1つの小型筐体に複数のレーザモジュール（355～1550 nm）を格納。2, 4, 6波長を高効率ファイバ出力。最大出力パワー1W。

最大５波長のDPSS / LDレーザーモジュール（375～808 nm）をコンパクトパッケージに格納。1波長当り最大2500mW

光学集積回路向けマルチチャンネル・ソース測定機器。XPOW は複数の電圧/電流の印加と電圧/電流の測定が可能です。高い汎用性でシンプルな電子回路から複雑なフォトニック集積回路まで、低消費電力の用途にて最適です。また、 XPOWのアップグレード版で、より高速なXDAC はユニポーラ、バイポーラ、ディファレンシャルなど、柔軟なチャンネル出力が可能です。

長寿命LEDを搭載した光散乱原理の濁度計
過酷な環境下でもメンテナンスフリーで使用することのできる堅牢なデザイン

最大1000W、mJエネルギー出力。繰返し 最高100MHz。フェムト秒～ピコ秒パルスのコンパクト、堅牢、高安定性なターンキーシステム

窒化カンチレバー＆シリコンチップ構成のハイブリッドプローブ(Hydraシリーズ)と、カンチレバーとチップ両方とも窒化シリコン製のSPMプローブ(Nitraシリーズ)

>50Hzのパルスレーザーが測定可能。QCLに最適。高い波長精度：±0.08 nm @ 8μm､高い光除去比：20 dB、1〜12μmの波長域。CWレーザーも測定可能。

優れた直線性と温度特性
静的な変位測定のスタンダードモデル

高真空・超高真空対応プローブ
低アウトガス・高安定性・非磁性対応可能

長寿命プローブ
 
– AFMプローブ HARDシリーズ
– AFMプローブ 導電性ダイヤモンドコーティング DMD-XSC11

金属単結晶・酸化物単結晶・合金単結晶試料の高品質品を高精度加工

信頼性が高く、コンパクトで多用途、費用対効果の高いパッケージの高エネルギー超短パルスレーザーです。 IR, Green, UV波長出力可能。

2次元のXY偏向ユニットにZ軸を追加し、3次元加工に対応した3D偏向ユニットです。小スポット径で最大2,000 mm x 2,000 mmもの広いスキャンエリアを処理できます。

発振波長1550-1570 nm からご指定, 平均出力パワー1 W / 1.5 W。ツリウムファイバレーザーのポンプ用 高安定性 CW レーザー光源に最適

優れた温度特性と高分解能を実現
制御用途でのフィードバックセンサに最適

時間相関単一光子計数 (TCSPC)、一致相関、マルチチャネルでのスケーリング 、イベント・タイミング（ピコ秒～ミリ秒の時間分解能）用のモジュールです。シングルチャンネルおよびマルチチャンネル。USBまたはPCIeインターフェイスを装備。※HydraHarp 400, MultiHarp150 デモ機あり※

幅広い要求事項に柔軟に対応する、信頼性、品質、カスタマイズ性に優れたレーザー加工ヘッド

ピコ秒（最小パルス幅50ps, 最高100MHz繰返し）＆CWの両発振が可能な高機能エレクトロニクス完全一体型ダイオードレーザーシステム。375～2090 nm範囲の多彩な波長ラインナップ。最大CW出力500mW、ピークパワー 最高2.5W。

GEMINIは、入力光を2つのレプリカ間の時間遅延を制御することにより、比類のない精度と再現性を提供する究極の干渉計です。FTIR分光計と同様に、同梱のドライバーおよびソフトウェアと組み合わせて使用して、フーリエ変換アプローチに基づいて入力光（コヒーレントまたはインコヒーレント光源）のスペクトルを測定できます。

超高速のアナログ・デジタル変調を可能な半導体レーザー　紫外375～赤外1550 nm 範囲　最大出力300 mW

シャープなシリコンプローブでAFM探針の試料表面接触時に直接視覚化可能。高い再現性、堅牢性、シャープさをもつナノ加工 高ドープ単結晶シリコンで高解像度イメージングを実現

リアルタイムで質量変化と粘弾性、膜厚を分析高性能で低価格

レーザービームを2次元で偏向・集光するXY偏向ユニットです。小～中規模程度の加工エリアで、高速処理が必要なさまざまなアプリケーションに好適です。

パルスレーザーによる高速撮像によって多数の粒子を測定するため、個々の粒子を測定しながらも、統計的に信頼性の高い解析が可能です。全ての粒子画像が生データとして保存されるため、形状も定量的に解析できます。乾式・湿式を問わず多様な試料に対応します。（測定範囲 0.55～34000µm）