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320nm & 349nm 単一周波数 CW DPSSレーザー NXシリーズ
波長 320, 349, 532, 640, 780 nm、狭線幅 (< 0.5 MHz)、非常に小さい強度ノイズ (< 0.1% RMS)、回折限界 TEM00 ビーム。 独自の光学アーキテクチャとハーメチックシールドパッケージにより、長期間にわたって非常に安定した動作と性能を保持します。要件の厳しい組み込み用途で高い堅牢性と耐久性を発揮します。また、高い精度、安定性、スペクトル純度が求められる、ラマン分光、干渉実験、ホログラフィ、量子技術開発など、高度な研究用途にも最適です。
Skylark Lasers NX 単一周波数 CW C-DPSSレーザー
Skylark Lasers（スカイラーク・レーザー）社のNXシリーズは、独自の光学アーキテクチャによる、コンパクトで安定性に優れた、単一周波数 ダイオード励起固体（DPSS）レーザーです。システム統合や要件の厳しいフィールド用途や、ラマン分光、干渉実験、フローサイトメトリー、リソグラフィ、量子研究など最先端の研究用途にも最適です。
- 非常に狭いレーザー線幅：< 0.5 MHz
- 高い波長安定性：± 0.2 pm（8時間超）
- 高い出力安定性：< 2 %（8時間超）
- 省スペース＆高性能
- 低パワーノイズ：< 0.1 % RMS (10 Hz - 10 MHz)
- ターンキーシステム：オンライン診断・保守
高品質な深紫外光を形成するSkylark Lasers NXコア技術
Skylark Lasersの単一周波数 CW DPSSレーザー NXシリーズには、非常に低ノイズな次世代モノリシック・オプトメカニカル・プラットフォームを採用しています。これにより、超小型パッケージでも、非常に波長純度の高い光を出力できます。NXシリーズはモデルによって、UV～NIRの単一波長（320, 349, 532, 640, 780 nm）を出力します。いずれも堅牢で非常に安定性の高いレーザーです。
高い安定性
モノリシック・アーキテクチャにより、光学コンポーネント間の移動がなく、落下や衝撃にも耐える堅牢で耐久性の高い設計を実現しています。要件の厳しいフィールド用途でも信頼性の高いパフォーマンスを維持します。
高出力
異なる光学コンポーネントをシームレスに接合することで、互いの面の間での反射損失を低減し、数センチメートルの空間内で、従来の10倍にも及ぶ、数百mWの深紫外光を出力できます。
長期間安定性
UVレーザー固有の不安定性に対処するため、NXプラットフォームにおける表面相互作用を最小限に抑え、高エネルギーのUV光子の悪影響からコンポーネントを保護して劣化と汚染を軽減しています。その結果、長期にわたる高い信頼性とメンテナンスフリーの長寿命を実現しました。
省スペース
NXプラットフォームは、光学レイアウトを最適化するため、分子内力を応用した「かみ合う」ような素材で構成されています。これにより、光学部品の表面間に強力な結合が形成され、省スペースな筐体でも、低ノイズでより純度の高いスペクトル特性を備えた、ハイパワーな光を生成できます。
320 NX／349 NX 320nm／349nm 単一周波数 CW DPSSレーザー
波長320nmm（320 NX）または349nm（349 NX）、最大出力パワー200mWで、ラマン分光、ブリルアン散乱、フローサイトメトリー、光学操作、干渉実験、半導体検査、ウェハ製造、リソグラフィ、共焦点顕微鏡、バイオメディカル/生体工学、蛍光実験、ディスクマスタリング、光学格子マスタリング、回折格子マスタリング、高精度光学などに好適です。
532 NX 532nm 単一周波数 CW DPSSレーザー
波長532nm、最大出力パワー2Wで、ラマン分光、ホログラフィ、ブリルアン散乱、ライフサイエンス、測量用途に好適です。
640 NX 640nm 単一周波数 CW DPSSレーザー
波長640nm、最大出力パワー1.5Wで、ホログラフィ（ホログラフィックイメージング、ホログラフィックアート、ホログラフィック干渉など）、ラマン分光、蛍光実験に好適です。
780 NX 780nm 単一周波数 CW DPSSレーザー
いずれもSkylark Lasersサイトへ遷移します。
フォトルミネッセンス
ラマン分光
ホログラフィ
リソグラフィ
フローサイトメトリ
半導体検査
光グレーティング・マスタリング
| モデル名 | 320 NX | 349 NX | 532 NX | 640 NX | 780 NX |
|---|---|---|---|---|---|
| 波長 | 320 nm | 349 nm | 532 nm | 640 nm | 780 nm |
| 光出力（固定値） | up to 200 mW | up to 200 mW | up to 2,000 mW | up to 1,500 mW | up to 200 mW |
| スペクトル幅 | ≤ 0.5 MHz | ≤ 0.5 MHz | ≤ 0.5 MHz | ≤ 0.5 MHz | ≤ 0.3 MHz |
| 横モード | TEM00 | TEM00 | TEM00 | TEM00 | TEM00 |
| 発振モード | CW, SLM | CW, SLM | CW, SLM | CW, SLM | CW, intracavity-locked SLM |
| スペクトル安定性（8時間超） | ± 0.2 pm | ± 0.2 pm | ± 0.2 pm | ± 0.2 pm | ± 0.2 pm |
| 出力パワー安定性（8時間超、ピーク間） | ≤ 2.0 % | ≤ 2.0 % | ≤ 1.0 % | ≤ 1.0 % | ≤ 2.0 % |
| 出力パワーノイズ (10 Hz – 10 MHz) | ≤ 0.1 % RMS | ≤ 0.1 % RMS | ≤ 0.1 % RMS | ≤ 0.1 % RMS | ≤ 0.1 % RMS |
| ウォームアップ時間 | 5～30分 | 5～30分 | 5～30分 | 5～30分 | 5～30分 |
| 消費電力 | < 200 W | < 200 W | < 200 W | < 200 W | < 200 W |
| ビーム出射口の高さ | 65 mm | 65 mm | 65 mm | 65 mm | 65 mm |
| ビーム径＠出力開口 | 0.6 – 1.2 mm | 0.6 – 1.2 mm | 0.7 – 1.1 mm | 0.8 – 1.2 mm | 0.8 – 1.2 mm |
| ビーム拡がり角 | 1.0 mrad, 回折限界 | 1.0 mrad, 回折限界 | 1.0 mrad, 回折限界 | 1.0 mrad, 回折限界 | 1.0 mrad, 回折限界 |
| ビーム位置安定性 | ≤ 5 µrad/°C | ≤ 5 µrad/°C | ≤ 5 µrad/°C | ≤ 5 µrad/°C | ≤ 5 µrad/°C |
| コヒーレンス長 | > 100 m | > 100 m | > 100 m | > 100 m | > 100 m |
| 偏光比 | ≥ 100:1, vertical | ≥ 100:1, vertical | ≥ 100:1, vertical | ≥ 100:1, vertical | ≥ 100:1, vertical |
| レーザーヘッド外形, L x W | 240 x 150 mm | 240 x 150 mm | 240 x 150 mm | 210 x 100 mm | 210 x 100 mm |
| コントローラ外形, L x W x H | 238 x 170 x 54 mm | 238 x 170 x 54 mm | 245 x 170 x 54 mm | 238 x 170 x 54 mm | 238 x 170 x 54 mm |
| 使用環境温度 | 18 – 30 ℃ | 18 – 30 ℃ | 18 – 30 ℃ | 18 – 30 ℃ | 18 – 30 ℃ |
| レーザーインターフェイス安定性 | ± 1.5 ℃ | ± 1.5 ℃ | ± 1.5 ℃ | ± 1.5 ℃ | ± 1.5 ℃ |
| 保存環境温度 | 0 – 50 ℃ | 0 – 50 ℃ | 0 – 50 ℃ | 0 – 50 ℃ | 0 – 50 ℃ |
| 湿度 | 5 – 95 %, 結露なき事 | 5 – 95 %, 結露なき事 | 5 – 95 %, 結露なき事 | 5 – 95 %, 結露なき事 | 5 – 95 %, 結露なき事 |
