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ピコ秒パルスドライバー （シングルチャンネル／マルチチャンネル）
ピコ秒パルスダイオードレーザードライバー。PicoQuantのレーザー、LEDヘッドで繰り返し周波数率とパルスエネルギーを制御可能。 コンピューター制御のシングルチャネル、またはマルチチャネルユニットが利用可能。 独自の5年間限定保証。
分子間相互作用解析装置 “QCM-D”
リアルタイムで質量変化と粘弾性、膜厚を分析高性能で低価格
ハイパワービーム分析装置一覧
50kW/cm2超のパワー密度でも歪みのない正確なビームサンプリングを実現
AFM（原子間力顕微鏡）取り扱い製品一覧
日本レーザーでは用途に応じて様々なAFM（原子間力顕微鏡）を取り揃えております。
ピエゾ駆動ステージ
LDなど光学部品の精密ポジショニング及びスキャニング用途に適した、安定性に優れたピエゾ駆動の高精度ステージ。X, Z, XY, XYZ, 5軸, 回転。可動距離 最高1500μm
PIV CWレーザー（流れの可視化レーザー）“DPSS Green Laser”
流れの可視化光源に適した非常にコンパクトな筐体のレーザー
偏波コントローラ / 偏波スクランブラ / 偏波トラッカ
各種システム・装置の偏波特性を多様化し、性能の最適化をサポートする多彩な偏波関連モジュール
偏光モード分散のデジタルエミュレータ “PMD-1000” 【General Photonics】
PMD-1000は、フレキシブルなデジタルPMDソースです。１次の偏波モード分散を 180ps まで、２次の偏波モード分散を 8100ps まで精密に生成します。
疑似連続オペレーションモードにより、独立した１次と波長に依存しない２次の偏波モード分散の生成を可能にします。
PMD-1000は３つの高速光磁クリスタルを用いてPMDを生成します。
PMDの切り替え時間はわずか1ミリ秒程度で、市販されているどのPMD生成器よりも高速です。
可変光減衰器
高速減衰速度、低挿入損失、パワーメータ内蔵の MEMS ベースの可変光減衰器。非常にコンパクトで費用対効果の高い可変光減衰器・バリアブルアッテネータです。 高度なパワー安定化機能により、入力パワーが変動しても出力パワーを設定により安定化させ、維持することが可能です。
レーザパワーメータ, エネルギーメータ（ディスプレイ）
オフィール社の豊富なセンサに対応するディスプレイまたはコンピュータインターフェース。業界最高の校正精度、高性能、優れた操作性。使い勝手抜群のユーザーフレンドリーなレーザパワー/エネルギ測定用ソフトウェア。サンプルコマンド公開により、COMオブジェクトやLabVIEWなどユーザーが自由かつ容易にプログラミング可能。
OCT/センシング用 バランスフォトディテクタ”BPD-002″
高性能なOCT用バランスフォトディテクタ BPD-002 を使用することでSN比を向上することができます。研究開発において使用されることを目的に設計されています。
高出力・狭線幅 UV & VIS単一周波数レーザー Koheras HARMONIK
高出力（最大10W）で狭線幅（sub-kHz）の単一周波数レーザー。周波数変換により波長ラインナップが増えました。位相と強度の両ノイズを抑制。TEC搭載。ルビジウム、ストロンチウム、バリウム、イッテルビウムの波長に正確に対応でき、最先端の量子アプリケーションに最適です。
Nanoview 1000 AFM ローコスト 高イメージング品質
従来のAFMの半分以下の低価格ながら、高いイメージング品質を発揮します。日本初上陸の高コストパフォーマンスAFMです。
ナノ粒子分散塗布サンプル・プレパレーション装置 “PSD-PS01”
ナノ粒子のSEM・TEMまたはAFM観察を容易にするサンプル・プレパレーション装置。
分散溶媒中に溶かしたナノ粒子を、静電噴霧でSi基板やカーボン蒸着膜基板へ分散塗布します。
ピコ秒レーザーマーキングシステム
レーザーマーキング・コンプリートシステム。光源、光学系、機械系コンポーネント、ソフトウェア含む。比類のない高い柔軟性と直感的な操作性。独立型デバイスでも組込み用にも提供可能。
直立型時間分解蛍光顕微鏡 MicroTime 100
直立型の時間分解蛍光顕微鏡 様々な形状とサイズにアクセスが可能。数cmまでのワイドレンジスキャン。マルチ検出器オプションで最大4チャンネル。XY走査ピエゾステージでの2Dライフタイムイメージングが可能。ウェーハ、半導体、太陽電池などの固体サンプルの時間分解フォトルミネッセンス研究に最適
UV/熱/複合ナノインプリント装置 RubiＱ™
ナノインプリントにおける樹脂硬化方式/プレス⽅式/加圧方式の組み合わせを選択可能。かつレトロフィットを可能にしたR&D専用装置。ナノインプリント・プロセス応用を伴う研究開発を加速します。
レーザー超音波非破壊検査装置
レーザー超音波による非接触非破壊検査／非接触厚さ測定
レーザ光用遮光保護めがね・ゴーグル
レーザー使用時に必須の保護めがねとゴーグル等を提供しております。形状・機能･用途に応じて幅広いモデルをラインナップ。適合規格EN CE に対応した製品もご用意しております。
光学特性評価サービス
様々な光学システムに対応した計測・特性評価サービスを提供、カスタム設計も対応。お客様の光学システム全体の性能評価を行い最適化をご提案が可能です。特定の光学特性評価や計測目的で最先端かつカスタムの装置やベンチを構築も可能です。
マイクロレンズアレイ・DOE試作用 3D光造形装置 Quantum X
世界初、マスクレス微細加工のための2光子グレースケール・リソグラフィシステム。屈折型、回折型マイクロ光学素子製造のための最先端装置。
受動光学部品搭載
WDMカプラ、スプリッタ、バンドパスフィルタ、PMビームスプリッタ、サーキュレータなど、お好みの受動光コンポーネントを搭載することができます。 PXIeおよびベンチトップモデルでは、SMF、MMF、PMFをサポートしています。
2μm ナノ秒パルス ファイバーレーザー “PowerWave2000-ns”
中赤外スーパーコンティニューム光源の励起に最適。中心波長 1900～2000 nm、繰り返し周波数 kHz～MHz、パルスエネルギー10 μJにて最大出力10 W
OEM用 ファイバーコリメーター
ファイバーレーザーに最適。特許技術で戻り光による光学系損傷防止。強固なアーマー外皮。多種なファイバーに対応（HI-1060、20/250、980PMおよびカスタム対応）、0.4～5.0mmまでの出射ビーム径、0.08～0.14NAまで対応、対応出力（伝送光）30～400 W、対応出力（戻り光）5～50 W
