アプリケーション 一覧

100μJ出力 高機能フェムト秒レーザー Yuja

Amplitude Systemes

多機能で超コンパクトな 100μJ, 10W 出力のフェムト秒レーザー。繰返し周波数 single shot to 40MHz。

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簡易・小型 原子間力顕微鏡 AFM “CrabiAFM”

OME Technology

CrabiAFMは、コンパクトで低価格な簡易原子間力顕微鏡(AFM)です。リサーチ用途、ナノ教育、またはすでにAFM経験をお持ちの方のサブ機として最適です。

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高ピーク出力 QスイッチDPSSレーザー “CP450シリーズ & CP460シリーズ”

Canlas

QスイッチDPSSレーザー ナノ秒の短パルス 5ns でパルスエネルギーはmJ。24時間365日運用可能な高信頼性のレーザー。空冷コンパクトで超微細レーザー加工、精密なレーザー加工に最適です。

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TW, PW Ti:SAレーザーポンプ用 Nd:YAGレーザー TITAN

Amplitude Technologies

数百TW (テラワット) からPW (ペタワット) 級の大出力チタンサファイアレーザーの励起に理想的な小型高エネルギー Nd:YAGレーザー。最大12J@532nm。繰返し5Hz。パルス幅 12ns。

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クロスコリレータ SEQUOIA

Amplitude Technologies

市販品で最高のダイナミックレンジを持つ3次フェムト秒クロスコリレーター。高ピークパワー・フェムト秒レーザーシステムのレーザーパルス形状の厳密な制御に理想的。

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レーザーアブレーション装置

Elemental Scientific Lasers (ESL)

高速&高精度分析。目的に最適なレーザーアブレーションを最高の性能で提供。

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高速ステアリングミラー MRシリーズ

Optotune

反射モード(2Dミラー)、透過モード(チューナブルプリズム)で使用可能な、革新的な2次元ビームステアリングミラーです。ビームシフト無。システム組込みに対応。LiDAR、アダプティブヘッドライト、OCT、マシンビジョン、3Dプリンティング、セキュリティなど多彩なアプリケーションで活用いただけます。

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装置組込み用白色干渉計・共焦点顕微鏡 S neox sensor

SENSOFAR Metrology

S neoxは多機能かつ高性能な機能をもつ組込み可能な3D測定センサです。共焦点・白色干渉計・焦点移動による3D表面形状測定加えて、膜厚測定ができ、幅広いアプリケーションに対応。自動3D測定が可能。

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小型CWレーザー“Directシリーズ&Crystalシリーズ”

CrystaLaser

非常に多彩な波長ラインナップ・単一周波数モデル・低ノイズモデルなど幅広いタイプの半導体レーザー&DPSSレーザー。375~1444nm。最大出力2500mW。

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マイクロレンズアレイ・DOE試作用 3D光造形装置 Quantum X

Nanoscribe

世界初、マスクレス微細加工のための2光子グレースケール・リソグラフィシステム。屈折型、回折型マイクロ光学素子製造のための最先端装置。

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attocube ナノ位置決めステージ概要

高精度ピエゾ駆動モータおよび位置決め製品。超高真空・非磁性対応。ナノオーダーの高精度アライメント用途など産業分野での高精度マシニングから、要件の厳しい最先端の研究アプリケーションにも好適。

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INCA 多重分光近接ビーコン

DRS Daylight Solutions

VIS、NIR、SWIR、MWIR、LWIRバンド対応、長距離で検出可能な高輝度マルチスペクトル光信号を提供します。

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最大3mJ出力 フェムト秒/ピコ秒レーザー Tangor 300

Amplitude Systemes

信頼性が高く、コンパクトで多用途、費用対効果の高いパッケージの高エネルギー超短パルスレーザーです。 IR, Green, UV波長出力可能。

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基板用 高速レーザー欠陥スキャナー ATシリーズ

Lumina Instruments

Lumina Instruments社のATシリーズは、ガラス基板、半導体基板、ディスプレイ基板などの基板の欠陥を可視化する欠陥検査イメージング装置です。高速での測定とnm単位の高いPSLパーティクル感度を実現。

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2μm 狭線幅ファイバレーザー “Ultraline 2000”

NPI Lasers

発振波長1900-2100 nm よりご指定可能。スペクトル線幅はMHzレベルの狭線幅。平均出力100 mW /1W。狭線幅&高安定性で幅広い用途で使用いただけます。

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高出力・高繰返し Qスイッチ半導体励起固体レーザー“CL210シリーズ”

Canlas

レーザー加工に適した短パルスレーザー。3波長ラインナップ(1064, 532, 355 nm)。最高20W出力。繰返し周波数 1-100kHz。最小パルス幅 20ns

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UV/熱/複合ナノインプリント装置 RubiQ™

SCIVAX

ナノインプリントにおける樹脂硬化方式/プレス⽅式/加圧方式の組み合わせを選択可能。かつレトロフィットを可能にしたR&D専用装置。ナノインプリント・プロセス応用を伴う研究開発を加速します。

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AFMプローブ 磁気力顕微鏡 Co-Cr コーテイング コバルトクロム

MikroMasch

HQ:NSCプローブモデルには、磁気力顕微鏡(MFM)用のコーティングを施した製品もご用意しております。コーティングはチップサイドに膜厚60 nmのコバルト層があり、さらに酸化防止のクロムフィルム膜厚20 nmがカバーしています。トポグラフィーと磁気特性の安定した測定のためにカンチレバーのパラメーターは最適化されています。

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3D形状・表面粗測定 ソフトウェアパッケージ

SENSOFAR Metrology

3D形状や表面粗さを測定、解析するための直感的で使いやすいソフトウェアパッケージを装置とセットで提供しています。

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パワーセンサ、エネルギーセンサ

Ophir

測定パワーμW~数十kW、エネルギーpJ~数十J、対応波長UV~IR、CW&パルス等様々な光源に対応

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材料プロセス用 ピコ秒レーザー CEPHEUS

Photon Energy

ピコ秒レーザー加工、OEM組込みに最適なモードロック・ダイオード励起Nd:YVO4レーザー。透明材料を含む多彩な素材の非熱加工や、高繰り返し周波数、ピコ秒パルスによる高速加工、精密加工に最適。SHG, THG可。最大平均出力50W、最大繰返し1MHz、パルス幅15ps、最大パルスエネルギー300 μJ

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Nanoview 1000 AFM ローコスト 高イメージング品質

FSM Precision

従来のAFMの半分以下の低価格ながら、高いイメージング品質を発揮します。日本初上陸の高コストパフォーマンスAFMです。

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超高安定性 干渉計 “GEMINI”

NIREOS

GEMINIは、入力光を2つのレプリカ間の時間遅延を制御することにより、比類のない精度と再現性を提供する究極の干渉計です。FTIR分光計と同様に、同梱のドライバーおよびソフトウェアと組み合わせて使用して、フーリエ変換アプローチに基づいて入力光(コヒーレントまたはインコヒーレント光源)のスペクトルを測定できます。

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クリーンルーム対応 装置組込み用白色干渉計・共焦点顕微鏡 S neox Cleanroom sensor

SENSOFAR Metrology
[新商品]

クリーンルーム対応。高い柔軟性を持つ装置組込み用顕微鏡ヘッド。さまざまなアプリケーションに適合します。ISO Class 1及びESDの規格に対応。

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