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レーザー回折式 粒度分布測定装置 HELOS
乾式測定における試料分散性能と測定再現性に優れており、凝集しやすい試料でも安定して測定できます。世界各国に多数の納入実績があり、製薬、化学、磁性体、食品などの様々な業界で採用されています。（測定範囲: 0.1～3500 µm）
偏波感受型バランスフォトディテクタ “PBPD-001”
PBPD-001 は偏波に対する感受性を持った差分フォトディテクタです。低ノイズかつ高いコモンモードノイズ除去比、高コンバージョンゲイン、ワイドバンド、コンパクトな使いやすいモデルです。
サブテラヘルツ Sub-THz レーダー トランシーバー
FMCW（周波数変調連続波）レーダートランシーバーは、最先端のショットキーダイオード技術に基づくサブTHzデバイスです。最大100 dBのダイナミックレンジ、高い測定レート（7.6 kHz）、優れた透過性と高い解像度を持ち、様々な用途で非接触非破壊検査、密度深度測定、3Dイメージングなど様々なセンシングツールとしてお使いいただけます。
LIBSシステム（超高速インライン向け）
完全インライン向けLIBSシステム。20kHzの超高繰返し測定（カスタムで100kHzまで可）
INCA 多重分光近接ビーコン
VIS、NIR、SWIR、MWIR、LWIRバンド対応、長距離で検出可能な高輝度マルチスペクトル光信号を提供します。
三次元粗さ解析走査電子顕微鏡 “ERA-600シリーズ”
世界で唯一、4本のSED検出器による高コントラスト観察画像とナノレベル立体形状の取得が可能。高分解能SEM観察と試料表面の形状測定、表面形状のパラメータ算出も一台で完結。精密工学会技術賞を受賞しました。
Opto-Mechanics製品
ニューポートの光学マウントは、他社には無い高い安定性を持ち、多種多様のモデルを数多く揃えています。ニューポート社製 Opto-Mechanics製品の詳細は、専用サイトをご参照下さい。
特注ナノ位置決めステージ
高いナノポジショニング・エンジニアリング力で、複雑な位置決めタスクを解決する最適なナノ位置決めソリューションを提案。
レーザー ベースの非破壊検査システム
レーザーを使った非破壊検査システム。計測・測定ソリューションOCT、LIDAR、共焦点イメージング、フォトルミネッセンス分光測定、3Dマッピング、深度計測が可能。レーザー診断、高精度大型製品向け検査、リベット検査（航空宇宙）、自動車など様々で活用されています。
金属単結晶・酸化物単結晶・合金単結晶
金属単結晶・酸化物単結晶・合金単結晶試料の高品質品を高精度加工
静電吐出方式高精細ディスペンサ Q-Jet
エアー式ディスペンサでは実現不可能な細線描画、ピエゾ式インクジェットでは不可能な高粘度吐出を可能にする従来の常識を覆した高機能パターニング技術。
プラグ＆プレイ イオンジェネレータ“KAIO”
レーザーイオン生成及びプラズマ相互作用のためのレーザーモニタ・評価。TNSAベースのパワフルツール。EProton = 4 – 5 MeV (cut-off)
ファイバカップル・テラヘルツ分光検査装置“T-SPECTRALYZER F”
非破壊・非接触検査ができるプラグ＆プレイのテラヘルツ・スペクトロメータ。周波数範囲 0.1～2.5 THz、最大ダイナミックレンジ 54 dB
偏波ディテクタ “PDD-001”
偏光スプリッタとフォトディテクタ、回路をコンパクトなボディに組み込んだ偏光フォトディテクタです。高い消光比と信頼性を備えたモデルです。
ヘキサポッド 6軸平行キネマティックポジショニングシステム
6軸（X、Y、Z、ピッチ、ロール、ヨー）動作。複雑なモーションコントロールに高い耐荷重と高精度を提供する6軸自由度ステージ。
測定用標準基板・テストサンプル・校正構造体
測定用標準基板・テストサンプル・校正構造体：- AFM 校正用構造体 測定用標準基板 HOPG,- AFM 校正用構造体 TGXYZ,- AFM 校正用構造体 TGX,- AFM 校正用構造体 TGF11シリーズ
高性能サーモグラフィ “VarioCam HD head” シリーズ
高解像度、高分解能、高精度のサーマルイメージを得ることができる高性能サーモグラフィ
超小型 高分解能 リニアアクチュエータ “M3-L”
M3-Lは小型の高分解能位置決めシステムです。アクチュエータにドライバーとクローズドループコントローラを内蔵。3.3V 駆動、I2C、SPIなどシリアル制御可能。コンパクトで組み込みし易くOEM機器への使用に最適です。開発キットもご用意いたしております。
クラス最速・最高精度 3Dプリンタ 光造形装置 Quantum X Shape
Quantum X shapeは、2光子重合（2PP）をベースに独自のプリンティングテクノロジーを組み合わせた、多用途での活用が可能な3Dプリンタです。あらゆる2.5D/3D形状での、サブミクロン精度と高い正確性でのラピッドプロトタイピング可能。またウェハースケールのバッチ生産に最適なツールとなっています。
ビットエラーテスター パルスパターン発生器
高密度マルチチャンネルのパルスパターン発生器及びビットエラー検出器です。光トランシーバーや光学電子部品での設計、特性評価、製造用のテストで使用いただけます。
超高安定性・二次元分光干渉計 “GEMINI 2D”
イタリアのNIREOS社のGEMINI-2Dは、過渡吸収分光測定を最先端の2次元分光装置に変換します。
GEMINI 2Dはコンパクトで非常に安定的に使用できる干渉計であり、フェムト秒レーザーパルスの2つの同一線上で位相ロックされたレプリカを生成し、比類なき安定性と堅牢性を備えています。
LIBS元素分析システム（ラボ向けモデル）
生産ライン近くの分析室や分析ラボ向けのスタンドアローンLIBS元素分析装置
スラグ、コンクリート、金属などの迅速分析や元素マッピング分析に最適
コヒーレント光通信機器
広帯域で複雑な変調形式の光信号を発生させる 高性能なコヒーレント光通信の機器をご提供いたします。コヒーレントDSP開発、コヒーレント送信機テスト、カスタム変調フォーマット開発、軍事/航空通信の研究開発など様々な用途でご使用いただけます。
非接触型厚さ測定装置 “VarioMetric”
レーザー干渉を利用した厚さ測定装置。厚膜(1～500μm)測定用。小型・高速・高精度
