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製品情報
最大 2000mJ コンパクト ナノ秒パルスレーザー
新製品 Nimma-Lシリーズ をリリース（2022年7月） 最大 2000mJ @ 1064nm, 繰り返し周波数 1 – 100Hz, パルス幅 5 – 10 ns。コンパクトなナノ秒パルスレーザーで、LIBSやLIDAR等のアプリケーションに最適です。
1342nm LD励起固体レーザー “IXDICEシリーズ”
独自の1342nmの繰返し率固体ダイオード励起Qスイッチレーザー。365日24時間稼働の産業用途に適した製品です。米国CDRH規制への準拠
2μm ナノ秒パルス ファイバーレーザー “PowerWave2000-ns”
中赤外スーパーコンティニューム光源の励起に最適。中心波長 1900～2000 nm、繰り返し周波数 kHz～MHz、パルスエネルギー10 μJにて最大出力10 W
粒度分布測定装置 “VisiSize” PDIA式（新画像解析式）
最新解析アルゴリズムと新特許光学系により、在来型や他方式を超える安定性と精度を実現。測定レンジ。サイズ：1μm ～15,600μm。速度：～1,000m/s@100μm
光パワーメータ
波長750～1700nmの光信号出力を-60～+10dBmの範囲で高速モニタリングが可能です。1500シリーズパワーメータは、アクティブファイバーアライメントに最適な対数アナログ出力を備えています。
中赤外 広帯域チューナブルレーザー OPPO MIR
中赤外 MIR 2.8～4.2umの波長範囲で調整可能、ピコ秒パルスレーザー。最大出力1W以上。ガスセンシング・リモートセンシング・バイオメディカルで好適
最先端 フラッシュランプ励起 ナノ秒 YAGレーザー＆ガラスレーザー
高度な要求に応える、特別かつ無二のナノ秒パルス・レーザーソリューション。Premiumlite-YAG YAGレーザー：>75 J ＠1064 nm, >55 J ＠532 nm、繰返し周波数 10 Hz。Premiumlite-Glass ガラスレーザー：>250 J ＠1053 nm, >200 J ＠527 nm, 繰返し周波数 0.1 Hz
動的光散乱法 粒度分布測定装置 NANOPHOX
一般的な動的光散乱法とは異なり、光源とセンサを2つずつ用いる「クロスコリレーション法」を採用しています。そのため、高濃度な試料でも多重散乱の影響を排除した正確な測定が可能です。（測定範囲 0.5 nm～10 μm）
最大500μJ出力 高機能フェムト秒/ピコ秒レーザー Tangor
革新的なファイバアンプ技術によるコンパクト、ハイパワー、高エネルギー、高繰り返しのフェムト秒/ピコ秒ファイバレーザー。パルス幅 最短 500 fs – 10 ps、繰返し周波数 single shot to 40MHz、最大平均出力 100W、最大パルスエネルギー 500 µJ。
画像解析式 粒度/速度分布 測定ソフトウエアー“VisiSizer SOLO”
実際の粒子映像を使用して、粒子サイズや速度とその分布を正確に自動測定
可変光減衰器
高速減衰速度、低挿入損失、パワーメータ内蔵の MEMS ベースの可変光減衰器。非常にコンパクトで費用対効果の高い可変光減衰器・バリアブルアッテネータです。 高度なパワー安定化機能により、入力パワーが変動しても出力パワーを設定により安定化させ、維持することが可能です。
高エネルギー OPO 波長可変レーザー“RADIANTシリーズ”
オールインワンデザインの高エネルギー120mJ 波長チューニング出力システム。210～3450nm。繰り返し周波数10 or 20 Hz。パルス幅 5-7ns。
レーザークリーニング装置
100Wと200Wモデルがございます。200Wモデルは錆取りや塗装膜除去に最適なレーザーを搭載しております。
1000W出力 ピコ秒レーザー Amphos5000シリーズ
ピコ秒パルス､キロワット出力。OPCPAポンピングやレーザー加工に好適です。最大パルスエネルギー20 mJ。最大出力パワー1000 W。
高解像度ダイアモンド・AFMプローブ（ダイヤモンドカンチレバー）
最高の耐摩耗性と電気的性能を提供する高導電性ダイヤモンドプローブ（ダイヤモンドAFMカンチレバー）
HeNeレーザー“LGKシリーズ”
波長 632.8, 543.5, 594 nm。出力 0.5～20 mW。システム・装置への組み込みに最適。国内外を問わず数多くの納入実績あり。
高ビーム品質 ハイブリッドピコ秒レーザー 電光シリーズ
高ビーム品質（M²<1.2）のピコ秒レーザー。高精細・高品質の加工に最適。独自ハイブリッド方式で軽量かつ低価格。
自動光スイッチ
高速かつ高い信頼性を実現した光スイッチで、テスト工程の効率化を実現します。スイッチの構成、ファイバの種類、コネクタなど、幅広くカスタマイズが可能です。
高出力マイクロチップレーザー装置 ナノ秒mJパルス“HiPoLas”
最大出力 40 mJ, 最大繰り返し周波数 1kHz, パルス幅 2～10 ns。レーザー点火等 過酷環境下での使用に好適。超コンパクト＆高出力
光 / 電気コンバータ
高帯域、広帯域の光-電気変換器を様々な構成でご提供できます。1チャンネルまたは2チャンネル、ACまたはDCカップリング、さまざまな変換利得と動作波長範囲から選択いただけます。
400W出力 ピコ秒レーザー Amphos3000シリーズ
最大出力パワー 400W。最大パルスエネルギー 15mJ。OPCPAポンピングや材料加工に好適。
最大250μJ出力 高機能フェムト秒/ピコ秒レーザー Tangerine
革新的なファイバアンプ技術によるコンパクト、ハイパワー、高エネルギー、高繰り返しのフェムト秒/ピコ秒ファイバレーザー。パルス幅 <350 fs to >10 ps または最短 150 fs まで、繰返し周波数 single shot to 40MHz、最大平均出力 50W、最大パルスエネルギー 250 µJ。
高出力10mJ – 500 mJ デュアルパルスレーザー
Vliteシリーズは、デュアルパルス Qスイッチタイプのナノ秒レーザーです。高出力 10mJ – 500 mJ @ 532 nm, 高い繰り返し周波数 0.2 – 15 kHzで、PIVアプリケーションに最適です。
320nm & 349nm 単一周波数 CW DPSSレーザー NXシリーズ
波長 320, 349, 532, 640, 780 nm、狭線幅 (< 0.5 MHz)、非常に小さい強度ノイズ (< 0.1% RMS)、回折限界 TEM00 ビーム。 独自の光学アーキテクチャとハーメチックシールドパッケージにより、長期間にわたって非常に安定した動作と性能を保持します。要件の厳しい組み込み用途で高い堅牢性と耐久性を発揮します。また、高い精度、安定性、スペクトル純度が求められる、ラマン分光、干渉実験、ホログラフィ、量子技術開発など、高度な研究用途にも最適です。
