高エネルギー・フェムト秒 Ti:Sapphireレーザーアンプ　ARCO

超高速チタンサファイア・レーザーベースの超高強度フェムト秒レーザーアンプ。モジュール式、高い柔軟性で、多彩な出力パラメータをカバー。最大25mJ。最大繰返し周波数 1kHz。パルス幅 20～100 fs。

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概要
応用例
主な仕様

超高速チタンサファイア・レーザーベースの超高強度フェムト秒レーザーアンプ。モジュール式、高い柔軟性で、多彩な出力パラメータをカバー

繰り返し周波数：10 Hz, 100 Hz, 1 kHz, 10 kHz
パルスエネルギー：1 mJ to 1.1 J
自社製ポンプレーザ
堅牢で多様性に優れた構成
最大ピークパワー：55 TW
クラス最高性能
最小パルス幅：20 fs
デュアル繰返し周波数のハイブリッドシステム

Amplitude Technologies (アンプリチュード・テクノロジーズ)社のArcoは、最も要件の厳しいアプリケーションのための超高強度フェムト秒レーザーアンプです。クラス最高の出力パラメータを、堅牢で信頼性の高く、使い易い構成で提供します。モジュール式で柔軟性に優れた超高速チタンサファイア・レーザーで、市販品で最も多彩な出力パラメータをカバーしています。

高調波発生
アト物理
分光
フィラメンテーション
レーザー航跡場加速
テラヘルツ光
プラズマ研究
電子生成＆加速

モデル	ARCO W 10 kHz amplifiers
繰返し周波数 ※1	10 kHz	10 kHz	10 kHz
パルスエネルギー ※2,3	0.8 mJ @ 10 kHz	1.8 mJ @ 10 kHz	3 mJ @ 10 kHz
パルス幅 ※4	< 100 fs or < 35 fs or < 20 fs	< 100 fs or < 35 fs or < 20 fs	< 100 fs or < 35 fs or < 20 fs
中心波長 ※5	800 ± 10 nm	800 ± 10 nm	800 ± 10 nm
平均出力パワー	8 W	18 W	30 W
ポンプレーザー	Mesa	Mesa Duo	Mesa & Mesa Duo
パルス間エネルギー安定性 ※6	1 % RMS	1 % RMS	0.7 % RMS
パワー安定性 ※7	1 %	1 %	1 %
ナノ秒コントラスト比 ※8	< 5×10^-4
ピコ秒コントラスト比 ※9	< 10^-6 @ 300 – 50 ps & < 10^-6 @ 50 – 10 ps & < 10^-5 @ 1 ps
ビーム品質, M²	< 1.3
ポインティング安定性	< 10 μrad RMS
偏光	直線, 横偏光
ウォームアップ時間	< 1時間

※1 他の繰返し周波数はご相談ください
※2 0.6 mJ / 1.6 mJ / 2.8 mJ @ 10 kHz, パルス幅 25 fs 未満時
※3 他のエネルギー値はご相談ください
※4 790 nm ±10 nm, パルス幅 100 fs 時。他の中心波長値はご相談ください
※5 工場設定。ご発注時に伍してください。出荷前に最適化いたします。
※6 2000パルス以上
※7 安定環境下で8時間以上
※8 プリパルス, 再生増幅レプリカ
※9 3次クロスコリレータ (SEQUOIA) で測定