製品情報

高出力ハイブリッドピコ秒レーザー

スペクトロニクス

ハイパワー国産ピコ秒ハイブリッドレーザー。高出力グリーンレーザー、UVレーザーでの高速加工が可能。材料の切断や穴あけに最適。特にセラミクス(アルミナなど)材料の加工に定評があります。

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レーザ光用遮光保護めがね・ゴーグル

山本光学

レーザー使用時に必須の保護めがねとゴーグル等を提供しております。形状・機能・用途に応じて幅広いモデルをラインナップ。適合規格EN CE に対応した製品もご用意しております。

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テラヘルツ分光検査装置“T-SPECTRALYZER”

HÜBNER

テラヘルツ分光を用いた日々のルーチン測定向けの簡単・使い易い非接触・非破壊分析装置。周波数範囲 0.1~4.0 THz、最大ダイナミックレンジ 70 dB。

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ピコ秒パルス&CW発振 ダイオードレーザー“QuixXシリーズ”

Omicron Laserage Laserprodukte

ピコ秒(最小パルス幅50ps, 最高100MHz繰返し)&CWの両発振が可能な高機能エレクトロニクス完全一体型ダイオードレーザーシステム。375~2090 nm範囲の多彩な波長ラインナップ。最大CW出力500mW、ピークパワー 最高2.5W

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ツインエアー方式高精細ディスペンサ Twin-airⓇ

エンジニアリング・ラボ

極微量滴下を可能にしたツインエアー方式。独自技術のセルフサックバックで液だれ、濡れ上がり無し

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単一周波数Qスイッチ LD励起レーザー“SLMシリーズ”

Xiton Photonics

1064nm/532nm/355nm/213nm。フーリエ限界 80MHz線幅の単一周波数レーザー。8~15 kHz, 8~12ns パルス。最大エネルギー800 μJ。

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配管据え置き型 インライン濁度計 “TC007”

KEMTRAK

長寿命LEDを搭載した光散乱原理の濁度計。過酷な環境下でもメンテナンスフリーで使用することのできる堅牢なデザインです。

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中赤外 広帯域チューナブルレーザー OPPO MIR

NPI Lasers

中赤外 MIR 2.8~4.2umの波長範囲で調整可能、ピコ秒パルスレーザー。最大出力1W以上。ガスセンシング・リモートセンシング・バイオメディカルで好適

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高繰り返しパルス Ti:Sapphireレーザー

Sirah Lasertechnik

広いチューニングレンジ、高いパルスエネルギー、狭線幅のコンパクト・ナノ秒パルス・チタンサファイアレーザー。波長域690~1010 nm、最大出力パワー2.5 W or 6.8 W (モデル依存。ピーク波長)、線幅30~50 ns、繰返し周波数1~3 kHz または 1~10 kHz。

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パルス色素レーザー

Sirah Lasertechnik

あらゆる原子・分子分光に好適なパルス色素レーザー。370~920 nm

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超高安定性・二次元分光干渉計 “GEMINI 2D”

NIREOS

イタリアのNIREOS社のGEMINI-2Dは、過渡吸収分光測定を最先端の2次元分光装置に変換します。
GEMINI 2Dはコンパクトで非常に安定的に使用できる干渉計であり、フェムト秒レーザーパルスの2つの同一線上で位相ロックされたレプリカを生成し、比類なき安定性と堅牢性を備えています。

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バイオフォトニクス向け フェムト秒ファイバーレーザー Biolit

litilit

クリーンなショートパルスを発振するフェムト秒レーザーです。パルス幅: typ 60fs。平均出力2W以上、堅牢かつ安定性が高く、非線形光学用途・多光子顕微鏡に最適です。

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フォトンカウンティング 光子計数とタイミング (蛍光測定・量子相関)

PicoQuant

PicoQuantのフォトンカウンティング(光子計数)向けの幅広い製品には、時間相関シングルフォトンカウンティング(TCSPC)とイベントタイミング用の高性能モジュール、シングルフォトンセンシティブ検出器、および(時間分解)蛍光測定と量子相関の評価用の専用分析ソフトウェアが含まれます。

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デポラライザ “DEP”

General Photonics

レーザー出力を無偏光化するデポラライザです。外部からの電源供給が不要なパッシブデバイスです。標準仕様ではコヒレンス長10mの光源まで使用可能です。数kmのコヒレンス長を持つレーザーのためにカスタムすることも可能です。

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ナノ粒子分散塗布サンプル・プレパレーション装置 “PSD-PS01”

浜松ナノテクノロジー

ナノ粒子のSEM・TEMまたはAFM観察を容易にするサンプル・プレパレーション装置。
分散溶媒中に溶かしたナノ粒子を、静電噴霧でSi基板やカーボン蒸着膜基板へ分散塗布します。

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266nm CW, 超小型UV DPSSレーザー“FQCW266シリーズ”

CryLaS

266nm, CW(連続波)レーザー, 出力 10~550mW 空冷式。縦モードシングル 300kHz

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高出力マイクロチップレーザー装置 ナノ秒mJパルス“HiPoLas”

Silicon Austria Labs (SAL)

最大出力 40 mJ, 最大繰り返し周波数 1kHz, パルス幅 2~10 ns。レーザー点火等 過酷環境下での使用に好適。超コンパクト&高出力

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400W出力 ピコ秒レーザー Amphos3000シリーズ

AMPHOS

最大出力パワー 400W。最大パルスエネルギー 15mJ。OPCPAポンピングや材料加工に好適。

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フェムト秒レーザー加工装置 Aシリーズ

Oxford Lasers

高性能コンパクトな A シリーズ プラットフォームは、ナノ秒、ピコ秒、またはフェムト秒パルス レーザーを搭載できるレーザー マイクロマシニング設備です。

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4~11 μm ハイパワー CW or パルス中赤外レーザー”H-Model”

DRS Daylight Solutions

4~11 μmのほぼ全域をカバーする多彩な波長ラインナップ。省スペースで高出力のCW or パルス中赤外量子カスケードレーザー(QCL)

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527nm ナノ秒DPSSレーザー

Beamtech Optronics

527nm ナノ秒DPSSレーザー.Beamtech Optronics. Tolarシリーズは、DPSS EO-Qスイッチナノ秒DPSSレーザーです。 最大エネルギー 50 mJ @ 1kHz, パルス幅 < 160 ns。

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小型Qスイッチ固体レーザー Q-switchedシリーズ

CrystaLaser

超コンパクト・多彩な波長・高出力・高安定性・高信頼性。CrystaLaser社のベストセラー製品。260-1444nm。最大出力1mJ。100kHz, 5-200nsパルス

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三次元粗さ解析走査電子顕微鏡 “ERA-600シリーズ”

エリオニクス

世界で唯一、4本のSED検出器による高コントラスト観察画像とナノレベル立体形状の取得が可能。高分解能SEM観察と試料表面の形状測定、表面形状のパラメータ算出も一台で完結。精密工学会技術賞を受賞しました。

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プラグ&プレイ イオンジェネレータ“KAIO”

SourceLAB

レーザーイオン生成及びプラズマ相互作用のためのレーザーモニタ・評価。TNSAベースのパワフルツール。EProton = 4 – 5 MeV (cut-off)

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