400nm近傍の波長に感度を有する厚膜フォトレジスト。マスクレス・リソグラフィのアプリケーションを拡げます

• グレイスケール露光に対応したポジティブ・トーン (～60μm厚)
• 高アスペクト比パターンの形成が可能なネガティブ・トーン (～150μm厚)
• ニッケル電鋳に対応

市販のマスクレス・リソグラフィ装置では、主に400nm波長の光源が標準採用されています。一方従来の厚膜フォトレジストは、主にUV帯域に感度を有するものが殆どで、厚膜アプリケーションに対応するには、オプションの高価なUV帯域光源を搭載しなければならず、また従来の厚膜レジストはグレイスケール露光に対応したものが市場ありませんでした。この背景から、Micro Resist Technology社により、400nm近傍波長に感度を有する厚膜のレジストが開発されました。