顧客の要求に沿った最先端レーザー加工システム。1064, 532, 355 nm 発振ナノ秒 DPSSレーザー使用

2次元のXY偏向ユニットにZ軸を追加し、3次元加工に対応した3D偏向ユニットです。小スポット径で最大2,000 mm x 2,000 mmもの広いスキャンエリアを処理できます。

超コンパクト・多彩な波長・高出力・高安定性・高信頼性。CrystaLaser社のベストセラー製品。260-1444nm。最大出力1mJ。100kHz, 5-200nsパルス

中空コアファイバー技術で、分散と非線形の影響を抑えた超短パルスレーザー。ファイバー長 1,2,5m(要相談)、波長 1030nm。

高い出力とコントロール性で、最適なレーザー切断／溶接を実現

平均出力パワー:最大20W、4波長同時出力、フルカスタマイズ、波長域:257nmから最大4000nm(選択)、繰り返し周波数:2 MHz

革新的なファイバアンプ技術によるコンパクト、ハイパワー、高エネルギー、高繰り返しのフェムト秒/ピコ秒ファイバレーザー。パルス幅 <350 fs to >10 ps または最短 150 fs まで、繰返し周波数 single shot to 40MHz、最大平均出力 50W、最大パルスエネルギー 250 µJ。

多機能で超コンパクトな 100μJ, 10W 出力のフェムト秒レーザー。繰返し周波数 single shot to 40MHz。

テレセントリックf-θ光学系、高スループットのレーザー材料加工を実現

最大５波長のDPSS / LDレーザーモジュール（375～808 nm）をコンパクトパッケージに格納。1波長当り最大2500mW

50W, 1064nm出力（532 nm開発中）
パルス毎パルスエネルギー変調可能。繰返し20-200kHz。パルス幅 10-150 ns。

ナノ秒レーザー加工、OEM組込みに最適。金属、プラスチック、セラミック、ガラスなど多彩な素材に適用できる高い平均出力：最大200W。1064 nm or 532 nm。繰り返し 1-100 kHz, CW

最大出力パワー 400W。最大パルスエネルギー 15mJ。OPCPAポンピングや材料加工に好適。

レーザー加工に適した短パルスレーザー。
３波長ラインナップ（1064, 532, 355 nm）。最高20W出力。繰返し 1-100kHz。最小パルス幅 20ns

出力パワー200 mW。最大パルスエネルギー 2μJ。ナノ秒～ピコ秒パルスを出力。Yb:YAGのシード光や顕微鏡用途に好適。

世界初、マスクレス微細加工のための2光子グレースケール・リソグラフィシステム。屈折型、回折型マイクロ光学素子製造のための最先端装置。

幅広い要求事項に柔軟に対応する、信頼性、品質、カスタマイズ性に優れたレーザー加工ヘッド

NKT Photonics社では産業用途向け光源として、パルス幅はピコ秒からフェムト秒、また最大出力パワー ４０ W（ピコ秒） までのさまざまなウルトラファーストレーザーを製造しています。繰返し周波数は、可変と固定、またシングルショットパルスやバーストモードを選択でき、アプリケーションに最適な超高速レーザーを提供いたします。
多彩な標準モデルだけでなく、OEMにも対応いたします。 お気軽にお問合せください。

3Dから高アスぺクト比形状まで対応

革新的なファイバアンプ技術によるコンパクト、ハイパワー、高エネルギー、高繰り返しのフェムト秒/ピコ秒ファイバレーザー。パルス幅 最短 500 fs – 10 ps、繰返し周波数 single shot to 40MHz、最大平均出力 100W、最大パルスエネルギー 500 µJ。

高品質なマイクロ構造を高速かつ安定的に作製できます。シリコーン樹脂製のマイクロ流路、スタンプ、光学部品の試作に最適です。

破片粒子の少ないレーザー切断を実現。リチウムイオン電池の電極加工に好適。

高速・微細な多穴加工（円および四角形状）

100W程度の中出力タイプから最大1600Wの高出力まで、複数のモデルをラインナップ。目的に応じて最適なソリューションをご提案します。