発振波長1550-1570 nm からご指定, 平均出力パワー1 W / 1.5 W。ツリウムファイバレーザーのポンプ用 高安定性 CW レーザー光源に最適

S neox Five Axis 5軸ステージ付き白色干渉計は、高精度回転ステージモジュールと白色干渉計 高速・多機能モデルS neox の高度な検査および解析機能を組み合わせています。これにより、指定された位置・角度で自動的に3D表面形状測定を行い、完全な3D形状計測が可能になります。

長寿命LEDを搭載した光散乱原理の濁度計。過酷な環境下でもメンテナンスフリーで使用することのできる堅牢なデザインです。

境界層や壁面流、噴霧の可視化 / PIVに適した非コヒーレント光特性のレーザーです。鏡面やメタルの反射が低く、金属面などの照明に最適です。最大50 kHzの繰り返しが出来るパルス発振により、ハイスピードカメラの撮影コマ数に関係なく一定の明るさで撮影が可能です。

Fura-2カルシウムイメージング用に特化したLED光源。ランプ光源で実現できない高出力、高安定性、素早い波長切替を実現します。

オフィール社の豊富なセンサに対応するディスプレイまたはコンピュータインターフェース。業界最高の校正精度、高性能、優れた操作性。使い勝手抜群のユーザーフレンドリーなレーザパワー/エネルギ測定用ソフトウェア。サンプルコマンド公開により、COMオブジェクトやLabVIEWなどユーザーが自由かつ容易にプログラミング可能。

生産ライン近くの分析室や分析ラボ向けのスタンドアローンLIBS元素分析装置
スラグ、コンクリート、金属などの迅速分析や元素マッピング分析に最適

Hi’Res-Cプローブはシリコンプローブよりも汚染が少なく、より多い枚数の高解像度スキャンの実行が可能です。Hi’Res-Cは微小領域 (< 250 nm) の走査や、平坦なサンプル (Ra < 20 nm) の測定で顕著に能力を発揮します。*本プローブは先端の曲率半径が小さいため、先端とサンプルの相互作用力は小さくなります。

信頼性が高く、コンパクトで多用途、費用対効果の高いパッケージの高エネルギー超短パルスレーザーです。 IR, Green, UV波長出力可能。

優れた直線性と温度特性。静的な変位測定のスタンダードモデル。

平均出力パワー 最大20W、4波長同時出力、フルカスタマイズ可能、波長域257nmから最大4000nmまでの範囲で選択可能、繰返し周波数 2 MHz

革新的なファイバアンプ技術によるコンパクト、ハイパワー、高エネルギー、高繰り返しのフェムト秒/ピコ秒ファイバレーザー。パルス幅 最短 500 fs – 10 ps、繰返し周波数 single shot to 40MHz、最大平均出力 100W、最大パルスエネルギー 500 µJ。

8インチ（200mm）ウエハをそのままサンプルステージに乗せてAFM-IR測定を実施できる大型サンプル対応モデルです。8インチウエハだけでなく、152mmのフォトマスクサンプルにも対応します。高空間分解能のケミカルイメージングのほか、ナノスケールIR分光により、ナノ異物分析にも対応します。IRライブラリにも対応します。

高出力（最大10W）で狭線幅（sub-kHz）の単一周波数レーザー。周波数変換により波長ラインナップが増えました。位相と強度の両ノイズを抑制。TEC搭載。ルビジウム、ストロンチウム、バリウム、イッテルビウムの波長に正確に対応でき、最先端の量子アプリケーションに最適です。

超高速のアナログ・デジタル変調を可能な半導体レーザー　紫外375～赤外1550 nm 範囲　最大出力300 mW

あらゆる原子・分子分光に好適なパルス色素レーザー。370～920 nm

1つの小型筐体に複数のレーザモジュール（355～1550 nm）を格納。2, 4, 6波長を高効率ファイバ出力。最大出力パワー1W。

ナノインプリントにおける樹脂硬化方式/プレス⽅式/加圧方式の組み合わせを選択可能。かつレトロフィットを可能にしたR&D専用装置。ナノインプリント・プロセス応用を伴う研究開発を加速します。

数百TW (テラワット) からPW (ペタワット) 級の大出力チタンサファイアレーザーの励起に理想的な小型高エネルギー Nd:YAGレーザー。最大12J＠532nm。繰返し5Hz。パルス幅 12ns。

レーザーマーキングシステムへの搭載用レーザーマーカー。独立型＆コンプリートシステムで他のアセンブリラインや特殊マシンへの組み込みにも最適。

クリーンルーム対応。高い柔軟性を持つ装置組込み用顕微鏡ヘッド。さまざまなアプリケーションに適合します。ISO Class 1及びESDの規格に対応。

金属単結晶・酸化物単結晶・合金単結晶試料の高品質品を高精度加工

ピコ秒レーザー加工、OEM組込みに最適なモードロック・ダイオード励起Nd:YVO4レーザー。透明材料を含む多彩な素材の非熱加工や、高繰り返し周波数、ピコ秒パルスによる高速加工、精密加工に最適。SHG, THG可。最大平均出力50W、最大繰返し1MHz、パルス幅15ps、最大パルスエネルギー300 μJ

オンライン・インラインLIBS元素分析システム。製造ラインにおけるリアルタイム元素分析。代表的応用例は異材混入の防止（鉄鋼製造）PMI、製造プロセスにおけるオンライン元素モニター、ベルトコンベヤ上の各種原材料（石炭、鉱石、焼結体、塩、スラグなど）のオンライン分析等が可能です。