導電性プローブ：- Pt プラチナ、Cr-Au 金 コーティング, – 高分解能導電性 DPERシリーズ, – 低ノイズ導電性 DPEシリーズ

リアルタイムで質量変化と粘弾性、膜厚を分析高性能で低価格

エアー式ディスペンサでは実現不可能な細線描画、ピエゾ式インクジェットでは不可能な高粘度吐出を可能にする従来の常識を覆した高機能パターニング技術。

出力パワー 15W/30W、パルス幅500fs、波長343nm、パルスエネルギー最大80 μJ。OLEDディスプレイ加工にも好適なレーザーです。

レーザー微細加工に適した低価格な高繰返しナノ秒パルスレーザー。2波長ラインナップ（1064, 532 nm）。最高3W出力。繰返し周波数 1-100kHz。最小パルス幅 15ns

高いスキャナー性能を持つハイエンドAFMです。老舗AFMメーカのハイエンド品並みの測定品質を持ちながら価格は1000万円を切り、非常にコストパフォーマンスの高いAFMとして注目されています。通常のAFMとしての機能のほか、電気特性測定（KFM、C-AFM)などに強みがあります。

高周波(RF)・強磁場環境でも信頼性の高い温度測定が可能な蛍光式のファイバー温度計です。
熱電対や放射温度計などの従来の温度計が不向きな用途、半導体製造装置（エッチング、成膜）、FPD、バッテリー、ブスバー/バスバー、開閉器(スイッチギア)、モーター、発電機、医療向け(MRI、ハイパーサーミア)などに最適です。

優れた温度特性と高分解能を実現。制御用途でのフィードバックセンサに最適。

世界初、マスクレス微細加工のための2光子グレースケール・リソグラフィシステム。屈折型、回折型マイクロ光学素子製造のための最先端装置。

非接触・非破壊で表面の微細な3D形状、および粗さを測定・解析することができる形状計測装置です。

長寿命プローブ：- AFMプローブ HARDシリーズ,- AFMプローブ 導電性ダイヤモンドコーティング DMD-XSC11

超高速のアナログ・デジタル変調を可能な半導体レーザー　紫外375～赤外1550 nm 範囲　最大出力300 mW

テラヘルツ実験スタートに最適。高出力モデルTC2000の廉価版。最先端の量子カスケードレーザー（QCL）ベース。2～5THz。パルス（QCW）。シングル/マルチモード。出力0.1mＷ以上 at 3.2THz。窒素冷却

最大５波長のDPSS / LDレーザーモジュール（375～808 nm）をコンパクトパッケージに格納。1波長当り最大2500mW

シリコンナイトライドカンチレバー・チップのガラスホルダーチップの両側に2つ配置。用途としてソフトコンタクトモードで使われます。

特殊な金属コーティング処理した高伝導性ドープ・シリコンプローブを採用。電気力顕微鏡（EFM）や磁気力顕微鏡（MFM）など高度なAFMアプリケーション向けに最適なSPMプローブ。高い解像度と最高の導電性(感度と寿命)を同時に実現。

測定用標準基板・テストサンプル・校正構造体：- AFM 校正用構造体 測定用標準基板 HOPG,- AFM 校正用構造体 TGXYZ,- AFM 校正用構造体 TGX,- AFM 校正用構造体 TGF11シリーズ

最大6波長のDPSS / LDレーザーモジュール（355～1550 nm）をコンパクトパッケージに格納。1波長当り最大300mW

高ピークパワー 750μJ @10kHz(1064nm)、300μJ @10kHz(532nm)。パルス幅 約4ns

HQ:NSCプローブモデルには、磁気力顕微鏡（MFM)用のコーティングを施した製品もご用意しております。コーティングはチップサイドに膜厚60 nmのコバルト層があり、さらに酸化防止のクロムフィルム膜厚20 nmがカバーしています。トポグラフィーと磁気特性の安定した測定のためにカンチレバーのパラメーターは最適化されています。

高性能短波長赤外カメラ。超低ノイズ&高いダイナミックレンジ。幅広い用途で使用可能なInGaAsセンサベースSWIR。200 fps。液体窒素不要。

S neox Five Axis 光学式3次元測定装置は、高精度回転ステージモジュールと、S neox 3D測定顕微鏡の高度な検査および解析機能を組み合わせています。これにより、指定された位置・角度で自動的に3D表面形状測定を行い、完全な3D形状計測が可能になります。

-100～1000℃の温度範囲で薄膜の機械特性（硬度、ヤング率等）を測定できる唯一の装置

3D形状や表面粗さを測定、解析するための直感的で使いやすいソフトウェアパッケージを装置とセットで提供しています。