最大 2000mJ コンパクト ナノ秒パルスレーザー

Beamtech Optronics

最大 2000mJ @ 1064nm, 繰り返し周波数 1 – 100 Hz, パルス幅 5 – 10 ns。コンパクトなナノ秒パルスレーザーで、LIBSやLIDAR等のアプリケーションに最適です。

空冷 20 – 80 mJ Lapaシリーズ

  • 最大10億ショットの長いダイオード寿命
  • メンテナンスが容易な純粋な空冷
  • 正確なタイミングのEOQスイッチ
  • 最大80mJ @ 20Hz @ 1064nmパルスエネルギー
  • 複数の高調波オプション
  • 組み込みが容易なコンパクトサイズ
  • 24時間連続動作に最適

Lapaシリーズは、空冷式EOQスイッチタイプのDPSSレーザーです。 均一なポンピングやTEC等の革新的な技術により、ポータブルなナノ秒レーザーを実現しました。24時間の連続動作が可能で、理化学用途、産業用途、軍事用途の様々な分野に最適です。Lapaシリーズの励起光源は、低エネルギー消費、高効率、長寿命など、優れた機能を備えたダイオードレーザーです。すべての天候条件に非常に適しています。 また、TECの適用により、水を使用することなく作業の安定性を維持します。EOQスイッチにより、正確なタイミングでご使用いただけます。LapaシリーズはLIDAR、質量分析、LIBSなどのアプリケーションに最適です。
 

応用例

LIBS、LIDAR、LIF、レーザー超音波、質量分析

OEM向け産業デザイン 10 – 300 mJ Dawaシリーズ

  • 基本波長で10 mJ to 300 mJまでの出力をカバー
  • モジュール設計/簡単操作
  • 複数の高調波オプション
  • 長期間安定性のための産業デザイン
  • カスタマイズ可能

Dawaシリーズは、2007年にOEMシステムへの統合が可能な産業向けレーザーとして開発・設計されました。エネルギー範囲は50 – 300mJです。SHG, THG, FHGの利用が可能です。理化学用途・産業用途向けののデザインで、良質なビーム品質を保証します。光学シャッター、フローセンサー、電源インターロックなどの機能により、安全性を優先して使用できます。2014年、DawaシリーズはCE認定を取得しています。LIBS, LIDAR, LIF, PIVを含む多様なアプリケーションでご利用いただけます。
 

応用例

LIBS、LIDAR、LIF、レーザー超音波、スパークプラグ、クリーニング

小型モデル 400 – 2000 mJ Nimmaシリーズ

  • コンパクト設計
  • ビームプロファイラの高い均一性
  • 長期間の運用を保証する産業デザイン
  • 高いSHGおよびUV効率
  • さまざまな環境への耐性
  • システム統合が容易

Nimmaシリーズは、中エネルギーを範囲としたQスイッチタイプのナノ秒Nd:YAGレーザーです。 基本波長で400 mJ – 2000 mJまでのエネルギーをカバーします。 このシリーズは、コンパクト、優れたポインティング安定性、高エネルギー安定性、高い信頼性を特徴としています、SHG、THG、FHGの利用が可能です。Nimmaシリーズは、マルチモードとVRMモードの2種類がございます。理化学用途・産業用途向けのデザインにより、優れたビーム品質を保証します。 光学シャッター、フローセンサー、電源インターロックなどの機能により、安全を最優先に使用できます。多様な理化学用途・産業用途に適したモデルです。
 

応用例

色素レーザー、ポンプOPO、ポンプTi:サファイアレーザー、レーザーショックピーニング、LCDの修理、レーザーアブレーション、レーザー焼結、LIDAR

モデル※1 Lapa-20 Lapa-80 Dawa-50 Dawa-100 Dawa-200 Dawa-300
繰返し周波数, Hz 1-100 1-20 1-20 1-20 1-20 1-10
パルスエネルギー
1064 nm 20mJ 80mJ 50mJ 100mJ 200mJ 300mJ
532 nm 12mJ 50mJ 25mJ 50mJ 100mJ 150mJ
355 nm 4mJ 25mJ 10mJ 20mJ 40mJ 60mJ
266 nm 2mJ 10mJ 5mJ 10mJ 20mJ 30mJ
エネルギー安定性 (RMS) ※2
1064 nm ≦1% ≦0.5% ≦1% ≦1% ≦1% ≦1%
532 nm ≦2% ≦1% ≦2% ≦2% ≦2% ≦2%
355 nm ≦4% ≦2% ≦4% ≦4% ≦4% ≦4%
266 nm ≦4% ≦3% ≦4% ≦4% ≦4% ≦4%
パルス幅 ※3
1064 nm ≦10ns ≦8ns ≦9ns ≦9ns ≦8ns ≦7ns
532 nm ≦8ns ≦8ns ≦7ns ≦6ns
355 nm ≦7ns ≦7ns ≦6ns ≦5ns
266 nm ≦7ns ≦7ns ≦6ns ≦5ns
拡がり角, mrad ※4,7 ~2 ≦1 ≦2(multi-mode), ≦1(flat-top mode)
ポインティング安定性, μrad ※7 ≦50 ≦10 ≦50 ≦50 ≦50 ≦50
ビーム径 ※5,7 3mm 4.5mm 5mm 5mm 6mm 7mm
ジッター (RMS) ※6 ≦0.5ns ≦0.5ns ≦1ns ≦1ns ≦1ns ≦1ns
空間モードプロファイル >70%(near field), >95%(far field)
偏光 横偏光 横偏光
冷却 空冷 空冷 空冷から水冷
消費電力 220W 220W 500W 500W 500W 500W
電力要件 100-240V, 50/60Hz 10A
or 24V, DC, 9.2A
2200V, 50/60Hz 10A
ケーブル長 コントロール線:3m, 電力線:1.8m, アンビリカルケーブル長:3m
モデル※1 Nimma-400 Nimma-600 Nimma-900 Nimma-Extra
繰返し周波数, Hz 1-10 1-10 1-10 1-10
パルスエネルギー
1064 nm 450mJ 650mJ 900mJ 2000mJ
532 nm 250mJ 350mJ 480mJ 1000mJ
355 nm 90mJ 150mJ 270mJ 600mJ
266 nm 50mJ 65mJ 90mJ 150mJ
エネルギー安定性 (RMS) ※2
1064 nm ≦1% ≦1% ≦1% ≦1%
532 nm ≦2% ≦2% ≦2% ≦2%
355 nm ≦4% ≦4% ≦4% ≦4%
266 nm ≦4% ≦4% ≦4% ≦4%
パルス幅 ※3
1064 nm ≦9ns ≦9ns ≦9ns ≦9ns
532 nm ≦8ns ≦8ns ≦8ns ≦8ns
355 nm ≦7ns ≦7ns ≦7ns ≦7ns
266 nm ≦7ns ≦7ns ≦7ns ≦7ns
拡がり角, mrad ※4,7 ≦0.6 ≦0.6 ≦0.6 ≦0.5
ポインティング安定性, μrad ※7 ≦30 ≦30 ≦30 ≦50
ビーム径 ※5,7 8mm 8mm 9mm 11mm
ジッター (RMS) ※6 ≦1ns ≦1ns ≦1ns ≦1ns
空間モードプロファイル >70%(near field), >95%(far field)
偏光 横偏光(1064, 355, 266 nm), 縦偏光(532nm)
冷却 空冷から水冷 チラー
消費電力 2000W 2000W 2000W 3000W
電力要件 2200V, 50/60Hz 10A
ケーブル長 コントロール線:3m, 電力線:1.8m, アンビリカルケーブル長:3m


※1 すべての仕様は、特に明記されていない限り、Qスイッチ1064nm用であり、予告なしに変更される場合があります。
※2 Dev.to平均(パルスの99%でショット間)。室温15-30°Cで測定されます。532nmおよび266nm出力の場合、SHGの結晶はKTPであり、エネルギー安定性は532nmで1%以下です。 355nm出力の場合、SHGの結晶はLBOであり、エネルギー安定性は532nmで1.5%以下です。
※3 半値全幅(FWHM)
※4 ピークの1 /e2で測定された全角
※5 レーザー出力で測定
※6 外部トリガーに関して
※7 @1064 nm

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