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8インチ 200 mm ウエハ対応 AFM-IR装置 Vista 200 PiFM / PiF-IR
8インチ(200mm)ウエハをそのままサンプルステージに乗せてAFM-IR測定を実施できる大型サンプル対応モデルです。8インチウエハだけでなく、152mmのフォトマスクサンプルにも対応します。高空間分解能のケミカルイメージングのほか、ナノスケールIR分光により、ナノ異物分析にも対応します。IRライブラリにも対応します。
JASIS2024では、本製品の技術説明会(参加無料)を行います!是非ご来場ください。
AFM-IR装置 Vista200の概要と特長
AFM-IFでのナノ欠陥IR分析
図. 欠陥 (青) およびシリコン基板 (紫) で取得した PiF-IR スペクトルと、テフロン (オレンジ) の FTIR スペクトル (a)。欠陥で取得したスペクトルとテフロンのFTIRスペクトルがよく一致します。シリカ欠陥およびシリコン基板上で取得された PiF-IR スペクトルと、シリカ (オレンジ) の FTIR スペクトル (b)。これも同様に、欠陥で取得したスペクトルとシリカのFTIRスペクトルがよく一致します。
IRライブラリ対応
究極の分光ナノスコピーPiFM・PiF -IR
サブ5 nm のIR 空間分解能
単一分子レベルの感度を実現
仕様
ステージと走査 | サンプルステージ移動領域:200mm x 200mm square |
---|---|
走査サイズ:120 μm x 120 μm | |
デュアル Z フィードバック: 600 nm 高速スキャナー付 12 μm z-スキャナーが高帯域かつ広いz軸範囲の両方で走査 | |
機能性 | イメージングモード:Non-contact AFM, PiFM, KPFM, cAFM, nano DMA, FvD (力 vs 距離) マッピング. |
分光モード:PiFm-IR, FvD | |
PiFレーザーオプション:QCL (770 – 1840, 1995 – 2395 cm−1), OPO/DFG (590 – 2050, 2250 – 4400, 5000 – 7000 cm−1). | |
デプスプローブ(IR):表面モードでは20 nm、バルクモードでは100 nm 超 | |
物理的要件 | テーブルサイズ:1.2 m × 1.8 m (4 ft × 6 ft)光学ブレッドボード推奨 |
筐体:300mm×200mmのアクセスドアにより、熱ドリフトを最小化。エンクロージャはケーブルを外すことなく取り外し可能。 |
AFM-IR PiFM の仕組みと原理
PiFM ナノスケール赤外分光イメージング装置 [光誘起力顕微鏡]仕組みと応用例
PiFM・PiF-IR機器
AFM-IR 装置 Vista 75, IR-PiFM / PiF-IR
AFM-IR装置 Vista One, IR-PiFM / PiF-IR
12インチ(300 mm)ウエハ対応 AFM-IR装置 Vista 300 PiFM / PiF-IR
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