Sync＆Amplockは、Amplitude Systemes社の超高速レーザーと互換性がありアドオンできる最先端の同期ユニットです。 様々な用途において、無線周波数や光学リファレンスと最高の精度でシステム同期できます。

世界最高クラスの1PW級ピーク出力を実現。信頼性の高い超高強度フェムト秒レーザー。最大25J。パルス幅 20fs以下。繰返し周波数 最高5Hz

690～950 nm, 1200～2600 nm。繰返し10 or 20Hz (Phocus HR Mini のみ100Hz)。パルス幅5～9 ns。リングキャビティOPOベース 波長可変レーザー

光学顕微鏡を備えたAFMのプラットフォーム。高速走査かつ高分解能、原子力間顕微鏡によるイメージングを実現。空中や液体中での測定に対応。

時間相関単一光子計数 (TCSPC)、一致相関、マルチチャネルでのスケーリング 、イベント・タイミング（ピコ秒～ミリ秒の時間分解能）用のモジュールです。シングルチャンネルおよびマルチチャンネル。USBまたはPCIeインターフェイスを装備。※HydraHarp 400 デモ機あり

小型・高品質・安価。青・紫・紫外の各種レーザーの代替に最適。375, 405, 445, 473nm

革新的なファイバアンプ技術によるコンパクト、ハイパワー、高エネルギー、高繰り返しのフェムト秒/ピコ秒ファイバレーザー。パルス幅 <350 fs to >10 ps または最短 150 fs まで、繰返し周波数 single shot to 40MHz、最大平均出力 50W、最大パルスエネルギー 250 µJ。

位相イメージングは、異種材料や特性の不均一性を持つサンプルにおいて、ナノスケールの違いをイメージングするために用いられるAFM技術の一つです。位相コントラストは、チップとサンプル間の相互作用に基づきますが、これらの相互作用は、スキャンパラメーターや、イメージングの測定モード（原子間力の引力領域か斥力領域で捜査しているかなど）に依存します。O’DeaとBurratoは、位相イメージングを使用して、Nafion膜のプロトン伝導ドメインをマッピングしました。彼らは、先端とサンプルの間の特定の相互作用力がプロトン伝導ドメインの分解能に大きく影響することを発見しました。斥力レジームでのイメージングにより、ドメインの面積が大きめに表示され、ドメインの数が少なめに表示されました。引力領域でのイメージングにより、水やフルオロカーボンのドメインが最も正確に測定できました。AFMのフィードバックループが最適化されていない場合、またはカンチレバーが共振周波数を超えて駆動していた時、位相イメージングは組成の違いではなく、形状の変化に対応するイメージになりました。

高耐荷重・ロングトラベルタイプから高精度タイプまで幅広い精密垂直ステージをラインナップ

527nm ナノ秒DPSSレーザー.Beamtech Optronics. Tolarシリーズは、DPSS EO-Qスイッチナノ秒DPSSレーザーです。 最大エネルギー 50 mJ @ 1kHz, パルス幅 < 160 ns。

ファイバーレーザーに最適。特許技術で戻り光による光学系損傷防止。強固なアーマー外皮。多種なファイバーに対応（HI-1060、20/250、980PMおよびカスタム対応）、0.4～5.0mmまでの出射ビーム径、0.08～0.14NAまで対応、対応出力（伝送光）30～400 W、対応出力（戻り光）5～50 W

PMD-1000は、フレキシブルなデジタルPMDソースです。１次の偏波モード分散を 180ps まで、２次の偏波モード分散を 8100ps まで精密に生成します。
疑似連続オペレーションモードにより、独立した１次と波長に依存しない２次の偏波モード分散の生成を可能にします。
PMD-1000は３つの高速光磁クリスタルを用いてPMDを生成します。
PMDの切り替え時間はわずか1ミリ秒程度で、市販されているどのPMD生成器よりも高速です。

超小型温度センサーヘッド、冷却なしで120℃までの温度環境で使用可能。IP65準拠で工業用アプリ ケーションに最適

全てファイバーで構成することで、挿入損失と後方反射を抑えた、偏波スクランブラーです。偏波依存利得(PDG)、偏波感受性の低減やPDL測定等向けに、偏光状態をランダム化することが可能です。

2次元のXY偏向ユニットにZ軸を追加し、3次元加工に対応した3D偏向ユニットです。小スポット径で最大2,000 mm x 2,000 mmもの広いスキャンエリアを処理できます。

直接駆動超精密ステージからピエゾモータ直進ステージまで、200モデル以上を展開

蛍光寿命分光計。コンパクトモジュール方式　TCSPC,MCS（マルチチャンネルスケーリング）の双方データ取得可能。測定可能蛍光寿命約10psから数百ms。スペクトル範囲：255〜1550nm。完全自動化されたハードウェア制御。アプリケーションウィザード・スクリプト言語により多彩な機器に対応可能

パルスレーザーによる高速撮像によって多数の粒子を測定するため、個々の粒子を測定しながらも、統計的に信頼性の高い解析が可能です。全ての粒子画像が生データとして保存されるため、形状も定量的に解析できます。乾式・湿式を問わず多様な試料に対応します。（測定範囲 0.55～34000µm）

レーザー使用時に必須の保護めがねとゴーグル等を提供しております。形状・機能･用途に応じて幅広いモデルをラインナップ。適合規格EN CE に対応した製品もご用意しております。

高いナノポジショニング・エンジニアリング力で、複雑な位置決めタスクを解決する最適なナノ位置決めソリューションを提案。

ご指定の寸法で正確に加工するレーザーウィンドウ

一般的な光学的手法では測定が困難な高濃度・高粘度の試料を、希釈することなく、インラインまたはオンラインで測定できます。ミリング、結晶化、重合、沈降、乳化などのプロセスを、リアルタイムに管理する用途に最適です。（測定粒子サイズ 1～3000 µm）

最大6波長のDPSS / LDレーザーモジュール（355～1550 nm）をコンパクトパッケージに格納。1波長当り最大300mW

高いスキャナー性能を持つハイエンドAFMです。老舗AFMメーカのハイエンド品並みの測定品質ながらリーズナブルな価格に抑え、非常にコストパフォーマンスの高いAFMになっています。通常のAFMとしての機能のほか、電気特性測定（KFM、C-AFM)などに強みがあります。