実体顕微鏡下での手作業に最適なマイクロ・ハンドディスペンサ

S neox Five Axis 5軸ステージ付き白色干渉計は、高精度回転ステージモジュールと白色干渉計 高速・多機能モデルS neox の高度な検査および解析機能を組み合わせています。これにより、指定された位置・角度で自動的に3D表面形状測定を行い、完全な3D形状計測が可能になります。

高濃度対応 インラインSS（浮遊物質測定）・濁度　計測
後方光散乱方式採用
過酷な環境下でもメンテフリーで使用可能な堅牢デザイン

インライン用の吸光光度計。プロセスの濃度・色測定に最適。
過酷な環境下でもメンテナンスフリーで使用することのできる堅牢なデザイン。

BeamWatch™ ビームウォッチ 非接触・集光スポット径・ビーム位置計測ビームモニタリングシステム。測定パワー範囲 400W – 100kW。波長 980-1080 nm

非接触・非破壊で表面の微細形状、面粗度、粗さ、薄膜計測などの3D形状を測定することができる装置組込み用の顕微鏡ユニット 。白色干渉計および3Dレーザー顕微鏡に代表される共焦点顕微鏡技術を搭載。

GEMINIは、入力光を2つのレプリカ間の時間遅延を制御することにより、比類のない精度と再現性を提供する究極の干渉計です。FTIR分光計と同様に、同梱のドライバーおよびソフトウェアと組み合わせて使用して、フーリエ変換アプローチに基づいて入力光（コヒーレントまたはインコヒーレント光源）のスペクトルを測定できます。

CWレーザー測定対応。波長精度 最高±0.0001nm。1台で波長測定＆スペクトル分析が可能。可視光(VIS)から中赤外(MIR)領域まで (375nm to 12μm) の波長域をカバー。マイケルソン干渉計ベース。パルスレーザー(>50kHz)の測定が可能。

高性能短波長赤外カメラ。超低ノイズ&高いダイナミックレンジ。幅広い用途で使用可能なInGaAsセンサベースSWIR。200 fps。液体窒素不要。

ピコオーダ、超高速(10MHz)、長作動距離(最大5m)、多様な材質や極端環境（超高真空、高磁場）に対応する変位測定干渉計【レーザー干渉式変位センサ】

オンライン・インラインLIBS元素分析システム。製造ラインにおけるリアルタイム元素分析。代表的応用例は異材混入の防止（鉄鋼製造）PMI、製造プロセスにおけるオンライン元素モニター、ベルトコンベヤ上の各種原材料（石炭、鉱石、焼結体、塩、スラグなど）のオンライン分析等が可能です。

世界最高精細の光造形装置。迅速かつ超精密の微細加工を実現。

シリコンナイトライドカンチレバー・チップのガラスホルダーチップの両側に2つ配置。用途としてソフトコンタクトモードで使われます。

レーザー加工の幅広い要求に柔軟に対応、カスタマイズ性、信頼性、品質に優れたレーザー加工ヘッドです。

コンパクトで使いやすい高速・高感度テラヘルツセンサー。パイロエレクリック技術ベース。スペクトル範囲 0.1 – 30 THz。高速応答 ～2.5kHz。高感度(～2 kV/W)、低ノイズ。 パルス（QCW）操作。検出部サイズ 5mm径。

非接触大型AFM-IR装置 PiFM 半導体向け200㎜ x 200㎜のウエハをそのまま測定可能です。

位相イメージングは、異種材料や特性の不均一性を持つサンプルにおいて、ナノスケールの違いをイメージングするために用いられるAFM技術の一つです。位相コントラストは、チップとサンプル間の相互作用に基づきますが、これらの相互作用は、スキャンパラメーターや、イメージングの測定モード（原子間力の引力領域か斥力領域で捜査しているかなど）に依存します。O’DeaとBurratoは、位相イメージングを使用して、Nafion膜のプロトン伝導ドメインをマッピングしました。彼らは、先端とサンプルの間の特定の相互作用力がプロトン伝導ドメインの分解能に大きく影響することを発見しました。斥力レジームでのイメージングにより、ドメインの面積が大きめに表示され、ドメインの数が少なめに表示されました。引力領域でのイメージングにより、水やフルオロカーボンのドメインが最も正確に測定できました。AFMのフィードバックループが最適化されていない場合、またはカンチレバーが共振周波数を超えて駆動していた時、位相イメージングは組成の違いではなく、形状の変化に対応するイメージになりました。

2次元のXY偏向ユニットにZ軸を追加し、3次元加工に対応した3D偏向ユニットです。小スポット径で最大2,000 mm x 2,000 mmもの広いスキャンエリアを処理できます。

信頼性が高く、コンパクトで多用途、費用対効果の高いパッケージの高エネルギー超短パルスレーザーです。 IR, Green, UV波長出力可能。

フォトニック集積回路向けマルチチャンネル・ソース測定機器（SMU）です。XPOW は複数の電圧/電流の印加と電圧/電流の測定が可能です。高い汎用性でシンプルな電子回路から複雑なフォトニック集積回路まで、低消費電力の用途にて最適です。また、 XPOWのアップグレード版で、より高速なXDAC はユニポーラ、バイポーラ、ディファレンシャルなど、柔軟なチャンネル出力が可能です。

ナノ秒レーザー加工、OEM組込みに最適。金属、プラスチック、セラミック、ガラスなど多彩な素材に適用できる高い平均出力：最大200W。1064 nm or 532 nm。繰り返し 1-100 kHz, CW

QスイッチDPSSレーザー　ナノ秒の短パルス　5ns でパルスエネルギーはmJ。24時間365日運用可能な高信頼性のレーザー。空冷コンパクトで超微細レーザー加工、精密なレーザー加工に最適です。

CrabiAFMは、コンパクトで低価格な簡易原子間力顕微鏡（AFM）です。リサーチ用途、ナノ教育、またはすでにAFM経験をお持ちの方のサブ機として最適です。

高ピークパワー 750μJ @10kHz(1064nm)、300μJ @10kHz(532nm)。パルス幅 約4ns