オプトジェネティクス（光遺伝学）用途に特化。473nm、561nm/594nmレーザーをワンパッケージ化。最大出力150mW＠561nm。変調機能付き。

527nm ナノ秒DPSSレーザー.Beamtech Optronics. Tolarシリーズは、DPSS EO-Qスイッチナノ秒DPSSレーザーです。 最大エネルギー 50 mJ @ 1kHz, パルス幅 < 160 ns。

光源や光学部品の PMD, PDL 等 偏光特性を測定。光磁気結晶を用いた特許デザインで高い精度と再現性を達成

ピコ秒レーザー加工、OEM組込みに最適なモードロック・ダイオード励起Nd:YVO4レーザー。透明材料を含む多彩な素材の非熱加工や、高繰り返し周波数、ピコ秒パルスによる高速加工、精密加工に最適。SHG, THG可。最大平均出力50W、最大繰返し1MHz、パルス幅15ps、最大パルスエネルギー300 μJ

最大出力パワー 400W。最大パルスエネルギー 15mJ。OPCPAポンピングや材料加工に好適。

完全インライン向けLIBSシステム。20kHzの超高繰返し測定（カスタムで100kHzまで可）

音響光学デバイスによる短パルスレーザー発振用Qスイッチデバイス。様々な結晶素材で多様なアプリケーションに対応

2次元のXY偏向ユニットにZ軸を追加し、3次元加工に対応した3D偏向ユニットです。小スポット径で最大2,000 mm x 2,000 mmもの広いスキャンエリアを処理できます。

1台で最大 ~1000cm^-1 のチューニング範囲をカバーする CW & パルス中赤外量子カスケードレーザー（QCL）

ニューポート社は、位置決め装置（モーションコントロール）の精密機械設計と製造に50年にわたって携わり、その豊かな経験と専門性を背景に、非常に多彩なラインナップを展開しています。

PER (偏光消光比) 範囲 50dB。ブロードバンド光源のPERを直接計測可能。1ch. or 2 ch.

コンパクトで安価な組込み用の半導体レーザー電源

波長 320, 349, 532, 640, 780 nm、狭線幅 (< 0.5 MHz)、非常に小さい強度ノイズ (< 0.1% RMS)、回折限界 TEM00 ビーム。 独自の光学アーキテクチャとハーメチックシールドパッケージにより、長期間にわたって非常に安定した動作と性能を保持します。要件の厳しい組み込み用途で高い堅牢性と耐久性を発揮します。また、高い精度、安定性、スペクトル純度が求められる、ラマン分光、干渉実験、ホログラフィ、量子技術開発など、高度な研究用途にも最適です。

ミニマル規格^※に準拠。コンパクトで可搬型ながら高解像度パターン観察を実現した、測長機能付SEM
（※「ミニマル」は独立行政法人産業技術総合研究所の登録商標です。）

※デモ機あり、サンプル測定可能 高精度 （±0.1 μm）、12μm から 80mmの広い範囲が測定可能な膜厚計（厚み計）です。独自の非接触光学技術を採用。硬質材料と軟質材料の両方を、損傷や変形なく厚さ測定をすることができます。最大31層の厚みを同時に測定することが可能です。

堅牢で信頼性の高い汎用なソリューション。時間とコストの節約に。

破片粒子の少ないレーザー切断を実現。リチウムイオン電池の電極加工に好適。

窓材に熱歪みがなく、透過光(レーザー)の偏光・歪み・散乱を抑制した高精度測定を実現。加速器関連など高精度透過を必要とする全ての実験・開発用の真空窓に。

極微量滴下を可能にしたツインエアー方式。独自技術のセルフサックバックで液だれ、濡れ上がり無し

高速トランレシーバなどのPDL誤差計測やPDLトラッキング速度の定量化などPDL関連の検査・計測に最適なPDL発生＆エミュレータ

レーザー干渉を利用した厚さ測定装置。厚膜(1～500μm)測定用。小型・高速・高精度

感度と解像度、撮影速度に特徴のあるラインナップをご用意。計測対象に合わせて多彩なPIVカメラから選択可能

3つのモデルからアプリケーションのニーズに合わせてお選びいただけます。波長213nm/266nm/355nm/532nm/1064nmより選択可能。最大パルスエネルギー 650μJ, 最大平均パワー 2W, 繰返し周波数 1kHz。

単一光子検出共焦点蛍光顕微鏡。最高のデータ品質と使い易さを兼ね備えた蛍光顕微鏡です。自動化により測定時間を短縮を実現。実験室に簡単にインストールいただけます。