S neox Five Axis 光学式3次元測定装置は、高精度回転ステージモジュールと、S neox 3D測定顕微鏡の高度な検査および解析機能を組み合わせています。これにより、指定された位置・角度で自動的に3D表面形状測定を行い、完全な3D形状計測が可能になります。

境界層や壁面流、噴霧の可視化 / PIVに適した非コリーレント光特性のレーザーです。鏡面やメタルの反射が低く、金属面などの照明に最適です。
最大50 kHzの繰り返しが出来るパルス発振により、ハイスピードカメラの撮影コマ数に関係なく一定の明るさで撮影が可能です。

最大６波長、市場で最高クラスの最大1W高出力LED光源。LEDチップのアクティブ温度コントロールと高安定性電流源で高安定性＆高再現性の出力を保証。

一般的な動的光散乱法とは異なり、光源とセンサを2つずつ用いる「クロスコリレーション法」を採用しています。そのため、高濃度な試料でも多重散乱の影響を排除した正確な測定が可能です。（測定範囲 0.5 nm～10 μm）

CrabiAFMは業界最低価格原子間力顕微鏡（AFM）です。リサーチ用途、ナノ教育、またはすでにAFM経験をお持ちの方のサブ機として最適です。

MR340-0 PCB コントローラは、MR340 シリーズ光ファイバ式インクリメンタルエンコーダをお客様の装置に組み込んで、コンパクトでコスト効率の良い機器を設計することを可能にします。

テレセントリックf-θ光学系、高スループットのレーザー材料加工を実現

高品質なマイクロ構造を高速かつ安定的に作製できます。マイクロ流路の試作に最適です。

ピコ秒（最小パルス幅50ps, 最高100MHz繰返し）＆CWの両発振が可能な高機能エレクトロニクス完全一体型ダイオードレーザーシステム。375～2090 nm範囲の多彩な波長ラインナップ。最大CW出力500mW、ピークパワー 最高2.5W。

パルスとCWの両レーザー対応。高速（1kHz）, 高い測定確度 (±0.2 ppm)。フィゾーエタロンベース。自動校正機能付き。

高繰返し100Hzシリーズ。410～3450nm, UVモジュール装着で210～410nmもカバー

MR381シリーズ非常アクチュエータ(E-ACTUATOR)スイッチは、従来の電気機械式ソリューションの機能を超えて、危険な環境、長距離、 EMIイミュニティが必要な場所に展開できる、革新的な緊急信号システムです。

オールインワンデザインの高エネルギー100mJ 波長チューニング出力システム。210～3450nm。繰返し 10 or 20 Hz。パルス幅 5ns。

400nm近傍の波長に感度を有する厚膜フォトレジスト。マスクレス・リソグラフィのアプリケーションを拡げます

MR380シリーズ光ファイバ式シグナリングセンサは、従来の電気機械制御が使用できない場所、特にEMI耐性が要求される場所や過酷な環境で使用されます。
MR380-1 コントローラは、MR380 ZapFREE® E-Stop、EActuator、およびその他のシグナリングセンサ製品用のアクティブな光学・電気的インターフェースです。

中心波長 1930±20 nm, バンド幅 (-20dB) >170 nm, 平均出力パワー>10 mW。広範な波長域と優れたパワー安定性。光コンポーネントの試験、分光、ガスセンシング、バイオメディカル、OCTなど幅広い用途に応用可

オンライン・インラインLIBS元素分析システム。製造ラインにおけるリアルタイム元素分析。
応用例：異材混入の防止（鉄鋼製造）PMI、製造プロセスにおけるオンライン元素モニター、ベルトコンベヤ上の各種原材料（石炭、鉱石、焼結体、塩、スラグなど）のオンライン分析

KFMや導電性AFMで非常に高いパフォーマンスを発揮するAFMです。環境制御に対応。高分解能原子間力顕微鏡

レーザー干渉を利用した厚さ測定装置。厚膜(1～500μm)測定用。小型・高速・高精度

高繰り返し周波数＆広いカバー波長域の、完全自動化オプティカル・パラメトリック・アンプ（OPA）システム。パルス幅：70～300 fs、繰返し周波数：最高 2 MHz、高い変換効率：12%以上 、波長域：210-11000 nm, 325-2500 nm

高真空・超高真空対応プローブ
低アウトガス・高安定性・非磁性対応可能

従来のAFMの半分以下の低価格ながら、高いイメージング品質を発揮します。日本初上陸の高コストパフォーマンスAFMです。

コンパクトなモジュールで優れた性能を実現
装置内への組込み専用モデル

高い測定確度 (±0.2 ppm), 高い波長分解能 (±0.0001 nm) で可視域から中赤外(MIR) 375 nm to 12 μm をカバー。マイケルソン干渉計デザイン。内蔵参照レーザーによる連続校正。