M3-Lは小型の高分解能位置決めシステムです。アクチュエータにドライバーとクローズドループコントローラを内蔵。3.3V 駆動、I2C、SPIなどシリアル制御可能。コンパクトで組み込みし易くOEM機器への使用に最適です。開発キットもご用意いたしております。

高性能短波長赤外カメラ。超低ノイズ&高いダイナミックレンジ。幅広い用途で使用可能なInGaAsセンサベースSWIR。200 fps。液体窒素不要。

世界初、マスクレス微細加工のための2光子グレースケール・リソグラフィシステム。屈折型、回折型マイクロ光学素子製造のための最先端装置。

レーザービームスキャン（ランダム位置、ラインスキャン、連続スポットディフレクション）に最適なRF周波数制御ディフレクタ。高効率。スキャンレート　最高 250 kHz

中赤外領域をモードホップフリーチューニングできる高安定性外部共振型量子カスケードレーザー（QCL）

2つの直行した偏光成分の光パワーを同時に計測します。
小さなボディーに偏光スプリッタとフォトディテクタを内蔵しています。

Si, InGaAsの両フォトダイオードと各アンプを1台に搭載し、320～1700nmもの広い応答波長域と、ピコワットレベルの微弱光を検出できる高い感度を実現。さらに24bit ADC（アナログ・デジタル・コンバータ）内蔵で、アナログ／デジタル両シグナルを提供でき、デジタルシグナルはUSB出力でPCへ直接伝送可能。
他に類のない万能フォトディテクタ　税抜定価 ¥570,000～

固体ダイオード励起Qスイッチレーザー。短パルス、コンパクトで微細レーザー加工に最適。ピーク出力はＭＷ。1064 nm 532 nm 355 nmに対応

アウトガス極少で超高真空領域までの立ち上げが短時間で可。熱歪みのない窓材で、透過光(レーザー)の偏光・歪み・散乱を抑制した高精度測定を実現。加速器関連など高精度透過を必要とする全ての実験・開発用の真空窓に。

WDMカプラ、スプリッタ、バンドパスフィルタ、PMビームスプリッタ、サーキュレータなど、お好みの受動光コンポーネントを搭載することができます。 PXIeおよびベンチトップモデルでは、SMF、MMF、PMFをサポートしています。

位相イメージングは、異種材料や特性の不均一性を持つサンプルにおいて、ナノスケールの違いをイメージングするために用いられるAFM技術の一つです。位相コントラストは、チップとサンプル間の相互作用に基づきますが、これらの相互作用は、スキャンパラメーターや、イメージングの測定モード（原子間力の引力領域か斥力領域で捜査しているかなど）に依存します。O’DeaとBurratoは、位相イメージングを使用して、Nafion膜のプロトン伝導ドメインをマッピングしました。彼らは、先端とサンプルの間の特定の相互作用力がプロトン伝導ドメインの分解能に大きく影響することを発見しました。斥力レジームでのイメージングにより、ドメインの面積が大きめに表示され、ドメインの数が少なめに表示されました。引力領域でのイメージングにより、水やフルオロカーボンのドメインが最も正確に測定できました。AFMのフィードバックループが最適化されていない場合、またはカンチレバーが共振周波数を超えて駆動していた時、位相イメージングは組成の違いではなく、形状の変化に対応するイメージになりました。

テラヘルツ実験スタートに最適。高出力モデルTC2000の廉価版。最先端の量子カスケードレーザー（QCL）ベース。2～5THz。パルス（QCW）。シングル/マルチモード。出力0.1mＷ以上 at 3.2THz。窒素冷却

高度な要求に応える、特別かつ無二のナノ秒パルス・レーザーソリューション。Premiumlite-YAG YAGレーザー：>75 J ＠1064 nm, >55 J ＠532 nm、繰返し周波数 10 Hz。Premiumlite-Glass ガラスレーザー：>250 J ＠1053 nm, >200 J ＠527 nm, 繰返し周波数 0.1 Hz

100Wと200Wモデルがございます。200Wモデルは錆取りや塗装膜除去に最適なレーザーを搭載しております。

高い表面精度と可視光透過率で優れた視認性

オンライン・インラインLIBS元素分析システム。製造ラインにおけるリアルタイム元素分析。代表的応用例は異材混入の防止（鉄鋼製造）PMI、製造プロセスにおけるオンライン元素モニター、ベルトコンベヤ上の各種原材料（石炭、鉱石、焼結体、塩、スラグなど）のオンライン分析等が可能です。

SuperK シリーズをはじめとするNKT Photonics社のスーパーコンティニューム光源を目的に合わせてより柔軟に使用できる多彩なアクセサリをラインナップ

400nm近傍の波長に感度を有する厚膜フォトレジスト。マスクレス・リソグラフィのアプリケーションを拡げます

スペックルパターンのランダム化技術により、マルチモードファイバの出力を均一化

高いチューナビリティ（繰り返し周波数、パルス幅、波長）と複数のオプションで非常に高い柔軟性。
1μm, 1.55μm, SHG, 波長可変可。平均出力 最大30W。パルス幅 30ps to ms。繰り返し周波数 5MHz to 1GHz。

ピコ秒パルス､キロワット出力。OPCPAポンピングやレーザー加工に好適です。最大パルスエネルギー20 mJ。最大出力パワー1000 W。

増幅器のシード光源向けに設計された、コンパクトなワンボックスタイプの超短パルスファイバレーザーです。波長：1020-1070nm、繰り返し周波数：15-30MHz、平均出力パワー：1-50mW、SESAMフリー

24 bit AFMコントローラー。サポートの終了した Agilent Technology 製 AFM に対応します。シンプルに既存のコントローラーとの置き換えが可能。既存のAFMヘッドへプラグインの上、専用ソフトウェア使用して同様のAFM動作が行えます。

光源の偏光度 (DOP) をリアルタイムに計測。特許の最大/最小サーチ技術により、低DOPも高DOPも正確に測定