アプリケーション

アプリケーション 一覧

高エネルギー OPO 波長可変レーザー“RADIANTシリーズ”

Opotek

オールインワンデザインの高エネルギー120mJ 波長チューニング出力システム。210~3450nm。繰り返し周波数10 or 20 Hz。パルス幅 5-7ns。

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高精度 光波長計(CW専用/CW&パルス両用)

Bristol Instruments

高い波長分解能 (±0.0001 nm) で可視域から中赤外(MIR) 375 nm to 12 μm をカバーする671シリーズと、パルスとCWの両レーザー対応、高速(1kHz), 高い測定確度 (±0.2 ppm)をもつ871シリーズがございます。Bristol Insturments社では信頼性の高い供給ラインの構築に努めており、ご注文から約3か月の安定した納期でお納めできます。

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高速ステアリングミラー MRシリーズ

Optotune

反射モード(2Dミラー)、透過モード(チューナブルプリズム)で使用可能な、革新的な2次元ビームステアリングミラーです。ビームシフト無。システム組込みに対応。LiDAR、アダプティブヘッドライト、OCT、マシンビジョン、3Dプリンティング、セキュリティなど多彩なアプリケーションで活用いただけます。

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高精度・多層膜・非接触 厚み計 157/137シリーズ

Bristol Instruments

※デモ機あり、サンプル測定可能 高精度 (±0.1 μm)、12μm から 80mmの広い範囲が測定可能な膜厚計(厚み計)です。独自の非接触光学技術を採用。硬質材料と軟質材料の両方を、損傷や変形なく厚さ測定をすることができます。最大31層の厚みを同時に測定することが可能です。

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INCA 多重分光近接ビーコン

DRS Daylight Solutions

VIS、NIR、SWIR、MWIR、LWIRバンド対応、長距離で検出可能な高輝度マルチスペクトル光信号を提供します。

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TW, PW Ti:SAレーザーポンプ用 Nd:YAGレーザー TITAN

Amplitude Technologies

数百TW (テラワット) からPW (ペタワット) 級の大出力チタンサファイアレーザーの励起に理想的な小型高エネルギー Nd:YAGレーザー。最大12J@532nm。繰返し5Hz。パルス幅 12ns。

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破片粒子低減 レーザー切断装置 LMTS IR duo

Laser-Mikrotechnologie Dr. Kieburg

破片粒子の少ないレーザー切断を実現。リチウムイオン電池の電極加工に好適。

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ブルーレーザー 金属加工向け BLシリーズ / ファイバ伝送型 BL-Fシリーズ 

NUBURU
[新商品]

ブルーレーザーは金属への高い吸収率から金属加工にとって理想的なレーザーです。波長~444nm。BLシリーズ(125W, 250W)とBL-Fシリーズ(125W, 250W, 500W, 1000W)をご用意しています。汎用的なガルバノスキャナとの一体化が可能。はんだ付け、ワイヤなど、薄い銅またはアルミニウム板の接合・溶接に最適です。赤外線レーザーやグリーンレーザーよりも優れた効率で金属加工を行うこと可能です。

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AMPHOS 高出力ピコ秒レーザーシステム 一覧

AMPHOS
[オススメ]

最大1000W、mJエネルギー出力。繰返し 最高100MHz。フェムト秒~ピコ秒パルスのコンパクト、堅牢、高安定性なターンキーシステム

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UVフェムト秒レーザー Tangor UV

Amplitude Systemes

出力パワー 15W/30W、パルス幅500fs、波長343nm、パルスエネルギー最大80 μJ。OLEDディスプレイ加工にも好適なレーザーです。

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小型レーザービームコンバイナー“LightHUBシリーズ”

Omicron Laserage Laserprodukte

1つの小型筐体に複数のレーザモジュール(355~1550 nm)を格納。2, 4, 6波長を高効率ファイバ出力。最大出力パワー1W。

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受託粒度分布測定・各種サービス

Sympatec

粒度分布測定に関する受託測定やコンサルティングなど、様々なサービスをご提供いたします。

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測定用標準基板・テストサンプル・校正構造体

MikroMasch

測定用標準基板・テストサンプル・校正構造体:- AFM 校正用構造体 測定用標準基板 HOPG,- AFM 校正用構造体 TGXYZ,- AFM 校正用構造体 TGX,- AFM 校正用構造体 TGF11シリーズ

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3軸ガルバノスキャナ

RAYLASE

2次元のXY偏向ユニットにZ軸を追加し、3次元加工に対応した3D偏向ユニットです。小スポット径で最大2,000 mm x 2,000 mmもの広いスキャンエリアを処理できます。

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高出力・高繰返し Qスイッチ半導体励起固体レーザー“CL210シリーズ”

Canlas

レーザー加工に適した短パルスレーザー。3波長ラインナップ(1064, 532, 355 nm)。最高20W出力。繰返し周波数 1-100kHz。最小パルス幅 20ns

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高出力500mJ ピコ秒/フェムト秒レーザー Magma

Amplitude Systemes

最大500 mJもの高パルスエネルギーと最大 1TWの高いピークパワーを併せ持つ世界初の工業用グレード・ピコ秒/フェムト秒レーザー。モジュール式プラットフォームでアプリケーションの要件に合わせてカスタマイズ可能。パルス幅 < 500 fs

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1.5μm ポンプレーザーモジュール“PUMP-1560”

NPI Lasers

発振波長1550-1570 nm からご指定, 平均出力パワー1 W / 1.5 W。ツリウムファイバレーザーのポンプ用 高安定性 CW レーザー光源に最適

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最大150μJ出力 高機能フェムト秒/ピコ秒レーザー Satsuma

Amplitude Systemes

革新的なファイバアンプ技術によるコンパクト、ハイパワー、高エネルギー、高繰り返しのフェムト秒/ピコ秒ファイバレーザー。パルス幅は最短 350 fs – 10 ps、繰返し周波数 single shot to 40MHz、最大平均出力 50W、最大パルスエネルギー 150 µJ

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AFM-IR 装置 Vista 75, IR-PiFM / PiF-IR

Molecular Vista
[新商品]

光誘起力を使った次世代のPiFM ・ PiF -IR 機器 半導体、ナノフォトニクス、ポリマー、無機物などに向けた様々な用途で使用いただけるAFM-IR装置です。

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高繰返し&広帯域 フェムト秒OPA Mango

Amplitude Systemes

高繰り返し周波数&広いカバー波長域の、完全自動化オプティカル・パラメトリック・アンプ(OPA)システム。パルス幅:70~300 fs、繰返し周波数:最高 2 MHz、高い変換効率:12%以上 、波長域:210-11000 nm, 325-2500 nm

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R&D用多用途 高精細3D光造形装置 Photonic Professional GT2

Nanoscribe

世界最高精細の光造形装置。迅速かつ超精密の微細加工を実現。

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超高安定性 干渉計 “GEMINI”

NIREOS

GEMINIは、入力光を2つのレプリカ間の時間遅延を制御することにより、比類のない精度と再現性を提供する究極の干渉計です。FTIR分光計と同様に、同梱のドライバーおよびソフトウェアと組み合わせて使用して、フーリエ変換アプローチに基づいて入力光(コヒーレントまたはインコヒーレント光源)のスペクトルを測定できます。

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LIBSオンライン元素分析システム

SECOPTA

オンライン・インラインLIBS元素分析システム。製造ラインにおけるリアルタイム元素分析。代表的応用例は異材混入の防止(鉄鋼製造)PMI、製造プロセスにおけるオンライン元素モニター、ベルトコンベヤ上の各種原材料(石炭、鉱石、焼結体、塩、スラグなど)のオンライン分析等が可能です。

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簡易・小型 原子間力顕微鏡 AFM “CrabiAFM”

OME Technology

CrabiAFMは、コンパクトで低価格な簡易原子間力顕微鏡(AFM)です。リサーチ用途、ナノ教育、またはすでにAFM経験をお持ちの方のサブ機として最適です。

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