 10-150 ns。
1000W出力 ピコ秒レーザー Amphos5000シリーズ
ピコ秒パルス、キロワット出力で、OPCPAポンピングやレーザー加工に好適。最大パルスエネルギー20 mJ。最大出力パワー1000 W。
高出力・高繰返し Qスイッチ半導体励起固体レーザー“CL-210シリーズ”
レーザー加工に適した短パルスレーザー。
３波長ラインナップ（1064, 532, 355 nm）。最高20W出力。繰返し 1-100kHz。最小パルス幅 20ns
最大40 μJ出力 高機能フェムト秒レーザー Satsuma Niji
平均出力パワー:最大20W、4波長同時出力、フルカスタマイズ、波長域:257nmから最大4000nm(選択)、繰り返し周波数:2 MHz
3軸ガルバノスキャナ
2次元のXY偏向ユニットにZ軸を追加し、3次元加工に対応した3D偏向ユニットです。小スポット径で最大2,000 mm x 2,000 mmもの広いスキャンエリアを処理できます。
PIV 非コヒーレント・マルチ・パルス・レーザー“FireFly300W”
境界層や壁面流、噴霧の可視化 / PIVに適した非コリーレント光特性のレーザーです。鏡面やメタルの反射が低く、金属面などの照明に最適です。
最大50 kHzの繰り返しが出来るパルス発振により、ハイスピードカメラの撮影コマ数に関係なく一定の明るさで撮影が可能です。
最先端 フラッシュランプ励起 ナノ秒 YAGレーザー＆ガラスレーザー
高度な要求に応える、特別かつ無二のナノ秒パルス・レーザーソリューション。
Premiumlite-YAG YAGレーザー：>75 J ＠1064 nm, >55 J ＠532 nm、繰返し周波数 10 Hz
Premiumlite-Glass ガラスレーザー：>250 J ＠1053 nm, >200 J ＠527 nm、繰返し周波数 0.1 Hz
マイクロレンズアレイ・DOE試作用 3D光造形装置 Quantum X
世界初、マスクレス微細加工のための2光子グレースケール・リソグラフィシステム。屈折型、回折型マイクロ光学素子製造のための最先端装置。
ピコ秒レーザーマーキングシステム
レーザーマーキング・コンプリートシステム。光源、光学系、機械系コンポーネント、ソフトウェア含む。比類のない高い柔軟性と直感的な操作性。独立型デバイスでも組込み用にも提供可能。
高出力/縦単一周波数 CWレーザー“BrixXシリーズ”
高出力（BrixX HP）または縦単一周波数（BrixX NB）モデル。375～2080nmの範囲で多彩な波長ラインナップ、最大出力5W
小型CWレーザー“Directシリーズ＆Crystalシリーズ”
非常に多彩な波長ラインナップ・単一周波数モデル・低ノイズモデルなど幅広いタイプの半導体レーザー＆DPSSレーザー。375～1444nm。最大出力2500mW。
200mW出力 ピコ秒レーザー Amphos1000シリーズ
出力パワー200 mW。最大パルスエネルギー 2μJ。ナノ秒～ピコ秒パルスを出力。Yb:YAGのシード光や顕微鏡用途に好適。
高速ラインスキャンエンジン LSE170/LSE300
テレセントリックf-θ光学系、高スループットのレーザー材料加工を実現
OEMレーザーマーカー
レーザーマーキングシステムへの搭載用レーザーマーカー。独立型＆コンプリートシステムで他のアセンブリラインや特殊マシンへの組み込みにも最適。
レーザークリーニング装置
100W程度の中出力タイプから最大1600Wの高出力まで、複数のモデルをラインナップ。目的に応じて最適なソリューションをご提案します。
100μJ出力 高機能フェムト秒レーザー Yuja
多機能で超コンパクトな 100μJ, 10W 出力のフェムト秒レーザー。繰返し周波数 single shot to 40MHz。
最大500μJ出力 高機能フェムト秒/ピコ秒レーザー Tangor
革新的なファイバアンプ技術によるコンパクト、ハイパワー、高エネルギー、高繰り返しのフェムト秒/ピコ秒ファイバレーザー。パルス幅 最短 500 fs – 10 ps、繰返し周波数 single shot to 40MHz、最大平均出力 100W、最大パルスエネルギー 500 µJ。
最大150μJ出力 高機能フェムト秒/ピコ秒レーザー Satsuma
革新的なファイバアンプ技術によるコンパクト、ハイパワー、高エネルギー、高繰り返しのフェムト秒/ピコ秒ファイバレーザー。パルス幅は最短 350 fs – 10 ps、繰返し周波数 single shot to 40MHz、最大平均出力 50W、最大パルスエネルギー 150 µJ
NKT Photonics社 産業用途ピコ秒/フェムト秒レーザー
NKT Photonics社では産業用途向け光源として、パルス幅はピコ秒からフェムト秒、また最大出力パワー 40W（ピコ秒） までのさまざまなウルトラファーストレーザーを製造しています。繰返し周波数は、可変と固定、またシングルショットパルスやバーストモードを選択でき、アプリケーションに最適な超高速レーザーを提供いたします。多彩な標準モデルだけでなく、OEMにも対応いたします。 お気軽にお問合せください。
低価格 Qスイッチ半導体励起固体レーザー“CL-100シリーズ”
レーザー微細加工に適した低価格な高繰返しナノ秒パルスレーザー。２波長ラインナップ（1064, 532 nm）。最高3W出力。繰返し 1-100kHz。最小パルス幅 15ns
材料プロセス用 ナノ秒DPSSレーザー
ナノ秒レーザー加工、OEM組込みに最適。金属、プラスチック、セラミック、ガラスなど多彩な素材に適用できる高い平均出力：最大200W。1064 nm or 532 nm。繰り返し 1-100 kHz, CW
Qスイッチ半導体励起固体レーザー“CL-200シリーズ”
コンパクト・高い安定性・高繰返し。３波長ラインナップ（1064, 532, 355 nm）。最高12W出力。繰返し 1-100kHz。最小パルス幅 20ns
