クラス最速・最高精度 3Dプリンタ 光造形装置 Quantum X Shape

Quantum X shapeは、2光子重合(2PP)をベースに独自のプリンティングテクノロジーを組み合わせた、多用途での活用が可能な3Dプリンタです。あらゆる2.5D/3D形状での、サブミクロン精度と高い正確性でのラピッドプロトタイピング可能。またウェハースケールのバッチ生産に最適なツールとなっています。
高精細3D光造形 次世代積層造形装置 Quantum X shape
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Quantum X shape 3Dプリンタ性能・機能
Quantum X shape 3Dプリンティング工程とスケール範囲
Quantum X shape ソフトウェア
プリンティングを簡単に実行できるソフトウェアを揃えています。
最高品質が要求される次の分野での研究室・マルチユーザー施設向けでの3D微細加工装置です。
また産業界のトップクラスのイノベータが微細加工の可能性を最大限に引き出すために最適化された設計されています。
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- 生命科学
- 材料工学
- マイクロ流路
- マイクロメカニクス&MEMS
- 屈折型マイクロオプティクス
- 回折型マイクロオプティクス
- 集積フォトニクス
- ラピッドプロトタイピング
- バッチ処理/少量生産
- ウェハスケールの製造
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3Dプリンタ 光造形装置 Quantum X Shape 性能・機能
- 高速3D微細加工(ヴォクセル(Voxel)サイズの超高速制御と100nmアドレスグリッド)
- 高度なガルボ軌道制御から高速スキャンがによって最高の精度を実現
- 透明、不透明、反射面をnm単位の精度で検出するインタフェースファインダ
- 自動補正ルーチンにより、正確なレーザー出力制御と位置決めが可能
- 幅広いの範囲の基板と最大6インチのウェハーに対応
- 産業用バッチ処理:200個の代表的メゾスケール構造を一夜で造形が可能
- タッチスクリーンとリモートコントロールによる高い操作性
3Dプリンタ 光造形装置 Quantum X Shape 仕様
ベンチマークスコア | |
---|---|
表面粗さ(Ra) | 最小 ≤ 5nm |
最小形状サイズ1 | 最小 100 nm |
形状精度 | 最小 ≦200nm |
バッチ処理 | 一晩で代表的な200種類のメゾスケール構造 |
オートフォーカス精度 | 最小 ≦30nm |
プリントフィールド径 | 25mmをレンズ倍率で割った値 |
最大スキャン速度 | 6.25m/sをレンズ倍率で割った値2 |
システムの一般特性 | |
プリント技術 | 2光子重合(2PP)によるレイヤごとの3Dプリンティング ヴォクセル(Voxel)チューニング機能付き2光子グレイスケール・リソグラフィ(2GL ®) |
基板 | 顕微鏡スライド(3 x 1″ / 76 x 26 mm) ウェハ 1インチ(25.4 mm)から6インチ(150 mm)まで ガラス、シリコン、その他の透明および不透明素材 |
光硬化性樹脂 | Nanoscribe製IP光硬化性樹脂(ポリマープリンティング) Nanoscribe製GP-Silica(ガラスプリンティング) 他社製およびカスタム材料に対応 |
最大プリントエリア | 50 x 50 mm2 |
達成可能な値は光硬化性樹脂やストラクチャ形状によって異なります。
1 空間全方向において100 nmの形状サイズ制御が可能
2 例:倍率10倍: 625 mm/s
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