リアルタイムで質量変化と粘弾性、膜厚を分析高性能で低価格

レーザースペックル低減とビームの均一化が可能.。可動式のディフューザー（拡散版）によるレーザースペックルリダクター。過酷な環境でも使用可能な堅牢設計。高q-factorで低消費電力。振幅範囲 800μm。

噴霧映像をから広がり角度や拡散パターンを解析

オンライン・インラインLIBS元素分析システム。製造ラインにおけるリアルタイム元素分析。代表的応用例は異材混入の防止（鉄鋼製造）PMI、製造プロセスにおけるオンライン元素モニター、ベルトコンベヤ上の各種原材料（石炭、鉱石、焼結体、塩、スラグなど）のオンライン分析等が可能です。

Hi’Res-Cプローブはシリコンプローブよりも汚染が少なく、より多い枚数の高解像度スキャンの実行が可能です。Hi’Res-Cは微小領域 (< 250 nm) の走査や、平坦なサンプル (Ra < 20 nm) の測定で顕著に能力を発揮します。*本プローブは先端の曲率半径が小さいため、先端とサンプルの相互作用力は小さくなります。

ナノ粒子のSEM・TEMまたはAFM観察を容易にするサンプル・プレパレーション装置。
分散溶媒中に溶かしたナノ粒子を、静電噴霧でSi基板やカーボン蒸着膜基板へ分散塗布します。

高真空・超高真空対応プローブ。低アウトガス・高安定性・非磁性対応可能。

波長244～4500nmで光強度＆位相を変調。高安定性・低電圧・高速

微細加工向けフェムト秒ファイバレーザー。きわめて高い堅牢性と優れた安定性。クリーンな超短パルスにより非熱加工を実現。波長1030nm、平均パワー10W、可変パルス幅　450f~2ps

ピコオーダ、超高速(10MHz)、長作動距離(最大5m)、多様な材質や極端環境（超高真空、高磁場）に対応する変位測定干渉計【レーザー干渉式変位センサ】

PER (偏光消光比) 範囲 50dB。ブロードバンド光源のPERを直接計測可能。1ch. or 2 ch.

種々のコンポーネントやアプリケーションに柔軟に対応できる製品を多数ラインナップ

光パワーの保持率98%以上で、ガスまたは粒子の充填が可能。センシング、イメージング、超短パルスアプリケーションに最適。

パワフルで精密なピコ秒ダイオードレーザードライバー、5年間保証の安心品質。繰り返し周波数 1 Hz ～ 100 MHz。バーストパターン、パルス＆CWモードを設定可能

オールインワンデザインの高エネルギー120mJ 波長チューニング出力システム。210～3450nm。繰り返し周波数10 or 20 Hz。パルス幅 5-7ns。

高い表面精度と可視光透過率で優れた視認性

高いスキャナー性能を持つハイエンドAFMです。老舗AFMメーカのハイエンド品並みの測定品質ながらリーズナブルな価格に抑え、非常にコストパフォーマンスの高いAFMになっています。通常のAFMとしての機能のほか、電気特性測定（KFM、C-AFM)などに強みがあります。

シリコンナイトライドカンチレバー・チップのガラスホルダーチップの両側に2つ配置。用途としてソフトコンタクトモードで使われます。

カスタム顕微鏡対物レンズを設計の経験からOEMを含めた最適な対物レンズを提供します。高NA開口部、広視野角、長作動距離、特殊材料制約に対応。多光子顕微鏡、共焦点顕微鏡、超解像顕微鏡、液浸顕微鏡、
STED顕微鏡、生細胞蛍光顕微鏡、深部組織イメージング、超解像顕微鏡、ボーズ=アインシュタイン凝集実験などで活用されています。

乾式測定における試料分散性能と測定再現性に優れており、凝集しやすい試料でも安定して測定できます。世界各国に多数の納入実績があり、製薬、化学、磁性体、食品などの様々な業界で採用されています。（測定範囲: 0.1～3500 µm）

レーザーイオン生成及びプラズマ相互作用のためのレーザーモニタ・評価。TNSAベースのパワフルツール。E_Proton = 4 – 5 MeV (cut-off)

流れの可視化光源に適した非常にコンパクトな筐体のレーザー

1台で最大 ~1000cm^-1 のチューニング範囲をカバーする CW & パルス中赤外量子カスケードレーザー（QCL）

量子相関と蛍光測定に特化したソフトウェアを提供。FLIM、FLIM-FRET、FCS、FCCS、FLCS、同時計測、蛍光タイムトレース分析等に対応しています。QuCoa、SymPhoTime 64 、EasyTau 2のすべてのデモ機ご用意しております。