クラス最速・最高精度 3Dプリンタ 光造形装置 Quantum X Shape

Nanoscribe

新商品

Quantum X shapeは、2光子重合(2PP)をベースに独自のプリンティングテクノロジーを組み合わせた、多用途での活用が可能な3Dプリンタです。あらゆる2.5D/3D形状での、サブミクロン精度と高い正確性でのラピッドプロトタイピング可能。またウェハースケールのバッチ生産に最適なツールとなっています。

高精細3D光造形 次世代積層造形装置 Quantum X shape

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Quantum X shape 3Dプリンタ性能・機能

Nanoscribe4ウェーバー

  • 最高の精度と高い設計自由度を備えたラピッドプロトタイピングを、わかりやすいワークフローで実現
  • ウェハレベルのバッチ処理に対応した、業界で実績のあるプラットフォーム
  • 200種類の代表的な構造を一晩で造形可能
  • 一般的なものから特殊用途向けまでの多彩なプリンティング材料
  • オーダーメイドや他社製材料にも対応可能なオープンシステム

Quantum X shape 3Dプリンティング工程とスケール範囲

Quantum X shape カーブメンブレン

  • 2PPベースの3Dプリント
  • 驚異的なスピードで正確に表面パターニング可能な2光子グレイスケール・リソグラフィ(2GL®)システム
  • ナノスケール・プリンティング ― 空間全方向において最小100 nmまでの形状精度コントロール
  • マイクロスケール・プリンティング ― 代表的寸法50~700 µm
  • メゾスケール・プリンティング ― 最大寸法50mm

Quantum X shape ソフトウェア

プリンティングを簡単に実行できるソフトウェアを揃えています。

Quantum X shape ピラー柱

  • DeScribeX:
    3D CADモデルのインポートからプリントジョブのアップロードまで、わずか数ステップで行うことができます。
  • GrayScribeX 2.5Dプリント:
    Quantum Xシステム独自の.nanoファイルとしてアップロードするまで、わずか数ステップで行えます。
  • nanoConnectXでリモート接続:
    リモートアクセスソフトウェアnanoConnectXを使用して、オフィスからプリントを開始およびモニタできます。

最高品質が要求される次の分野での研究室・マルチユーザー施設向けでの3D微細加工装置です。
また産業界のトップクラスのイノベータが微細加工の可能性を最大限に引き出すために最適化された設計されています。
 

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  • 生命科学
  • 材料工学
  • マイクロ流路
  • マイクロメカニクス&MEMS
  • 屈折型マイクロオプティクス
  • 回折型マイクロオプティクス
  • 集積フォトニクス
  • ラピッドプロトタイピング
  • バッチ処理/少量生産
  • ウェハスケールの製造

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3Dプリンタ 光造形装置 Quantum X Shape 性能・機能

  • 高速3D微細加工(ヴォクセル(Voxel)サイズの超高速制御と100nmアドレスグリッド)
  • 高度なガルボ軌道制御から高速スキャンがによって最高の精度を実現
  • 透明、不透明、反射面をnm単位の精度で検出するインタフェースファインダ
  • 自動補正ルーチンにより、正確なレーザー出力制御と位置決めが可能
  • 幅広いの範囲の基板と最大6インチのウェハーに対応
  • 産業用バッチ処理:200個の代表的メゾスケール構造を一夜で造形が可能
  • タッチスクリーンとリモートコントロールによる高い操作性

3Dプリンタ 光造形装置 Quantum X Shape 仕様

ベンチマークスコア
表面粗さ(Ra) 最小 ≤ 5nm
最小形状サイズ1 最小 100 nm
形状精度 最小 ≦200nm
バッチ処理 一晩で代表的な200種類のメゾスケール構造
オートフォーカス精度 最小 ≦30nm
プリントフィールド径 25mmをレンズ倍率で割った値
最大スキャン速度 6.25m/sをレンズ倍率で割った値2
システムの一般特性
プリント技術 2光子重合(2PP)によるレイヤごとの3Dプリンティング
ヴォクセル(Voxel)チューニング機能付き2光子グレイスケール・リソグラフィ(2GL ®)
基板 顕微鏡スライド(3 x 1″ / 76 x 26 mm)
ウェハ 1インチ(25.4 mm)から6インチ(150 mm)まで
ガラス、シリコン、その他の透明および不透明素材
光硬化性樹脂 Nanoscribe製IP光硬化性樹脂(ポリマープリンティング)
Nanoscribe製GP-Silica(ガラスプリンティング)
他社製およびカスタム材料に対応
最大プリントエリア 50 x 50 mm2

達成可能な値は光硬化性樹脂やストラクチャ形状によって異なります。
1 空間全方向において100 nmの形状サイズ制御が可能
2 例:倍率10倍: 625 mm/s

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