OLEDディスプレイ加工に最適。出力パワー 15W/30W、パルス幅500fs、波長343nm、パルスエネルギー最大80 μJ。

最大出力パワー 300W。ピコ秒パルス 0.9-10ps。微細加工に好適。

顧客の要求に沿った最先端レーザー加工システム。1064, 532, 355 nm 発振ナノ秒 DPSSレーザー使用

高アスペクト比チップ SPMプローブ。スパイク高さ 1, 2, 4, 6µm。0°, 傾き角度補正 3°, 12°。

境界層や壁面流、噴霧の可視化 / PIVに適した非コリーレント光特性のレーザーです。鏡面やメタルの反射が低く、金属面などの照明に最適です。
最大50 kHzの繰り返しが出来るパルス発振により、ハイスピードカメラの撮影コマ数に関係なく一定の明るさで撮影が可能です。

Lumina Instruments社のAT1は、他に類を見ない水準の、高速・高感度レーザスキャニング欠陥検査装置です。

最大出力パワー 400W。最大パルスエネルギー 15mJ。OPCPAポンピングや材料加工に好適。

サブナノメートル精度のレーザー干渉式 小型リニア変位センサ。モジュール式で3軸構成可能

ピコ秒（最小パルス幅50ps, 最高100MHz繰返し）＆CWの両発振が可能な高機能エレクトロニクス完全一体型ダイオードレーザーシステム。375～2090 nm範囲の多彩な波長ラインナップ。最大CW出力500mW、ピークパワー 最高2.5W。

狭線幅＆低ノイズ。DFBレーザーベースの縦モードシングル 単一周波数レーザー。755-780nm, 1μm/1.5μm帯。10mW-15W出力。多彩モデルラインナップ。
Koheras HARMONIK　ハイパワーSHG出力（755-780nm） 単一周波数ファイバレーザー新登場

発振波長1900-2050 nm, バンド幅 <0.1 nm, 平均出力パワー>1 mW。2μm コンポーネント試験や産業センシング、分光、イメージングのための汎用光源に好適

波長範囲410～3450nm, UVモジュール装着で210～410nmもカバー。繰返し 20 Hz。パルス幅 7ns。

ゲイン波長範囲 1880-2000 / 1900-2050 nm, 小信号利得 >19 dB or >27 dB, 飽和パワー 200 mW or >3 W。高い平均出力パワー＆ブロードバンド・ゲイン。

非接触・非破壊で表面の微細形状、粗さ、うねりなどの3D形状を測定することができる組込センサーです。

流れの可視化光源に適した非常にコンパクトな筐体のレーザー

MR340-0 PCB コントローラは、MR340 シリーズ光ファイバ式インクリメンタルエンコーダをお客様の装置に組み込んで、コンパクトでコスト効率の良い機器を設計することを可能にします。

最大出力 10 W。繰返し周波数 固定または可変。シングルショット/バーストモードなど、用途に応じて最適なウルトラファーストレーザーを提案します。信頼性の高い高品質レーザーで、カスタマイズも対応。最先端の研究用途に最適な製品を提案いたします。

オプトジェネティクス（光遺伝学）用途に特化。473nm、561nm/594nmレーザーをワンパッケージ化。最大出力150mW＠561nm。変調機能付き。

革新的なファイバアンプ技術によるコンパクト、ハイパワー、高エネルギー、高繰り返しのフェムト秒/ピコ秒ファイバレーザー。パルス幅 <350 fs to >10 ps または最短 150 fs まで、繰返し周波数 single shot to 40MHz、最大平均出力 50W、最大パルスエネルギー 250 µJ。

オフィール社の豊富なセンサに対応するディスプレイまたはコンピュータインターフェース。業界最高の校正精度、高性能、優れた操作性。使い勝手抜群のユーザーフレンドリーなレーザパワー/エネルギ測定用ソフトウェア。サンプルコマンド公開により、COMオブジェクトやLabVIEWなどユーザーが自由かつ容易にプログラミング可能。

オールインワンデザインの高エネルギー100mJ 波長チューニング出力システム。210～3450nm。繰返し 10 or 20 Hz。パルス幅 5ns。

ピコ秒パルス、キロワット出力で、OPCPAポンピングやレーザー加工に好適。最大パルスエネルギー20 mJ。最大出力パワー1000 W。

中心波長 19xx nm, パルス幅 1～3 ps (フェムト秒可), 最大平均出力 100mW or 3W, 繰返し周波数 20-40 MHz。高出力パワー＆高ピークパワー。安定性に優れた小型・軽量のワンボックス・デザイン

世界最高精細の光造形装置。迅速かつ超精密の微細加工を実現。