製品情報
汎用テラヘルツ・イメージングシステム TeraEyes-HV
汎用性の高いリアルタイム・テラヘルツ・イメージング・システムで、高解像度アプリケーションに好適。25 FPS。2~5 THz範囲で最大6つのQCLチップを搭載可能。高解像度 最小 250 µm。複数の照明オプション。1クリックで簡単光学構成(反射/透過)。
Opto-Mechanics製品
ニューポートの光学マウントは、他社には無い高い安定性を持ち、多種多様のモデルを数多く揃えています。ニューポート社製 Opto-Mechanics製品の詳細は、専用サイトをご参照下さい。
Qスイッチ半導体励起固体レーザー“CL200シリーズ”
高い安定性・高繰返し・コンパクト。3波長ラインナップ(1064, 532, 355 nm)。最高22W出力 CW。繰返し周波数 1-100kHz / 20-250kHz。最小パルス幅 6nsのショートパルスタイプをご用意。
1342 nm 671 nm 447 nm LD励起固体 Qスイッチ レーザー“IDOLシリーズ”
1342 nm 671 nm 447 nmでのQスイッチレーザー。平均出力1.5~4W。レーザー微細加工、シリコン加工、ステルスダイシング、ディスプレイ修理などにご利用いただけるレーザーです。
多機能 偏波コントローラ “MPC-201 & MPC-202”
独自の偏光コントロール・アルゴリズムを搭載した高性能偏光コントローラで多彩なコントロール機能を獲得。種々のSOPスクランブリングやSOP変調が可能。コヒーレント・レシーバ性能評価に最適。
光 / 電気コンバータ
高帯域、広帯域の光-電気変換器を様々な構成でご提供できます。1チャンネルまたは2チャンネル、ACまたはDCカップリング、さまざまな変換利得と動作波長範囲から選択いただけます。
スペックル低減 最大5波長 高出力レーザーコンバイナ“BrixXHUB”
最大5波長のDPSS / LDレーザーモジュール(375~808 nm)をコンパクトパッケージに格納。1波長当り最大2500mW
コントローラー内蔵 超小型CWレーザー“LuxX+ シリーズ”
バイオテクノロジーや工業用途に最適な小型のワンボックスデザイン。紫外375nm~赤外1550nm 36波長。最大300mW出力。高速変調機能付き。
厚膜ポジティブ/ネガティブ・トーン・フォトレジスト
400nm近傍の波長に感度を有する厚膜フォトレジスト。マスクレス・リソグラフィのアプリケーションを拡げます
独自の単一分子感度 時間分解型共焦点蛍光顕微鏡 MicroTime 200
独自の単一感度を持つ時間分蛍光顕微鏡。最大で6つの個別チャンネル検出が可能。蛍光寿命イメージング(FLIM)、FLIM/FRET、深部組織FLIM、PIE、FCS/FCCS、FLCS/FLCCS、二重焦点FCS、スキャニングFCS、異方性、バースト解析等が可能。2DおよびDイメージング用のピエゾスキャンに対応。
3D形状・表面粗測定 ソフトウェアパッケージ
3D形状や表面粗さを測定、解析するための直感的で使いやすいソフトウェアパッケージを装置とセットで提供しています。
AMPHOS 高出力ピコ秒レーザーシステム 一覧
最大1000W、mJエネルギー出力。繰返し 最高100MHz。フェムト秒~ピコ秒パルスのコンパクト、堅牢、高安定性なターンキーシステム
溶接の可視化装置 VisiWeld
溶接のアークや炎の光の中を可視化する溶接可視化システム
MicroSense 8800 シリーズ 静電容量変位センサ
優れた温度特性と高分解能を実現。制御用途でのフィードバックセンサに最適。
高ピーク出力 QスイッチDPSSレーザー “CP450シリーズ & CP460シリーズ”
QスイッチDPSSレーザー ナノ秒の短パルス 5ns でパルスエネルギーはmJ。24時間365日運用可能な高信頼性のレーザー。空冷コンパクトで超微細レーザー加工、精密なレーザー加工に最適です。
基板用 高速レーザー欠陥スキャナー ATシリーズ
Lumina Instruments社のATシリーズは、ガラス基板、半導体基板、ディスプレイ基板などの基板の欠陥を可視化する欠陥検査イメージング装置です。高速での測定とnm単位の高いPSLパーティクル感度を実現。
偏光モード分散のデジタルエミュレータ “PMD-1000” 【General Photonics】
PMD-1000は、フレキシブルなデジタルPMDソースです。1次の偏波モード分散を 180ps まで、2次の偏波モード分散を 8100ps まで精密に生成します。
疑似連続オペレーションモードにより、独立した1次と波長に依存しない2次の偏波モード分散の生成を可能にします。
PMD-1000は3つの高速光磁クリスタルを用いてPMDを生成します。
PMDの切り替え時間はわずか1ミリ秒程度で、市販されているどのPMD生成器よりも高速です。
材料プロセス用 ナノ秒DPSSレーザー
ナノ秒レーザー加工、OEM組込みに最適。金属、プラスチック、セラミック、ガラスなど多彩な素材に適用できる高い平均出力:最大200W。1064 nm or 532 nm。繰り返し 1-100 kHz, CW
高性能サーモグラフィ “VarioCam HD head” シリーズ
高解像度、高分解能、高精度のサーマルイメージを得ることができる高性能サーモグラフィ
卓上型ディスペンシング・ロボットシステム Twin-air® EDシリーズ
卓上型ディスペンシング・ロボットシステム。XYステージ付きシステム。1nL(ナノリットル)以下の滴下、細線描画を実現。オートアライメント・ノズルギャップ自動補正機能を標準搭載 Twin-air®
スタンドアローン型OPOモジュール”Magic PRISM”
355 nm, 532nm, 420~1700nm, 繰り返し周波数 10, 20 Hz。様々なナノ秒Nd:YAGポンプレーザーと組み合わせ可能。OPOTEK社独自のコンパクトなスタンドアローン型OPOモジュール。
偏波コントローラ・スクランブラー
1260nmから1650nmの広い波長域をカバーし、低挿入損失、低背面反射を可能にする高速自動偏光制御とスクランブリングを実現しています。
ブルーレーザー 金属加工向け BLシリーズ / ファイバ伝送型 BL-Fシリーズ
ブルーレーザーは金属への高い吸収率から金属加工にとって理想的なレーザーです。波長~444nm。BLシリーズ(125W, 250W)とBL-Fシリーズ(125W, 250W, 500W, 1000W)をご用意しています。汎用的なガルバノスキャナとの一体化が可能。はんだ付け、ワイヤなど、薄い銅またはアルミニウム板の接合・溶接に最適です。赤外線レーザーやグリーンレーザーよりも優れた効率で金属加工を行うこと可能です。
超小型 高分解能 フォーカスモジュール “M3-FS, M3-F ”
超小型で高分解能(0.5μm)のレンズ位置制御と双方向再現性を実現したフォーカスモジュールです。クローズドループ制御で外部コントローラボードが不要。機器への組込みが容易なモジュールです。組込み用途でご使用いただけます。開発キットもご用意いたしております。