超音波減衰式粒度分布測定装置 OPUS

一般的な光学的手法では測定が困難な高濃度・高粘度の試料を、希釈することなく、インラインまたはオンラインで測定できます。ミリング、結晶化、重合、沈降、乳化などのプロセスを、リアルタイムに管理する用途に最適です。（測定粒子サイズ 1～3000 µm）

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概要
応用例
主な仕様

一般的な光学的手法では測定が困難な高濃度・高粘度の試料を、希釈することなく、インラインまたはオンラインで測定できます。ミリング、結晶化、重合、沈降、乳化などのプロセスを、リアルタイムに管理する用途に最適です。

原理

分散液で満たされたチャンバー内に、超音波発振器（ピエゾ素子）で超音波を作用させます。超音波は分散液中の粒子によって減衰し、対面のトランスデューサで検出されます。発振器と検出器における信号の振幅が比較され、超音波の減衰率が算出されます。これを31種類の周波数で行うことで、超音波減衰スペクトルが得られます。予め設定した試料の音響特性に基づいて、そのスペクトルから粒度分布に変換します。

特長

光学的な手法を用いないため、濃度70%（体積分率）の懸濁液でも測定可能です。

広範囲の圧力・温度・pHで使用可能なだけでなく、防爆にも対応しています。さらに、自動クリーニング機能により、プロセスを中断せずに、検査・メンテナンスが行えます。
専用フランジアダプタを用いることで、ほぼ全種類のプロセスパイプやベッセルに適合します。また、プローブ長は330～3500 mmで自由に調整できるため、様々な経路に設置できます。

粉砕工程のリアルタイムモニタリング

粒度分布の特性値（x10, x50, x90）の時間変化を測定することで、工程の進捗率をリアルタイムに追跡できます。工程の終点を定量的に管理できるため、工程能力が向上し、製品の品質を改善できます。

連続晶析工程のリアルタイムモニタリング

左図のうち、終盤の x90 値の急激な上昇は、この工程の異常を示しています。OPUSは1分未満の測定間隔で連続的に測定するため、工程内の急峻な変動にも追従できます。そのため、工程異常を瞬時かつ正確に判別できます。

乳化工程のリアルタイムモニタ

広い濃度範囲で測定可能なOPUSなら、乳化時の濃度変動にも影響されません。異なる乳化条件で作製した液滴の粒度分布の変化も、左図のように安定して測定できます。

測定部寸法	直径 89 mm,　長さ 330～3500 mm
測定範囲	1～3000 µm
測定濃度	1～70%（体積分率）
測定時間	1分未満
環境	温度 0～120℃（標準）、0～150℃（オプション）圧力 0～40bar pH 1～14 防爆対応（オプション）