アプリケーション
小型レーザービームコンバイナー“LightHUBシリーズ”
1つの小型筐体に複数のレーザモジュール(355~1550 nm)を格納。2, 4, 6波長を高効率ファイバ出力。最大出力パワー1W。
マイクロドリリングシステム“ProbeDrill 355”
高速・微細な多穴加工(円および四角形状)
超ハイダイナミックレンジ・クロスコリレータ SEQUOIA HD
1013もの高いダイナミックレンジを達成3次フェムト秒クロスコリレータ。 特に高磁場物理学で一般に使用される高強度レーザーのパルス特性評価に極めて有用。
卓上型ディスペンシング・ロボットシステム Twin-air® EDシリーズ
卓上型ディスペンシング・ロボットシステム。XYステージ付きシステム。1nL(ナノリットル)以下の滴下、細線描画を実現。オートアライメント・ノズルギャップ自動補正機能を標準搭載 Twin-air®
装置組込み用非接触面粗さ計 S mart sensor
S mart 2は、白色干渉計とエリア共焦点(コンフォーカル)の技術による3D表面形状測定が可能な装置組込み用顕微鏡ユニットです。3Dレーザー顕微鏡と同等の分解能と精度、再現性による表面形状・粗さ測定を実現可能です。
レーザー ベースの非破壊検査システム
レーザーを使った非破壊検査システム。計測・測定ソリューションOCT、LIDAR、共焦点イメージング、フォトルミネッセンス分光測定、3Dマッピング、深度計測が可能。レーザー診断、高精度大型製品向け検査、リベット検査(航空宇宙)、自動車など様々で活用されています。
特注ナノ位置決めステージ
高いナノポジショニング・エンジニアリング力で、複雑な位置決めタスクを解決する最適なナノ位置決めソリューションを提案。
レーザー加工ヘッド カスタマイズ対応可能 “OPTICEL”
レーザー加工の幅広い要求に柔軟に対応、カスタマイズ性、信頼性、品質に優れたレーザー加工ヘッドです。
パルスコンプレッサモジュール COMPRESS
ピコ秒/サブピコ秒パルスレーザーシステムのパルス幅を大幅に短縮するモジュール。最高のスループット効率、良好なビーム品質、高い安定性。入力パルス幅 < 150 fs to 1 psを数サイクルパルスまで短縮可能。対応波長 1030nm, 515nm
AFM(原子間力顕微鏡)取り扱い製品一覧
日本レーザーでは用途に応じて様々なAFM(原子間力顕微鏡)を取り揃えております。
LIBSシステム(超高速インライン向け)
完全インライン向けLIBSシステム。20kHzの超高繰返し測定(カスタムで100kHzまで可)
NKT Photonics社 サイエンス向けピコ秒/フェムト秒レーザー
最大出力 10 W。繰返し周波数 固定または可変。シングルショット/バーストモードなど、用途に応じて最適なウルトラファーストレーザーを提案します。信頼性の高い高品質レーザーで、カスタマイズも対応。最先端の研究用途に最適な製品を提案いたします。
200mW出力 ピコ秒レーザー Amphos1000シリーズ
出力パワー200 mW。最大パルスエネルギー 2μJ。ナノ秒~ピコ秒パルスを出力。Yb:YAGのシード光や顕微鏡用途に好適。
量子相関 蛍光測定用 ソフトウェア
量子相関と蛍光測定に特化したソフトウェアを提供。FLIM、FLIM-FRET、FCS、FCCS、FLCS、同時計測、蛍光タイムトレース分析等に対応しています。QuCoa、SymPhoTime 64 、EasyTau 2のすべてのデモ機ご用意しております。
ポータブル型 粒度分布測定装置 “VisiSize P15 Portable” (新画像解析式)
キャリーケースで運搬のでき、取り扱いの簡単な小型軽量タイプ。粒径5μm~3,900μm。速度同時測定モデル
透明樹脂のレーザー溶着向け 2μm ファイバーレーザー “PowerWave2000シリーズ”
特殊な材料や前処理を必要とせずに、透明な樹脂のレーザー溶着を可能にします。コンパクト、低コストな産業向けファイバーレーザーです。材料の特性に合わせて、1900 nm – 2000 nm から波長を指定できます。
長寿命プローブ
長寿命プローブ:- AFMプローブ HARDシリーズ,- AFMプローブ 導電性ダイヤモンドコーティング DMD-XSC11
レーザーアブレーション装置
高速&高精度分析。目的に最適なレーザーアブレーションを最高の性能で提供。
TW, PW Ti:SAレーザーポンプ用 Nd:YAGレーザー TITAN
数百TW (テラワット) からPW (ペタワット) 級の大出力チタンサファイアレーザーの励起に理想的な小型高エネルギー Nd:YAGレーザー。最大12J@532nm。繰返し5Hz。パルス幅 12ns。
レーザークリーニング装置
100Wと200Wモデルがございます。200Wモデルは錆取りや塗装膜除去に最適なレーザーを搭載しております。
コントローラー内蔵 超小型CWレーザー“LuxX+ シリーズ”
バイオテクノロジーや工業用途に最適な小型のワンボックスデザイン。紫外375nm~赤外1550nm 36波長。最大300mW出力。高速変調機能付き。
3軸ガルバノスキャナ
2次元のXY偏向ユニットにZ軸を追加し、3次元加工に対応した3D偏向ユニットです。小スポット径で最大2,000 mm x 2,000 mmもの広いスキャンエリアを処理できます。
AFMプローブ 高分解能 Hi’Res-C
Hi’Res-Cプローブはシリコンプローブよりも汚染が少なく、より多い枚数の高解像度スキャンの実行が可能です。Hi’Res-Cは微小領域 (< 250 nm) の走査や、平坦なサンプル (Ra < 20 nm) の測定で顕著に能力を発揮します。*本プローブは先端の曲率半径が小さいため、先端とサンプルの相互作用力は小さくなります。
ピコ秒レーザーマーキングシステム
レーザーマーキング・コンプリートシステム。光源、光学系、機械系コンポーネント、ソフトウェア含む。比類のない高い柔軟性と直感的な操作性。独立型デバイスでも組込み用にも提供可能。