クラス最速・最高精度 3Dプリンタ光造形装置 Quantum X Shape

Quantum X shapeは、2光子重合（2PP）をベースに独自のプリンティングテクノロジーを組み合わせた、多用途での活用が可能な3Dプリンタです。あらゆる2.5D/3D形状での、サブミクロン精度と高い正確性でのラピッドプロトタイピング可能。またウェハースケールのバッチ生産に最適なツールとなっています。

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概要
応用例
主な仕様

高精細3D光造形次世代積層造形装置 Quantum X shape

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Quantum X shape 3Dプリンタ性能・機能

最高の精度と高い設計自由度を備えたラピッドプロトタイピングを、わかりやすいワークフローで実現
ウェハレベルのバッチ処理に対応した、業界で実績のあるプラットフォーム
200種類の代表的な構造を一晩で造形可能
一般的なものから特殊用途向けまでの多彩なプリンティング材料
オーダーメイドや他社製材料にも対応可能なオープンシステム

Quantum X shape 3Dプリンティング工程とスケール範囲

2PPベースの3Dプリント
驚異的なスピードで正確に表面パターニング可能な2光子グレイスケール・リソグラフィ（2GL®）システム
ナノスケール・プリンティング ― 空間全方向において最小100 nmまでの形状精度コントロール
マイクロスケール・プリンティング ― 代表的寸法50～700 µm
メゾスケール・プリンティング ― 最大寸法50mm

Quantum X shape ソフトウェア

プリンティングを簡単に実行できるソフトウェアを揃えています。

DeScribeX：
3D CADモデルのインポートからプリントジョブのアップロードまで、わずか数ステップで行うことができます。
GrayScribeX　2.5Dプリント：
Quantum Xシステム独自の.nanoファイルとしてアップロードするまで、わずか数ステップで行えます。
nanoConnectXでリモート接続：
リモートアクセスソフトウェアnanoConnectXを使用して、オフィスからプリントを開始およびモニタできます。

最高品質が要求される次の分野での研究室・マルチユーザー施設向けでの3D微細加工装置です。
また産業界のトップクラスのイノベータが微細加工の可能性を最大限に引き出すために最適化された設計されています。

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マイクロメカニクス＆MEMS
屈折型マイクロオプティクス
回折型マイクロオプティクス
集積フォトニクス
ラピッドプロトタイピング
バッチ処理／少量生産
ウェハスケールの製造

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3Dプリンタ光造形装置 Quantum X Shape 性能・機能

高速3D微細加工（ヴォクセル（Voxel）サイズの超高速制御と100nmアドレスグリッド）
高度なガルボ軌道制御から高速スキャンがによって最高の精度を実現
透明、不透明、反射面をnm単位の精度で検出するインタフェースファインダ
自動補正ルーチンにより、正確なレーザー出力制御と位置決めが可能
幅広いの範囲の基板と最大6インチのウェハーに対応
産業用バッチ処理：200個の代表的メゾスケール構造を一夜で造形が可能
タッチスクリーンとリモートコントロールによる高い操作性

3Dプリンタ光造形装置 Quantum X Shape 仕様

ベンチマークスコア
表面粗さ（Ra）	最小 ≤ 5nm
最小形状サイズ¹	最小 100 nm
形状精度	最小 ≦200nm
バッチ処理	一晩で代表的な200種類のメゾスケール構造
オートフォーカス精度	最小 ≦30nm
プリントフィールド径	25mmをレンズ倍率で割った値
最大スキャン速度	6.25m/sをレンズ倍率で割った値²
システムの一般特性
プリント技術	2光子重合（2PP）によるレイヤごとの3Dプリンティングヴォクセル（Voxel）チューニング機能付き2光子グレイスケール・リソグラフィ（2GL ®）
基板	顕微鏡スライド（3 x 1″ / 76 x 26 mm）ウェハ 1インチ（25.4 mm）から6インチ（150 mm）までガラス、シリコン、その他の透明および不透明素材
光硬化性樹脂	Nanoscribe製IP光硬化性樹脂（ポリマープリンティング） Nanoscribe製GP-Silica（ガラスプリンティング）他社製およびカスタム材料に対応
最大プリントエリア	50 x 50 mm²