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ビームプロファイラ ( カメラ式 ＆ スリット式 ）
UV～ミリ波。CW、パルスの両レーザー光に対応。高精度で信頼性の高いレーザビーム計測機器
コントローラー内蔵 超小型CWレーザー“LuxX+ シリーズ”
バイオテクノロジーや工業用途に最適な小型のワンボックスデザイン。紫外375nm～赤外1550nm 36波長。最大300mW出力。高速変調機能付き。
PIV CWレーザー（流れの可視化レーザー）“DPSS Green Laser”
流れの可視化光源に適した非常にコンパクトな筐体のレーザー
中赤外パルス用 レーザー･スペクトラム･アナライザ（LSA) ”772B-MIR”
>50Hzのパルスレーザーが測定可能。QCLに最適。高い波長精度：±0.08 nm @ 8μm､高い光除去比：20 dB、1〜12μmの波長域。CWレーザーも測定可能。
AFMプローブ Tipless チップレスカンチレバー
チップレスシリーズは、チップの片側に異なるばね定数と共振周波数を持つ3つのチップレスカンチレバーを備えています。 本シリーズは以前の12シリーズに代わるものです。
チップレスカンチレバーは材料特性と相互作用の測定に使用できます。 ガラス球やポリスチレン粒子などをチップレスカンチレバーに取り付け、AFMのような実験に適用することができます。
画像解析式 粒度/速度分布 測定ソフトウエアー“VisiSizer SOLO”
実際の粒子映像を使用して、粒子サイズや速度とその分布を正確に自動測定
PIV カメラ
感度と解像度、撮影速度に特徴のあるラインナップをご用意。計測対象に合わせて多彩なPIVカメラから選択可能
小型 高性能 飛行時間型質量分析計 (TOF-MS/RGA)
Spacetek Technology社の IonTamer™ は飛行時間型の質量分析計 / 残留ガス分析器 (TOF-RGA) です。ガス組成をリアルタイムで、高分解能、高感度にモニターします。世界最高性能のRGAであるIonTamer™は、これまで実験室用装置でしか得られなかった性能を、コンパクトで扱いやすく、組み込み可能にしました。半導体製造、OLEDディスプレイ製造、光学部品、ソーラーパネル製造、真空コーティングプロセス（CVD、PVD、ALD）、真空炉、冶金、超高真空などでの研究、過酷な環境下での用途に対応します。
最大7波長、2本ファイバー搭載可能レーザーコンバイナー ”LightHUB Ultra”
最大7波長のDPSS / LDレーザーモジュール（375～1550 nm）をコンパクトパッケージに格納。1波長当り最大300mW
ポータブル型 粒度分布測定装置 “VisiSize P15 Portable V” (新画像解析式)
キャリーケースで運搬のでき、取り扱いの簡単な小型軽量タイプ。粒径5μm～3,900μm。速度同時測定モデル
マイクロレンズアレイ・DOE試作用 3D光造形装置 Quantum X
世界初、マスクレス微細加工のための2光子グレースケール・リソグラフィシステム。屈折型、回折型マイクロ光学素子製造のための最先端装置。
AFMコントローラー “Galaxy Dual”
24 bit AFMコントローラー。サポートの終了した Agilent Technology 製 AFM に対応します。シンプルに既存のコントローラーとの置き換えが可能。既存のAFMヘッドへプラグインの上、専用ソフトウェア使用して同様のAFM動作が行えます。
最大3mJ出力 フェムト秒/ピコ秒レーザー Tangor 300
信頼性が高く、コンパクトで多用途、費用対効果の高いパッケージの高エネルギー超短パルスレーザーです。 IR, Green, UV波長出力可能。
オプトジェネティクス用多波長レーザー光源“LightHUB Optogenetics”
オプトジェネティクス（光遺伝学）用途に特化。473nm、561nm/594nmレーザーをワンパッケージ化。最大出力150mW＠561nm。変調機能付き。
導電性プローブ
導電性プローブ：- Pt プラチナ、Cr-Au 金 コーティング, – 高分解能導電性 DPERシリーズ, – 低ノイズ導電性 DPEシリーズ
高ピークパワー Qスイッチ半導体励起固体レーザー“CP600シリーズ”
高ピークパワー 750μJ @10kHz(1064nm)、300μJ @10kHz(532nm)。パルス幅 約4ns
小型CWレーザー“Directシリーズ＆Crystalシリーズ”
非常に多彩な波長ラインナップ・単一周波数モデル・低ノイズモデルなど幅広いタイプの半導体レーザー＆DPSSレーザー。375～1444nm。最大出力2500mW。
プロセスフォトメータ（濁度・SS濃度計）”NBP007″
高濃度対応 インラインSS（浮遊物質測定）・濁度 計測
後方光散乱方式採用
過酷な環境下でもメンテフリーで使用可能な堅牢デザイン
測定用標準基板・テストサンプル・校正構造体
測定用標準基板・テストサンプル・校正構造体：- AFM 校正用構造体 測定用標準基板 HOPG,- AFM 校正用構造体 TGXYZ,- AFM 校正用構造体 TGX,- AFM 校正用構造体 TGF11シリーズ
高出力 CWファイバーレーザー “TruFiber”
高い出力とコントロール性で、最適なレーザー切断／溶接を実現
PDT・PIT・PDD ラボ実験用レーザー照射システム “BrixXLAB”
PDT(Photodynamic Therapy: 光線力学療法)、PIT(Photoimmunotherapy: 光免疫療法)、PDD(Photodynamic Diagnosis:光力学的診断)などの実験・研究用途向けのマルチチャンネルデスクトップレーザー。最大4チャンネルまでレーザーが搭載可能。波長 375nm～ 1550nmに対応。
チューナブル・光音響イメージング光源“PHOCUSシリーズ”
690～950 nm, 1200～2600 nm。繰返し10 or 20Hz (Phocus HR Mini のみ100Hz)。パルス幅5～9 ns。リングキャビティOPOベース 波長可変レーザー
2μm 狭線幅ファイバレーザー “Ultraline 2000”
発振波長1900-2100 nm よりご指定可能。スペクトル線幅はMHｚレベルの狭線幅。平均出力100 mW /１W。狭線幅＆高安定性で幅広い用途で使用いただけます。
動的光散乱法 粒度分布測定装置 NANOPHOX
一般的な動的光散乱法とは異なり、光源とセンサを2つずつ用いる「クロスコリレーション法」を採用しています。そのため、高濃度な試料でも多重散乱の影響を排除した正確な測定が可能です。（測定範囲 0.5 nm～10 μm）
