検査・解析装置
日本レーザーでは、レーザー分光分析装置、ラマン/蛍光イメージングシステム、波長可変レーザーを活用した光学材料分析装置など、研究・開発用途での高度な分析を実現する製品を取り揃えています。物性評価、材料解析、微細構造の可視化など、光を用いた定量・定性分析のニーズに応えるトータルソリューションをご提供いたします。

検査・解析装置 製品一覧
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Elemental Scientific Lasers (ESL)レーザーアブレーション装置(LA-ICP-MS/LA-IRMS)ICP-MSや同位体比質量分析計(IRMS)と組み合わせて、固体試料を直接分析するESL社のレーザーアブレーション装置です。193nmエキシマ、213nm/266nm固体、フェムト秒、CO2レーザーの各モデルがあり、元素分析、同位体比分析、バイオ・地球化学イメージングまで用途に合わせて選べます。
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Elemental Scientific Lasers (ESL)元素イメージングシステム(LA-ICP-MS/LIBS)固体試料の元素分布を高速・高分解能でマッピングする、ESL社の元素イメージングシステムです。LA-ICP-MS用のimageBIO266/imageGEO193と、LIBS(レーザー誘起ブレークダウン分光)による大型試料のイメージングシステムやLIBS拡張モジュールをラインアップしています。
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Elemental Scientific Lasers (ESL)マイクロミリング装置 MicroMill2(同位体分析用マイクロサンプリング)固体試料をサブミクロン精度でミリング(切削)し、化学分析・同位体分析用の粉末試料を回収するESL社のマイクロサンプリング装置です。貝殻、鍾乳石、耳石、骨などの成長縞や結晶の累帯構造を、リアルタイム映像を見ながら高分解能でサンプリングできます。
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Elemental Scientific Lasers (ESL)固体試料自動分析システム(LA-ICP-MS オートメーション)固体試料を酸分解せずに直接ICP-MSで分析し、試料の搬送から分析、データ出力までを自動化するシステムです。1日最大1,000試料の処理、24時間連続の自動運転、バーコードによる試料管理に対応しています。
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Elemental Scientific Lasers (ESL)LA-ICP-MSソフトウェア(装置制御・データ処理)レーザーアブレーションICP-MS(LA-ICP-MS)の実験計画から装置制御、データ処理までをつなぐ、ESL社のソフトウェア群です。装置制御のActiveView2、データ処理のiolite 4、粒子の自動認識で実験を設計するiolite Targeting、イメージング結果を事前に予測するPrecognitionをラインアップしています。
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Elemental Scientific Lasers (ESL)LA-ICP-MSアクセサリー(アブレーションセル・試料導入・校正)ESL社のレーザーアブレーション装置用アクセサリーです。高速イメージング用アブレーションセルのTwoVol3/TwoVol2、試料を冷やすCryoCell、超高真空セル、試料輸送を高速化するDCI、シグナルスムーザー、エアロゾルを分流するECHO、自動エネルギー校正のAutoCalなどがあります。
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新商品ETSCマイクロデバイスOCI-V/OLI/OCI 光ベクトル解析・光リンク診断システムシリコンフォトニクス・光デバイス向けの高精度光計測装置シリーズ。光ベクトル解析による損失・分散・偏波測定から、μm精度の光リンク診断・断点検出まで、研究開発から製造検査までを高速・高精度にサポートします。
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新商品PicoQuant時間分解フォトルミネッセンス(TRPL)顕微鏡 SoliraSoliraは、複数の測定手法を1台に統合したフレキシブルな時間分解フォトルミネッセンス(TRPL)顕微鏡です。特に半導体・ナノ材料・太陽電池・LEDなどの材料の評価に最適です。TRPLイメージング、キャリア拡散、単一エミッター測定を1台に統合し、材料特性評価をシンプルにします。355 nmから1064 nmまでの波長域をカバー。最大12検出チャネル。
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新商品ETSCマイクロデバイスフォトニックデバイス向け 自動光学検査装置(AOI)シリコンフォトニクスやフォトニック集積回路(PIC)デバイスの欠陥を高精度に検出する自動光学検査(AOI)システム。機械学習アルゴリズムを活用し、ウェーハおよびチップレベルでのフォトニックデバイス検査を自動化します。
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NIREOS可視光-短波長赤外線 ハイパースペクトルカメラ HERA VIS-SWIRHERA VIS-SWIRは、超広帯域スペクトル範囲(400-1700nm)で130万画素のハイパースペクトル画像を撮影可能。可視光域と短波長赤外線の近赤外域の情報を同時に測定し、組み合わせることができます。
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新商品LIG Nanowise100nm以下分解能 超解像マイクロスフィア増幅対物レンズ SMAL超解像マイクロスフィア増幅レンズ SMAL(Super-resolution Microsphere Amplifying Lens ) 。≦100nm分解能を実現。世界トップレベルの光学分解能を持つ最先端の材料検査用の対物レンズです。非接触・非破壊で半導体製造工程でのシリコンウエハの検査等にご使用いただけます。
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NIREOSTRICLOPS|400–4500 nm 超広帯域フーリエ変換型分光器NIREOSの分光器「TRICLOPS」は、400~4500 nmの超広帯域に対応するコンパクトなフーリエ変換型分光器です。時間領域フーリエ変換方式を採用し、VIS-NIR-SWIR-MIRの幅広い波長域で、光源の発光スペクトルや材料の吸収・透過・反射スペクトルを測定できます。光源評価や材料分析をはじめ、半導体、光学材料、フィルム、食品、繊維など幅広い分野でご利用いただけます。
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新商品LIG Nanowiseマイクロスフィア式超解像分解能光学顕微鏡 ≦100nm分解能 NANORO M超解像光学顕微鏡です。回折限界を超えて観察ができます100nm以下の空間分解能で、ナノスケールの構造を非破壊・フルカラーで観察できます。半導体研究開発および先端材料イメージング、またはSEMやAFMの代わりとしてご使用いただけます。対物レンズのみでの販売も可能です。(対物レンズ製品ページリンク 下記)
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新商品CSInstrumentsハイエンドAFM Nano-Observer II ナノオブザーバーIINano-Observer IIは、高いスキャナー性能を持つハイエンドAFMです。老舗AFMメーカーのハイエンド品質とコストパフォーマンスを両立し、新開発のGalaxy USB 24ビット低ノイズコントローラーを核として、電気特性測定(HD-KFM、ResiScope™、C-AFM)、電動ステージによる自動化、EZ TEMP温度制御(-40°C~+450°C)などの機能を利用可能です。 使いやすさを追求した汎用機であり、AFM初心者の方からエキスパートまで、最先端のAFM測定技術をご活用いただけます。
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PicoQuantマルチモーダルイメージング マイクロフォトルミネッセンス アップグレード特定の領域や関心点の高分解能定常発光スペクトルと時間分解発光スペクトルの両方を取得することが可能。空間、スペクトル、寿命測定を一体化した時間分解マイクロフォトルミネッセンス分光のイメージング装置です。
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PicoQuant小型直立型広視野フォトルミネッセンス 蛍光発光 顕微鏡 FluoMic小型広視野のフォトルミネッセンス(蛍光発光)顕微鏡。psのタイミング分解能で数psから数msの寿命検出範囲。375~1060nmの励起波長を選択可能。半導体ウェハのテストと分析、太陽電池材料とペロブスカイトの研究、ディスプレイ、LEDの材料との特性評価に最適です。
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OptoFidelityAR/XRグラス 画質測定&テストステーション SCOUTOptoFidelity社のSCOUT は、さまざまなAR/XRグラスとサブアセンブリのための、多目的なイメージングおよびテストステーションです。テスト対象デバイス(DUT)の画質を包括的に評価し、アイボックス、視野(FOV)、両眼視差、コントラスト比、色、均一性、幾何学的歪みといったさまざまな要素を測定します。
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Molecular Vista12インチ 300 mm サンプル対応 AFM-IR装置 PiFM / PiF-IR Vista300サンプルは12インチ 300 mm × 300 mm まで対応のAFM。ナノ加工における研究開発および故障解析に最適な最先端の ナノ化学測定装置。業界トップクラスの自動化を実現したAFMです。
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OptoFidelityAR/VR/MRグラス 性能テストシステム BUDDYAR/VR/MRグラスのトラッキングとレイテンシの一貫した検査が可能で、仮想世界の位置がロボットの位置によってどのように変化するかを、非接触で測定します。トラッキングと時間特性に影響を与えるコンポーネントやアセンブリをテストできます。
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保護中: 回折格子&薄膜 微細寸法計測装置ナノ構造の幾何学的パラメータの変位や光学特性の変化を、製造中に非接触かつ非破壊で判定します。フォトニクス、半導体、量子技術のためのグレーティングや薄膜の品質検査に好適です。



















