アプリケーション
最大150μJ出力 高機能フェムト秒/ピコ秒レーザー Satsuma
革新的なファイバアンプ技術によるコンパクト、ハイパワー、高エネルギー、高繰り返しのフェムト秒/ピコ秒ファイバレーザー。パルス幅は最短 350 fs – 10 ps、繰返し周波数 single shot to 40MHz、最大平均出力 50W、最大パルスエネルギー 150 µJ
高出力レーザー用非接触ビームプロファイラ“BeamWatch”
BeamWatch™ ビームウォッチ 非接触・集光スポット径・ビーム位置計測ビームモニタリングシステム。測定パワー範囲 400W – 100kW。波長 980-1080 nm
レーザパワーメータ, エネルギーメータ(ディスプレイ)
オフィール社の豊富なセンサに対応するディスプレイまたはコンピュータインターフェース。業界最高の校正精度、高性能、優れた操作性。使い勝手抜群のユーザーフレンドリーなレーザパワー/エネルギ測定用ソフトウェア。サンプルコマンド公開により、COMオブジェクトやLabVIEWなどユーザーが自由かつ容易にプログラミング可能。
チューナブル・光音響イメージング光源“PHOCUSシリーズ”
690~950 nm, 1200~2600 nm。繰返し10 or 20Hz (Phocus HR Mini のみ100Hz)。パルス幅5~9 ns。リングキャビティOPOベース 波長可変レーザー
パルスファイバレーザー “TruPulse”
高い柔軟性&高速。種々のマーキングやパルス微細加工に最適なナノ秒パルスファイバレーザー
NKT Photonics社 サイエンス向けピコ秒/フェムト秒レーザー
最大出力 10 W。繰返し周波数 固定または可変。シングルショット/バーストモードなど、用途に応じて最適なウルトラファーストレーザーを提案します。信頼性の高い高品質レーザーで、カスタマイズも対応。最先端の研究用途に最適な製品を提案いたします。
AFM-IR 装置 Vista 75, IR-PiFM / PiF-IR
光誘起力を使った次世代のPiFM ・ PiF -IR 機器 半導体、ナノフォトニクス、ポリマー、無機物などに向けた様々な用途で使用いただけるAFM-IR装置です。
装置組込み用非接触面粗さ計 S mart sensor
S mart 2は、白色干渉計とエリア共焦点(コンフォーカル)の技術による3D表面形状測定が可能な装置組込み用顕微鏡ユニットです。3Dレーザー顕微鏡と同等の分解能と精度、再現性による表面形状・粗さ測定を実現可能です。
PIV カメラ
感度と解像度、撮影速度に特徴のあるラインナップをご用意。計測対象に合わせて多彩なPIVカメラから選択可能
小型レーザービームコンバイナー“LightHUBシリーズ”
1つの小型筐体に複数のレーザモジュール(355~1550 nm)を格納。2, 4, 6波長を高効率ファイバ出力。最大出力パワー1W。
スペックル低減 最大5波長 高出力レーザーコンバイナ“BrixXHUB”
最大5波長のDPSS / LDレーザーモジュール(375~808 nm)をコンパクトパッケージに格納。1波長当り最大2500mW
廉価版テラヘルツ量子カスケードレーザー(THz-QCL)TeraCascade100
テラヘルツ実験スタートに最適。高出力モデルTC2000の廉価版。最先端の量子カスケードレーザー(QCL)ベース。2~5THz。パルス(QCW)。シングル/マルチモード。出力0.1mW以上 at 3.2THz。窒素冷却
最大500μJ出力 高機能フェムト秒/ピコ秒レーザー Tangor
革新的なファイバアンプ技術によるコンパクト、ハイパワー、高エネルギー、高繰り返しのフェムト秒/ピコ秒ファイバレーザー。パルス幅 最短 500 fs – 10 ps、繰返し周波数 single shot to 40MHz、最大平均出力 100W、最大パルスエネルギー 500 µJ。
AFMカンチレバー 一覧
NANOSENSORS製AFMカンチレバー。10本、20本、50本、ウエハ(365または370または380)の入り数でご注文可能。製品一覧表からお探しのモデルをすぐに見つけられます。ご相談もお気兼ねなくお問合せください。
厚膜ポジティブ/ネガティブ・トーン・フォトレジスト
400nm近傍の波長に感度を有する厚膜フォトレジスト。マスクレス・リソグラフィのアプリケーションを拡げます
受託粒度分布測定・各種サービス
粒度分布測定に関する受託測定やコンサルティングなど、様々なサービスをご提供いたします。
パルスコンプレッサモジュール COMPRESS
ピコ秒/サブピコ秒パルスレーザーシステムのパルス幅を大幅に短縮するモジュール。最高のスループット効率、良好なビーム品質、高い安定性。入力パルス幅 < 150 fs to 1 psを数サイクルパルスまで短縮可能。対応波長 1030nm, 515nm
最大7波長、2本ファイバー搭載可能レーザーコンバイナー ”LightHUB Ultra”
最大7波長のDPSS / LDレーザーモジュール(375~1550 nm)をコンパクトパッケージに格納。1波長当り最大300mW
測定用標準基板・テストサンプル・校正構造体
測定用標準基板・テストサンプル・校正構造体:- AFM 校正用構造体 測定用標準基板 HOPG,- AFM 校正用構造体 TGXYZ,- AFM 校正用構造体 TGX,- AFM 校正用構造体 TGF11シリーズ
ツインエアー方式高精細ディスペンサ Twin-airⓇ
極微量滴下を可能にしたツインエアー方式。独自技術のセルフサックバックで液だれ、濡れ上がり無し
動的光散乱法 粒度分布測定装置 NANOPHOX
一般的な動的光散乱法とは異なり、光源とセンサを2つずつ用いる「クロスコリレーション法」を採用しています。そのため、高濃度な試料でも多重散乱の影響を排除した正確な測定が可能です。(測定範囲 0.5 nm~10 μm)