400nm近傍の波長に感度を有する厚膜フォトレジスト。マスクレス・リソグラフィのアプリケーションを拡げます

高スループットの産業用途システム。サーマルプロセス用途に最適。波長 808nm、出力パワー 100～400W

世界最高精細の光造形装置。迅速かつ超精密の微細加工を実現。

パルスレーザーによる高速撮像によって多数の粒子を測定するため、個々の粒子を測定しながらも、統計的に信頼性の高い解析が可能です。全ての粒子画像が生データとして保存されるため、形状も定量的に解析できます。乾式・湿式を問わず多様な試料に対応します。（測定範囲 0.55～34000µm）

最大7波長のDPSS / LDレーザーモジュール（375～1550 nm）をコンパクトパッケージに格納。1波長当り最大300mW

高いナノポジショニング・エンジニアリング力で、複雑な位置決めタスクを解決する最適なナノ位置決めソリューションを提案。

ナノインデンテーション、フォーススペクトロスコピー、機能化研究、トレンチ深さ計測など。アプリケーションに最適な複数の種類のSPMプローブをラインナップ。特注についてもご相談ください。

流れの可視化光源に適した非常にコンパクトな筐体のレーザー

発振波長1550-1570 nm からご指定, 平均出力パワー1 W / 1.5 W。ツリウムファイバレーザーのポンプ用 高安定性 CW レーザー光源に最適

優れた直線性と温度特性
静的な変位測定のスタンダードモデル

ピコ秒（最小パルス幅50ps, 最高100MHz繰返し）＆CWの両発振が可能な高機能エレクトロニクス完全一体型ダイオードレーザーシステム。375～2090 nm範囲の多彩な波長ラインナップ。最大CW出力500mW、ピークパワー 最高2.5W。

ピコ秒/サブピコ秒パルスレーザーシステムのパルス幅を大幅に短縮するモジュール。最高のスループット効率、良好なビーム品質、高い安定性。入力パルス幅 < 150 fs to 1 psを数サイクルパルスまで短縮可能。対応波長 1030 nm, 515 nm

MR328シリーズ ZapFree® 光ファイバー式インクリメンタルセンサは、磁気共鳴イメージング (MRI)、ナノ磁気検出、EMC テストラボ、および電磁界に対する耐性と透明性が必要とされるアプリケーション向けに設計されました。完全にパッシブで、非金属のインクリメンタルロータリーエンコーダです。センサは全てパッシブな光ファイバ式で、電気を使用しません。標準的な二重62.5/125マルチモード光ファイバリンクを介してリモートコントローラに接続します。

手の平サイズの超小型分光器。低価格・高コストパフォーマンス！！

幅広い要求事項に柔軟に対応する、信頼性、品質、カスタマイズ性に優れたレーザー加工ヘッド

非常に多彩な波長ラインナップ・単一周波数モデル・低ノイズモデルなど幅広いタイプの半導体レーザー＆DPSSレーザー。375～1444nm。最大出力2500mW。

Lumina Instruments社のAT1は、他に類を見ない水準の、高速・高感度レーザスキャニング欠陥検査装置です。

革新的なファイバアンプ技術によるコンパクト、ハイパワー、高エネルギー、高繰り返しのフェムト秒/ピコ秒ファイバレーザー。パルス幅は最短 350 fs – 10 ps、繰返し周波数 single shot to 40MHz、最大平均出力 50W、最大パルスエネルギー 150 µJ。

従来のAFMの半分以下の低価格ながら、高いイメージング品質を発揮します。日本初上陸の高コストパフォーマンスAFMです。

実際の粒子映像を使用して、粒子サイズや速度とその分布を正確に自動測定

粒度分布測定に関する受託測定やコンサルティングなど、様々なサービスをご提供いたします。

OLEDディスプレイ加工に最適。出力パワー 15W/30W、パルス幅500fs、波長343nm、パルスエネルギー最大80 μJ。

MR386 ZapFree™マイクロスイッチは、本質安全防爆に対応しています。MRI、fMRI、ファントムなどの医療用、高圧線、変圧器タップ、油田、ガス、鉱山、バルブ位置、プロセスモニタリングなど産業用アプリケーションに最適です。雷に対する免疫（イミュニティ）も備えています。世界初の光ファイバ式マイクロスイッチです。

世界最高クラスの1PW級ピーク出力を実現。信頼性の高い超高強度フェムト秒レーザー。最大25J。パルス幅 20fs以下。繰返し周波数 最高5Hz