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プロセスフォトメータ(濁度・SS濃度計)”NBP007″

KEMTRAK

高濃度対応 インラインSS(浮遊物質測定)・濁度 計測
後方光散乱方式採用
過酷な環境下でもメンテフリーで使用可能な堅牢デザイン

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中赤外 広帯域チューナブルレーザー OPPO MIR

NPI Lasers

中赤外 MIR 2.8~4.2umの波長範囲で調整可能、ピコ秒パルスレーザー。最大出力1W以上。ガスセンシング・リモートセンシング・バイオメディカルで好適

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バイオフォトニクス向け フェムト秒ファイバーレーザー Biolit

litilit

クリーンなショートパルスを発振するフェムト秒レーザーです。パルス幅: typ 60fs。平均出力2W以上、堅牢かつ安定性が高く、非線形光学用途・多光子顕微鏡に最適です。

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金属単結晶・酸化物単結晶・合金単結晶

Surface Preparation Laboratory (SPL)

金属単結晶・酸化物単結晶・合金単結晶試料の高品質品を高精度加工

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LIBSオンライン元素分析システム

SECOPTA

オンライン・インラインLIBS元素分析システム。製造ラインにおけるリアルタイム元素分析。代表的応用例は異材混入の防止(鉄鋼製造)PMI、製造プロセスにおけるオンライン元素モニター、ベルトコンベヤ上の各種原材料(石炭、鉱石、焼結体、塩、スラグなど)のオンライン分析等が可能です。

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AFMプローブ 磁気力顕微鏡 Co-Cr コーテイング コバルトクロム

MikroMasch

HQ:NSCプローブモデルには、磁気力顕微鏡(MFM)用のコーティングを施した製品もご用意しております。コーティングはチップサイドに膜厚60 nmのコバルト層があり、さらに酸化防止のクロムフィルム膜厚20 nmがカバーしています。トポグラフィーと磁気特性の安定した測定のためにカンチレバーのパラメーターは最適化されています。

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MicroSense 4800 シリーズ 静電容量変位センサ

MicroSense

優れた直線性と温度特性。静的な変位測定のスタンダードモデル。

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クラス最速・最高精度 3Dプリンタ 光造形装置 Quantum X Shape

Nanoscribe

Quantum X shapeは、2光子重合(2PP)をベースに独自のプリンティングテクノロジーを組み合わせた、多用途での活用が可能な3Dプリンタです。あらゆる2.5D/3D形状での、サブミクロン精度と高い正確性でのラピッドプロトタイピング可能。またウェハースケールのバッチ生産に最適なツールとなっています。

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細胞ライブ輸送用 ポータブル CO2インキュベータ

Cellbox Solutions
[新商品]

生きた細胞やバイオマテリアルを常温輸送できる細胞定温輸送ボックスです。陸送モデルCellbox Ground 2.0 はカードリッジ式CO2ボンベで、最長72時間以上 CO2濃度を維持。空輸対応のCellbox Flight 2.0 は、ドライアイスでCO2濃度を維持。いずれも CO2濃度、温度、振動、傾きなどあらゆるパラメータを常時モニタし、安全に且つ最適な状態で輸送できます。

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PDT・PIT・PDD ラボ実験用レーザー照射システム “BrixXLAB”

Omicron Laserage Laserprodukte

PDT(Photodynamic Therapy: 光線力学療法)、PIT(Photoimmunotherapy: 光免疫療法)、PDD(Photodynamic Diagnosis:光力学的診断)などの実験・研究用途向けのマルチチャンネルデスクトップレーザー。最大4チャンネルまでレーザーが搭載可能。波長 375nm~ 1550nmに対応。

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スタンドアローン型OPOモジュール”Magic PRISM”

Opotek

355 nm, 532nm, 420~1700nm, 繰り返し周波数 10, 20 Hz。様々なナノ秒Nd:YAGポンプレーザーと組み合わせ可能。OPOTEK社独自のコンパクトなスタンドアローン型OPOモジュール。

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ハイエンド リーズナブル価格 AFM Nano-Observer ナノオブザーバー

CSInstruments

高いスキャナー性能を持つハイエンドAFMです。老舗AFMメーカのハイエンド品並みの測定品質ながらリーズナブルな価格に抑え、非常にコストパフォーマンスの高いAFMになっています。通常のAFMとしての機能のほか、電気特性測定(KFM、C-AFM)などに強みがあります。

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1000W出力 ピコ秒レーザー Amphos5000シリーズ

AMPHOS

ピコ秒パルス、キロワット出力。OPCPAポンピングやレーザー加工に好適です。最大パルスエネルギー20 mJ。最大出力パワー1000 W。

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動的光散乱法 粒度分布測定装置 NANOPHOX

Sympatec

一般的な動的光散乱法とは異なり、光源とセンサを2つずつ用いる「クロスコリレーション法」を採用しています。そのため、高濃度な試料でも多重散乱の影響を排除した正確な測定が可能です。(測定範囲 0.5 nm~10 μm)

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200mW出力 ピコ秒レーザー Amphos1000シリーズ

AMPHOS

出力パワー200 mW。最大パルスエネルギー 2μJ。ナノ秒~ピコ秒パルスを出力。Yb:YAGのシード光や顕微鏡用途に好適。

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高出力レーザー用非接触ビームプロファイラ“BeamWatch”

Ophir

BeamWatch™ ビームウォッチ 非接触・集光スポット径・ビーム位置計測ビームモニタリングシステム。測定パワー範囲 400W – 100kW。波長 980-1080 nm

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ファイバ・マルチチャンネル分光器

Yixi Intelligent Technology

超小型ファイバ分光器。手のひらサイズで低価格・高コストパフォーマンス。高性能、高感度の新シリーズ発売(YSM-8103シリーズ / YSM-8104シリーズ / YSM-8105シリーズ)

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レーザパワーメータ, エネルギーメータ(ディスプレイ)

Ophir

オフィール社の豊富なセンサに対応するディスプレイまたはコンピュータインターフェース。業界最高の校正精度、高性能、優れた操作性。使い勝手抜群のユーザーフレンドリーなレーザパワー/エネルギ測定用ソフトウェア。サンプルコマンド公開により、COMオブジェクトやLabVIEWなどユーザーが自由かつ容易にプログラミング可能。

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2μm 狭線幅ファイバレーザー “Ultraline 2000”

NPI Lasers

発振波長1900-2100 nm よりご指定可能。スペクトル線幅はMHzレベルの狭線幅。平均出力100 mW /1W。狭線幅&高安定性で幅広い用途で使用いただけます。

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測定用標準基板・テストサンプル・校正構造体

MikroMasch

測定用標準基板・テストサンプル・校正構造体:- AFM 校正用構造体 測定用標準基板 HOPG,- AFM 校正用構造体 TGXYZ,- AFM 校正用構造体 TGX,- AFM 校正用構造体 TGF11シリーズ

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クロスコリレータ SEQUOIA

Amplitude Technologies

市販品で最高のダイナミックレンジを持つ3次フェムト秒クロスコリレーター。高ピークパワー・フェムト秒レーザーシステムのレーザーパルス形状の厳密な制御に理想的。

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分子間相互作用解析装置 “QCM-D”

3T analytik

リアルタイムで質量変化と粘弾性、膜厚を分析高性能で低価格

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パルス色素レーザー

Sirah Lasertechnik

あらゆる原子・分子分光に好適なパルス色素レーザー。370~920 nm

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粒度分布測定装置 “VisiSize” PDIA式(新画像解析式)

Oxford Lasers

最新解析アルゴリズムと新特許光学系により、在来型や他方式を超える安定性と精度を実現。測定レンジ。サイズ:1μm ~15,600μm。速度:~1,000m/s@100μm

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