レーザー出力を無偏光化するデポラライザです。外部からの電源供給が不要なパッシブデバイスです。標準仕様ではコヒレンス長10mの光源まで使用可能です。数kmのコヒレンス長を持つレーザーのためにカスタムすることも可能です。

S neoxは多機能かつ高性能な機能をもつ組込み可能な3D測定センサです。共焦点・白色干渉計・焦点移動による3D表面形状測定加えて、膜厚測定ができ、幅広いアプリケーションに対応。自動3D測定が可能。

微細加工向けフェムト秒ファイバレーザー。きわめて高い堅牢性と優れた安定性。クリーンな超短パルスにより非熱加工を実現。波長1030nm、平均パワー10W、可変パルス幅　450f~2ps

世界最高精細の光造形装置。迅速かつ超精密の微細加工を実現。

4～11 μmのほぼ全域をカバーする多彩な波長ラインナップ。省スペースで高出力のCW or パルス中赤外量子カスケードレーザー（QCL）

ナノ秒レーザー加工、OEM組込みに最適。金属、プラスチック、セラミック、ガラスなど多彩な素材に適用できる高い平均出力：最大200W。1064 nm or 532 nm。繰り返し 1-100 kHz, CW

Lumina Instruments社のATシリーズは、ガラス基板、半導体基板、ディスプレイ基板などの基板の欠陥を可視化する欠陥検査イメージング装置です。高速での測定とnm単位の高いPSLパーティクル感度を実現。

高出力 MIR 中赤外 ナノ秒レーザー。ピークパワー 500kW, 平均出力 2 W。オールインワンで一体型のコンパクトな設計になっています。

非接触・非破壊で表面の微細形状、面粗度、粗さ、薄膜計測などの3D形状を測定することができる装置組込み用の顕微鏡ユニット 。白色干渉計および3Dレーザー顕微鏡に代表される共焦点顕微鏡技術を搭載。

PDT(Photodynamic Therapy: 光線力学療法)、PIT(Photoimmunotherapy: 光免疫療法)、PDD(Photodynamic Diagnosis:光力学的診断)などの実験・研究用途向けのマルチチャンネルデスクトップレーザー。最大4チャンネルまでレーザーが搭載可能。波長 375nm～ 1550nmに対応。

広いチューニングレンジ、高いパルスエネルギー、狭線幅のコンパクト・ナノ秒パルス・チタンサファイアレーザー。波長域690～1010 nm、最大出力パワー2.5 W or 6.8 W (モデル依存。ピーク波長)、線幅30～50 ns、繰返し周波数１～3 kHz または １～10 kHz｡

高濃度対応 インラインSS（浮遊物質測定）・濁度　計測
後方光散乱方式採用
過酷な環境下でもメンテフリーで使用可能な堅牢デザイン

新製品 Nimma-Lシリーズ をリリース（2022年7月） 最大 2000mJ @ 1064nm, 繰り返し周波数 1 – 100Hz, パルス幅 5 – 10 ns。コンパクトなナノ秒パルスレーザーで、LIBSやLIDAR等のアプリケーションに最適です。

最高の感度・精度・空間分解能・速度。測定パフォーマンスに優れた非常に小型で柔軟性の高い製品です。

汎用性の高いリアルタイム・テラヘルツ・イメージング・システムで、高解像度アプリケーションに好適。25 FPS。2~5 THz範囲で最大6つのQCLチップを搭載可能。高解像度 最小 250 µm。複数の照明オプション。1クリックで簡単光学構成（反射／透過）。

Optotuneでは革新的な光制御コンポーネントを提供しています：フォーカスチューナブルレンズ（焦点可変レンズ）、高速ステアリングミラー、レーザースペックルリデューサー＆ビームホモジナイザ、ビームシフトデバイス。

非常に多彩な波長ラインナップ・単一周波数モデル・低ノイズモデルなど幅広いタイプの半導体レーザー＆DPSSレーザー。375～1444nm。最大出力2500mW。

ファイバ出力レーザー製造で培われた高い光ファイバ技術。 400～875 nm。APC or PC。ジャケット選択可。

レーザースペックル低減とビームの均一化が可能.。可動式のディフューザー（拡散版）によるレーザースペックルリダクター。過酷な環境でも使用可能な堅牢設計。高q-factorで低消費電力。振幅範囲 800μm。

高解像度、高分解能、高精度のサーマルイメージを得ることができる高性能サーモグラフィ

365nm～660nmの波長＋白色のLEDモジュール。LEDチップのTEC温度制御による高い波長および出力安定性。マルチモードファイバーとリキッドライトガイドのカップリング対応可能。アナログ/デジタル変調最大500kH、スイッチング時間＜2μs、プログマブルPWM周波数（最大200kHz）発生器を内蔵。SYNC出力。

ナノ粒子のSEM・TEMまたはAFM観察を容易にするサンプル・プレパレーション装置。
分散溶媒中に溶かしたナノ粒子を、静電噴霧でSi基板やカーボン蒸着膜基板へ分散塗布します。

レーザー干渉を利用した厚さ測定装置。厚膜(1～500μm)測定用。小型・高速・高精度

粒度分布測定に関する受託測定やコンサルティングなど、様々なサービスをご提供いたします。