高エネルギー・フェムト秒 Ti:Sapphireレーザーアンプ ARCO

Amplitude Technologies

超高速チタンサファイア・レーザーベースの超高強度フェムト秒レーザーアンプ。モジュール式、高い柔軟性で、多彩な出力パラメータをカバー。最大25mJ。最大繰返し周波数 1kHz。パルス幅 20~100 fs。

超高速チタンサファイア・レーザーベースの超高強度フェムト秒レーザーアンプ。モジュール式、高い柔軟性で、多彩な出力パラメータをカバー
  • 繰り返し周波数:10 Hz, 100 Hz, 1 kHz, 10 kHz
  • パルスエネルギー:1 mJ to 1.1 J
  • 自社製ポンプレーザ
  • 堅牢で多様性に優れた構成
  • 最大ピークパワー:55 TW
  • クラス最高性能
  • 最小パルス幅:20 fs
  • デュアル繰返し周波数のハイブリッドシステム

Amplitude Technologies (アンプリチュード・テクノロジーズ)社のArcoは、最も要件の厳しいアプリケーションのための超高強度フェムト秒レーザーアンプです。クラス最高の出力パラメータを、堅牢で信頼性の高く、使い易い構成で提供します。モジュール式で柔軟性に優れた超高速チタンサファイア・レーザーで、市販品で最も多彩な出力パラメータをカバーしています。

  • 高調波発生
  • アト物理
  • 分光
  • フィラメンテーション
  • レーザー航跡場加速
  • テラヘルツ光
  • プラズマ研究
  • 電子生成&加速
モデル ARCO W 10 kHz amplifiers
繰返し周波数 ※1 10 kHz 10 kHz 10 kHz
パルスエネルギー ※2,3 0.8 mJ @ 10 kHz 1.8 mJ @ 10 kHz 3 mJ @ 10 kHz
パルス幅 ※4 < 100 fs or < 35 fs or < 20 fs < 100 fs or < 35 fs or < 20 fs < 100 fs or < 35 fs or < 20 fs
中心波長 ※5 800 ± 10 nm 800 ± 10 nm 800 ± 10 nm
平均出力パワー 8 W 18 W 30 W
ポンプレーザー Mesa Mesa Duo Mesa & Mesa Duo
パルス間エネルギー安定性 ※6 1 % RMS 1 % RMS 0.7 % RMS
パワー安定性 ※7 1 % 1 % 1 %
ナノ秒コントラスト比 ※8 < 5×10-4
ピコ秒コントラスト比 ※9 < 10-6 @ 300 – 50 ps & < 10-6 @ 50 – 10 ps & < 10-5 @ 1 ps
ビーム品質, M2 < 1.3
ポインティング安定性 < 10 μrad RMS
偏光 直線, 横偏光
ウォームアップ時間 < 1時間

※1 他の繰返し周波数はご相談ください
※2 0.6 mJ / 1.6 mJ / 2.8 mJ @ 10 kHz, パルス幅 25 fs 未満時
※3 他のエネルギー値はご相談ください
※4 790 nm ±10 nm, パルス幅 100 fs 時。他の中心波長値はご相談ください
※5 工場設定。ご発注時に伍してください。出荷前に最適化いたします。
※6 2000パルス以上
※7 安定環境下で8時間以上
※8 プリパルス, 再生増幅レプリカ
※9 3次クロスコリレータ (SEQUOIA) で測定

使い易いレーザ制御ソフトウェア ハイパワー安定性 Palitra OPA 波長可変域