世界初、マスクレス微細加工のための2光子グレースケール・リソグラフィシステム。屈折型、回折型マイクロ光学素子製造のための最先端装置。

• 高速 2.5次元微細加工
• 非常に滑らかな表面、優れた形状精度
• サブマイクロメートル分解能
• ボクセルサイズを完全かつ超高速で制御
• 自動処理：較正、ジョブ実行、モニタリング等
• 基板-樹脂の多彩な組み合わせ
• ジョブキューで様々な造形ジョブ連続実行
• インタフェース：タッチスクリーン、リモートコントロール

Nanoscribe（ナノスクライブ）社の Quantum X は、工業生産プロセスにおけるプロトタイプやマスターの製造用に設計されたマスクレス・リソグラフィシステムです。マイクロ光学素子やマイクロレンズアレイ、マルチレベル回折光学素子（DOE）を、形状を自由に製造できます。

Quantum X は世界初の2光子グレイスケールリソグラフィ（2GL®）システムで、グレイスケールリソグラフィの高い性能と、Nanoscribeによる先駆的な2光子重合技術の高い精度と柔軟性を兼ね添えたシステムです。

この新しい微細加工システムは、形状精度が高く非常に滑らかな表面をもつ複雑な形状の光造形で求められる、高速、完璧な設計自由度、高精細を提供します。迅速かつ正確な光造形プロセスにより、設計の反復サイクルを劇的に短縮でき、費用対効果の高い微細加工を達成します。

2光子グレイスケール・リソグラフィ

2光子グレイスケールリソグラフィ（2GL）は、積層の微細造形と超高速のボクセルサイズ調整を組み合わせたものです。この画期的な技術は、スピードや精度を犠牲にすることなく、高速、正確、自由形状の微細加工を実現します。

Quantum Xは、高速での同期レーザパワー変調を用いて、1つの走査面に沿ってボクセルサイズを制御します。このようにして複雑な形状が成形され、１つのスキャンフィールドでさまざまな形状高さを造形します。 追加のリソグラフィ工程やマスク製造不要で、離散的で正確なステップと、本質的に連続なトポグラフィを最大６インチウェハ基板上にプリンティングできます。
 
 
 
 
 
 

Quantum X ウィザードは、プリンティングジョブの作成をガイドします。付属ソフトウェアは、2GLで直接造形するための、最大32ビット解像度のグレースケール画像を受け入れます。 2Dおよび2.5Dの回折および屈折マイクロオプティクスは、滑らかな表面と高い形状精度で実現します。