生産ライン近くの分析室や分析ラボ向けのスタンドアローンLIBS元素分析装置
スラグ、コンクリート、金属などの迅速分析や元素マッピング分析に最適

レーザー光強度の制御や高速スイッチングに最適。デジタル/アナログ、RF周波数、シングル/ダブルなど、広範なラインナップから選択可。

単一光子検出共焦点蛍光顕微鏡。最高のデータ品質と使い易さを兼ね備えた蛍光顕微鏡です。自動化により測定時間を短縮を実現。実験室に簡単にインストールいただけます。

拡張ピクセル分解能を備えた2位置または4位置のアクチュエータによるビームシフティングデバイス です。標準開口径 9～33mm。3Dプリンタ、カメラ、計測、光結合などでご活用いただけます。

直接駆動超精密ステージからピエゾモータ直進ステージまで、200モデル以上を展開

音響光学デバイスによる短パルスレーザー発振用Qスイッチデバイス。様々な結晶素材で多様なアプリケーションに対応

ピコオーダ、超高速(10MHz)、長作動距離(最大5m)、多様な材質や極端環境（超高真空、高磁場）に対応する変位測定干渉計【レーザー干渉式変位センサ】

3Dから高アスぺクト比形状まで対応

HQ:NSCプローブモデルには、磁気力顕微鏡（MFM)用のコーティングを施した製品もご用意しております。コーティングはチップサイドに膜厚60 nmのコバルト層があり、さらに酸化防止のクロムフィルム膜厚20 nmがカバーしています。トポグラフィーと磁気特性の安定した測定のためにカンチレバーのパラメーターは最適化されています。

偏波状態の各種制御・変調で、システム・装置の偏波依存特性を最適化

波長244～4500nmで光強度＆位相を変調。高安定性・低電圧・高速

時間相関単一光子計数 (TCSPC)、一致相関、マルチチャネルでのスケーリング 、イベント・タイミング（ピコ秒～ミリ秒の時間分解能）用のモジュールです。シングルチャンネルおよびマルチチャンネル。USBまたはPCIeインターフェイスを装備。※HydraHarp 400 デモ機あり

流れの可視化光源に適した非常にコンパクトな筐体のレーザー

直接駆動の直読式高速回転型から、多用途・低価格タイプまで、100モデル以上を展開

レーザーマーキングシステムへの搭載用レーザーマーカー。独立型＆コンプリートシステムで他のアセンブリラインや特殊マシンへの組み込みにも最適。

レーザー加工の幅広い要求に柔軟に対応、カスタマイズ性、信頼性、品質に優れたレーザー加工ヘッドです。

光ファイバーや光学素子からの戻り光を除去し、レーザー本体を保護。350～1135nm

高速＆高精度分析。目的に最適なレーザーアブレーションを最高の性能で提供。

狭線幅レーザーを内蔵したラマン分光計　励起波長が785nmと532nmのタイプをラインナップ。4000cm-1までの広いスペクトル範囲と8cm-1以上の高い分解能で、物質分析・同定が可能です。

テラヘルツ分光により、封書や小包の中に隠された有害物質を正確に、わずか数秒以内で同定

音響光学デバイスによる電気制御スペクトルバンドフィルタ 。可視～赤外・中赤外までの光を厳密にフィルタリング

レーザー超音波による非接触非破壊検査／非接触厚さ測定

平均出力18W、1342nmの高出力LD励起固体レーザー。24時間365日の連続稼働の産業用途に最適

偏光依存損失 (PDL), 挿入損失 (IL), デバイスの光パワーをわずか30ミリ秒で同時測定。低/高の両PDL値を測定可能。