破片粒子の少ないレーザー切断を実現。リチウムイオン電池の電極加工に好適。

高度な要求に応える、特別かつ無二のナノ秒パルス・レーザーソリューション。Premiumlite-YAG YAGレーザー：>75 J ＠1064 nm, >55 J ＠532 nm、繰返し周波数 10 Hz。Premiumlite-Glass ガラスレーザー：>250 J ＠1053 nm, >200 J ＠527 nm, 繰返し周波数 0.1 Hz

測定用標準基板・テストサンプル・校正構造体：- AFM 校正用構造体 測定用標準基板 HOPG,- AFM 校正用構造体 TGXYZ,- AFM 校正用構造体 TGX,- AFM 校正用構造体 TGF11シリーズ

最大6波長のDPSS / LDレーザーモジュール（355～1550 nm）をコンパクトパッケージに格納。1波長当り最大300mW

インライン用の吸光光度計。プロセスの濃度・色測定に最適。
過酷な環境下でもメンテナンスフリーで使用することのできる堅牢なデザイン。

高い柔軟性＆高速。種々のマーキングやパルス微細加工に最適なナノ秒パルスファイバレーザー

クリーンルーム対応。高い柔軟性を持つ装置組込み用顕微鏡ヘッド。さまざまなアプリケーションに適合します。ISO Class 1及びESDの規格に対応。

超高速のアナログ・デジタル変調を可能な半導体レーザー　紫外375～赤外1550 nm 範囲　最大出力300 mW

一般的な動的光散乱法とは異なり、光源とセンサを2つずつ用いる「クロスコリレーション法」を採用しています。そのため、高濃度な試料でも多重散乱の影響を排除した正確な測定が可能です。（測定範囲 0.5 nm～10 μm）

バイオテクノロジーや工業用途に最適な小型のワンボックスデザイン。紫外375nm～赤外1550nm 36波長。最大300mW出力。高速変調機能付き。

10¹³もの高いダイナミックレンジを達成3次フェムト秒クロスコリレータ。 特に高磁場物理学で一般に使用される高強度レーザーのパルス特性評価に極めて有用。

超分解能を持つ時間分解共焦点顕微鏡。誘導放出抑制（STED）顕微鏡法を使用。光学分解能50nm未満（STED）、励起640nm（オプション：595nmおよび660nm）、SPADおよびHybrid-PMTを使用した最大6検出チャンネル、ゲート付きSTED（gSTED）とgSTED-FCSをサポート　

境界層や壁面流、噴霧の可視化 / PIVに適した非コヒーレント光特性のレーザーです。鏡面やメタルの反射が低く、金属面などの照明に最適です。最大50 kHzの繰り返しが出来るパルス発振により、ハイスピードカメラの撮影コマ数に関係なく一定の明るさで撮影が可能です。

シリーズ最高分解能・高速応答モデル
高速変位を高精度で測定

ナノスケールIR化学分析用のオリジナルPiFM用AFM。 Vista One は、FTIR やナノ FTIR よりも詳細なナノスケールのケミカルマッピングと点スペクトルを取得します。

医療・産業分野の厳しい要件を満たす高品質・超小型フェムト秒レーザ。パルス幅 <150 fs、繰返し周波数 最高40MHz、平均出力 >5W、最大パルスエネルギー >500nJ。

CrabiAFMは、コンパクトで低価格な簡易原子間力顕微鏡（AFM）です。リサーチ用途、ナノ教育、またはすでにAFM経験をお持ちの方のサブ機として最適です。

コンパクトなサイズにSensofarの3-in-1テクノロジーを搭載した卓上型の3D形状測定装置

100Wと200Wモデルがございます。200Wモデルは錆取りや塗装膜除去に最適なレーザーを搭載しております。

HQ:NSCプローブモデルには、磁気力顕微鏡（MFM)用のコーティングを施した製品もご用意しております。コーティングはチップサイドに膜厚60 nmのコバルト層があり、さらに酸化防止のクロムフィルム膜厚20 nmがカバーしています。トポグラフィーと磁気特性の安定した測定のためにカンチレバーのパラメーターは最適化されています。

355 nm, 532nm, 420～1700nm, 繰り返し周波数 10, 20 Hz。様々なナノ秒Nd：YAGポンプレーザーと組み合わせ可能。OPOTEK社独自のコンパクトなスタンドアローン型OPOモジュール。

高ピークパワー 750μJ @10kHz(1064nm)、300μJ @10kHz(532nm)。パルス幅 約4ns

高い出力とコントロール性で、最適なレーザー切断／溶接を実現

高性能コンパクトな A シリーズ プラットフォームは、ナノ秒、ピコ秒、またはフェムト秒パルス レーザーを搭載できるレーザー マイクロマシニング設備です。