ENGLISH
日本語
OEMレーザーマーカー
レーザーマーキングシステムへの搭載用レーザーマーカー。独立型＆コンプリートシステムで他のアセンブリラインや特殊マシンへの組み込みにも最適。
- 1064 nm | 120～200 W, AQUILA Markシリーズ
- 1064 nm | 20～50 W, FIBER Markシリーズ
- 1064 nm | 5～16 W, CEPHEUS Markシリーズ
Photon Energy(フォトンエナジー)社では、完全かつ独立のOEMレーザーマーカーを製造しています。ダイオード励起固体レーザー（DPSSL）ベースですので、ランプ励起レーザーに比べて、より理想的なビーム品質、パルス繰返し周波数、パルスエネルギーを出力します。またこれらレーザーパラメータを広い範囲で調整できますので、アプリケーションに最適なビームが得られます。さまざまなモジュールを特別に整合させ、アセンブリラインや特殊マシンへの組み込みに最適な安定性の高いメカニカルユニットを構築できます。Photon Energy社のレーザーマーキングシステムへの搭載にも最適です。下記のいずれのレーザーマーカーもPhoton Energy社 マーキングソフトウェア PHOTONmark でコントロールできます。
1064 nm | 120～200 W, AQUILA Markシリーズ
AQUILA Mark は高速マーキング用に設計されており、短時間で大量の処理が可能です。広いマーキング領域へのラベル加工にも好適です。120Wまたは200Wの高い平均出力で、多種多様な材料加工に適用できます。非鉄金属はもちろんスチール材などにも精密な深い彫刻加工を行うことができます。さらに過酷な環境下での使用を念頭に設計されており、非常に堅牢です。
応用例
1064 nm | 20～50 W, FIBER Markシリーズ
FIBER Markシリーズは高速マーキング用に設計されており、短時間で大量の処理が可能です。広いマーキング領域へのラベル加工にも好適です。非鉄金属はもちろんスチール材などにも精密な深い彫刻加工を行うことができます。特にスチールへのカラーアニーリング加工に最適です。
平均出力は20Wまたは50Wです。過酷な環境下での使用を念頭に設計されており、非常に堅牢です。加工ヘッドはコンパクトでアセンブルラインやワークステーションへの統合が容易です。
応用例
1064 nm CEPHUS 5～16 W, CEPHEUS Markシリーズ
超短パルス（通常15ピコ秒以下）でレーザーパルスあたりの材料アブレーションが極めて少なく、冷間加工が可能性であることから、CEPHEUS Markは繊細な材料（ウェハーシンクフィルムなど）に高精度な構造を施すのに最適なレーザーマーキング装置となっています。
応用例
| モデル | AQUILA Mark 120 | AQUILA Mark 200 | FIBER Mark 20 | FIBER Mark 50 | CEPHEUS 1012 | CEPHEUS 1016 | CEPHEUS 1016 SHG |
|---|---|---|---|---|---|---|---|
| レーザータイプ | Nd:YAG; λ= 1064 nm | Nd:YAG; λ= 1064 nm | Yb: Fibre; λ= 1064 nm | Yb: Fibre; λ= 1064 nm | mode locked Nd: YVO4; λ = 1064 nm | mode locked Nd: YVO4; λ = 1064 nm | mode locked Nd: YVO4; λ = 1064 nm |
| 最大平均出力 | 120 W | 200 W | 20 W | 50 W | 12 W | 16 W | 5 W |
| パルスピークパワー, Nd:YAG | 200 kW ＠3 kHz | 350 kW ＠3 kHz | – | – | – | – | – |
| パルスピークパワー, Nd:YVO4 | – | – | 10 kW | 10 kW | – | – | – |
| 最大パルスエネルギー, Nd:YVO4 | – | – | – | – | 12 W | 16 W | 5 W |
| 周波数範囲 | 1-100 kHz, CW | 1-100 kHz, CW | 20-500 kHz, CW | 20-500 kHz, CW | 20 kHz- 500 kHz (オプション – 6MHz) | 20 kHz- 500 kHz (オプション – 6MHz) | 20 kHz- 500 kHz (オプション – 6MHz) |
| ビーム品質 | マルチモード | マルチモード | M2<1.6 | M2<1.6 | TEM00 | TEM00 | TEM00 |
| 冷却 | チラー | チラー | 空冷 | 空冷 | 空冷 | 空冷 | 空冷 |
| 環境温度 | 10～40 ℃ | 10～40 ℃ | 10～35 ℃ | 10～35 ℃ | 20～ 35℃ | 20～ 35℃ | 20～ 35℃ |
| アプリケーションソフトウェア | Software PHOTONmark | ||||||
| 電気接続 | 230 VAC, 50/60 Hz | 230 VAC, 50/60 Hz | 230 VAC, 50 Hz or 115 VAC, 60 Hz | 230 VAC, 50 Hz or 115 VAC, 60 Hz | 90 – 264 VAC, 47 – 63 Hz | 90 – 264 VAC, 47 – 63 Hz | 90 – 264 VAC, 47 – 63 Hz |
| 最大消費電力 | 3.6 kW | 3.6 kW | 0.5 kW | 0.55 kW | 0.7 kW | 1.0 kW | 1.0 kW |
| ケーブル長 ※1 | 5 m | 5 m | 1.8 m | 2.8 m | 2 m | 2 m | 2 m |
| レンズ (スキャン領域) ※2 | f = 100 mm (70 x 70 mm2) | f = 160 mm (100 x 100 mm2) | f = 100 mm (70 x 70 mm2) | ||||
| 寸法, L x W x H (mm) | |||||||
| レーザーヘッド | 957x140x190 | 957x140x190 | 540x106x176 | 540x106x176 | 617x325x338 | 617x325x338 | 617x325x338 |
| レーザーコントロールユニット, 19″ | 473x482x133 | 473x482x133 | 293x482x128.5 | 293x482x128.5 | 471x482x177 | 471x482x177 | 471x482x177 |
| マーキングコントロールユニット, 19″ | 471x482x133 | 471x482x133 | 471x482x133 | 471x482x133 | 473x482x133 | 473x482x133 | 473x482x133 |
| チラー, 19″ | 636x485x312 | 636x485x312 | – | – | – | – | – |
| 重量 | |||||||
| レーザーヘッド | ca. 24.3 kg | ca. 24.3 kg | ca. 7 kg | ca. 7 kg | ca. 60 kg | ca. 60 kg | ca. 60 kg |
| レーザーコントロールユニット | 19 kg | 19 kg | 16 kg | 16 kg | 16,5 kg | 16,5 kg | 16,5 kg |
| マーキングコントロールユニット, 19″ | 12.4 kg | 12.4 kg | 12.4 kg | 12.4 kg | 12.4 kg | 12.4 kg | 12.4 kg |
| チラー | 57 kg | 57 kg | – | – | – | – | – |
※1 異なるケーブル長も提供可能。
※2 異なるレンズ/スキャン領域サイズも提供可能。
