コンパクト・高い安定性・高繰返し。３波長ラインナップ（1064, 532, 355 nm）。最高12W出力。繰返し 1-100kHz。最小パルス幅 20ns

ピコ秒パルス、キロワット出力で、OPCPAポンピングやレーザー加工に好適。最大パルスエネルギー20 mJ。最大出力パワー1000 W。

400nm近傍の波長に感度を有する厚膜フォトレジスト。マスクレス・リソグラフィのアプリケーションを拡げます

溶接のアークや炎の光の中を可視化する溶接可視化システム

最大出力パワー 300W。ピコ秒パルス 0.9-10ps。微細加工に好適。

高スループットの産業用途システム。サーマルプロセス用途に最適。波長 808nm、出力パワー 100～400W

レーザーマーキング・コンプリートシステム。光源、光学系、機械系コンポーネント、ソフトウェア含む。比類のない高い柔軟性と直感的な操作性。独立型デバイスでも組込み用にも提供可能。

OLEDディスプレイ加工に最適。出力パワー 15W/30W、パルス幅500fs、波長343nm、パルスエネルギー最大80 μJ。

レーザー微細加工に適した低価格な高繰返しナノ秒パルスレーザー。２波長ラインナップ（1064, 532 nm）。最高3W出力。繰返し 1-100kHz。最小パルス幅 15ns

高ピークパワー　750μJ @10kHz(1064nm), 300μJ @10kHz(532nm)。パルス幅 約4ns

破片粒子の少ないレーザー切断を実現。リチウムイオン電池の電極加工に好適。

多機能で超コンパクトな 100μJ, 10W 出力のフェムト秒レーザー。繰返し周波数 single shot to 40MHz。

高品質なマイクロ構造を高速かつ安定的に作製できます。シリコーン樹脂製のマイクロ流路、スタンプ、光学部品の試作に最適です。

レーザーマーキングシステムへの搭載用レーザーマーカー。独立型＆コンプリートシステムで他のアセンブリラインや特殊マシンへの組み込みにも最適。

高輝度＆高出力で、切断・溶接など幅広い材料プロセスに応用可能。波長 900～990nm, 出力パワー 最大 600W

50W, 1064nm出力（532 nm開発中）
パルス毎パルスエネルギー変調可能。繰返し20-200kHz。パルス幅 10-150 ns。

顧客の要求に沿った最先端レーザー加工システム。1064, 532, 355 nm 発振ナノ秒 DPSSレーザー使用

3Dから高アスぺクト比形状まで対応

最大1000W、mJエネルギー出力。繰返し 最高100MHz。フェムト秒～ピコ秒パルスのコンパクト、堅牢、高安定性なターンキーシステム

狭線幅＆低ノイズ。DFBレーザーベースの縦モードシングル 単一周波数レーザー。755-780nm, 1μm/1.5μm帯。10mW-15W出力。多彩モデルラインナップ。
ハイパワーSHG出力（755-780nm）モデル Koheras HARMONIKは、量子センシング、レーザー冷却＆原子トラップに最適。

境界層や壁面流、噴霧の可視化 / PIVに適した非コリーレント光特性のレーザーです。鏡面やメタルの反射が低く、金属面などの照明に最適です。
最大50 kHzの繰り返しが出来るパルス発振により、ハイスピードカメラの撮影コマ数に関係なく一定の明るさで撮影が可能です。

高繰返し 最大4000Hz。３波長ラインナップ（1064, 532, 355 nm）。最大出力 4W＠4kHz。パルス幅8-10ns

革新的なファイバアンプ技術によるコンパクト、ハイパワー、高エネルギー、高繰り返しのフェムト秒/ピコ秒ファイバレーザー。パルス幅 最短 500 fs – 10 ps、繰返し周波数 single shot to 40MHz、最大平均出力 100W、最大パルスエネルギー 500 µJ。

最大５波長のDPSS / LDレーザーモジュール（375～808 nm）をコンパクトパッケージに格納。1波長当り最大2500mW