ミニマル規格^※に準拠。コンパクトで可搬型ながら高解像度パターン観察を実現した、測長機能付SEM
（※「ミニマル」は独立行政法人産業技術総合研究所の登録商標です。）

光誘起力を使った次世代のPiFM ・ PiF -IR 機器　半導体、ナノフォトニクス、ポリマー、無機物などに向けた様々な用途で使用いただけるAFM-IR装置です。

中空コアファイバ技術で、分散と非線形の影響を抑えた超短パルスレーザー。ファイバ長 1, 2, 5 m（応相談）、波長 1030nm。

超コンパクト・多彩な波長・高出力・高安定性・高信頼性。CrystaLaser社のベストセラー製品。260-1444nm。最大出力1mJ。100kHz, 5-200nsパルス

長寿命LEDを搭載した光散乱原理の濁度計。過酷な環境下でもメンテナンスフリーで使用することのできる堅牢なデザインです。

高品質 TEM00 ビーム, スペクトル幅 <120MHz フーリエ限界の単一周波数全固体レーザー

偏波状態の各種制御・変調で、システム・装置の偏波依存特性を最適化

1342 nm 671 nm 447 nmでのQスイッチレーザー。平均出力1.5~4W。レーザー微細加工、シリコン加工、ステルスダイシング、ディスプレイ修理などにご利用いただけるレーザーです。

高耐荷重・ロングトラベルタイプから高精度タイプまで幅広い精密垂直ステージをラインナップ

シンプル・高速・低コスト。お手持ちのPCでレーザービームをリアルタイム制御

高繰り返し周波数＆広いカバー波長域の、完全自動化オプティカル・パラメトリック・アンプ（OPA）システム。パルス幅：70～300 fs、繰返し周波数：最高 2 MHz、高い変換効率：12%以上 、波長域：210-11000 nm, 325-2500 nm

偏光依存損失 (PDL), 挿入損失 (IL), デバイスの光パワーをわずか30ミリ秒で同時測定。低/高の両PDL値を測定可能。

ピコ秒/サブピコ秒パルスレーザーシステムのパルス幅を大幅に短縮するモジュール。最高のスループット効率、良好なビーム品質、高い安定性。入力パルス幅 < 150 fs to 1 psを数サイクルパルスまで短縮可能。対応波長 1030nm, 515nm

コンパクトで使いやすい高速・高感度テラヘルツセンサー。パイロエレクリック技術ベース。スペクトル範囲 0.1 – 30 THz。高速応答 ～2.5kHz。高感度(～2 kV/W)、低ノイズ。 パルス（QCW）操作。検出部サイズ 5mm径。

単一光子検出共焦点蛍光顕微鏡。最高のデータ品質と使い易さを兼ね備えた蛍光顕微鏡です。自動化により測定時間を短縮を実現。実験室に簡単にインストールいただけます。

オンライン・インラインLIBS元素分析システム。製造ラインにおけるリアルタイム元素分析。代表的応用例は異材混入の防止（鉄鋼製造）PMI、製造プロセスにおけるオンライン元素モニター、ベルトコンベヤ上の各種原材料（石炭、鉱石、焼結体、塩、スラグなど）のオンライン分析等が可能です。

高い表面精度と可視光透過率で優れた視認性

超高速チタンサファイア・レーザーベースの超高強度フェムト秒レーザーアンプ。モジュール式、高い柔軟性で、多彩な出力パラメータをカバー。最大25mJ。最大繰返し周波数 1kHz。パルス幅 20～100 fs。

高いナノポジショニング・エンジニアリング力で、複雑な位置決めタスクを解決する最適なナノ位置決めソリューションを提案。

長時間・長距離アライメントも高精度モニタ

独立6軸（X、Y、Z、ピッチ、ロール、ヨー）動作。複雑なモーションコントロールに高い耐荷重と精度を提供。

オフィール社の豊富なセンサに対応するディスプレイまたはコンピュータインターフェース。業界最高の校正精度、高性能、優れた操作性。使い勝手抜群のユーザーフレンドリーなレーザパワー/エネルギ測定用ソフトウェア。サンプルコマンド公開により、COMオブジェクトやLabVIEWなどユーザーが自由かつ容易にプログラミング可能。

レーザー出力を無偏光化するデポラライザです。外部からの電源供給が不要なパッシブデバイスです。標準仕様ではコヒレンス長10mの光源まで使用可能です。数kmのコヒレンス長を持つレーザーのためにカスタムすることも可能です。

完全自動プロセスでアクリルコーティングを除去。ファイバの強度と完全性を維持したまま残渣を除去するストリッピングおよびファイバプリパレーションシステム。