ENGLISH
日本語
製品情報
超小型 高分解能 リニアアクチュエータ “M3-L”
M3-Lは小型の高分解能位置決めシステムです。アクチュエータにドライバーとクローズドループコントローラを内蔵。3.3V 駆動、I2C、SPIなどシリアル制御可能。コンパクトで組み込みし易くOEM機器への使用に最適です。開発キットもご用意いたしております。
最大40μJ出力 高機能フェムト秒レーザー Satsuma Niji
平均出力パワー 最大20W、4波長同時出力、フルカスタマイズ可能、波長域257nmから最大4000nmまでの範囲で選択可能、繰返し周波数 2 MHz
MicroSense 4800 シリーズ 静電容量変位センサ
優れた直線性と温度特性。静的な変位測定のスタンダードモデル。
INCA 多重分光近接ビーコン
VIS、NIR、SWIR、MWIR、LWIRバンド対応、長距離で検出可能な高輝度マルチスペクトル光信号を提供します。
Vibration Control製品
ニューポートの除振台は、国内外を問わず多くのお客様から高い評価をいただいております。
ニューポート社製 Vibration Control製品の詳細は、専用サイトをご参照下さい。
ファイバーケーブル／ファイバーコンポーネント各種
ファイバ出力レーザー製造で培われた高い光ファイバ技術。 400～875 nm。APC or PC。ジャケット選択可。
チューナブル・光音響イメージング光源“PHOCUSシリーズ”
690～950 nm, 1200～2600 nm。繰返し10 or 20Hz (Phocus HR Mini のみ100Hz)。パルス幅5～9 ns。リングキャビティOPOベース 波長可変レーザー
AFM-IR装置 Vista One, IR-PiFM / PiF-IR
ナノスケールIR化学分析用のオリジナルPiFM用AFM。 Vista One は、FTIR やナノ FTIR よりも詳細なナノスケールのケミカルマッピングと点スペクトルを取得します。
OEM用 ファイバーコリメーター
ファイバーレーザーに最適。特許技術で戻り光による光学系損傷防止。強固なアーマー外皮。多種なファイバーに対応（HI-1060、20/250、980PMおよびカスタム対応）、0.4～5.0mmまでの出射ビーム径、0.08～0.14NAまで対応、対応出力（伝送光）30～400 W、対応出力（戻り光）5～50 W
チューナブル OPOレーザー“C-WAVE シリーズ”
光パラメトリック発振器（OPO）での 波長可変CWレーザー光源。可視光から近赤外の波長領域と広範囲で調整可能。コンピュータでの制御で自動波長調整。
【NEW！】可視域での波長可変域をさらに拡大したC-WAVE GTR発売（2021年5月）
OEMレーザーマーカー
レーザーマーキングシステムへの搭載用レーザーマーカー。独立型＆コンプリートシステムで他のアセンブリラインや特殊マシンへの組み込みにも最適。
卓上型ディスペンシング・ロボットシステム Twin-air® EDシリーズ
卓上型ディスペンシング・ロボットシステム。XYステージ付きシステム。1nL(ナノリットル)以下の滴下、細線描画を実現。オートアライメント・ノズルギャップ自動補正機能を標準搭載 Twin-air®
193nm 単一周波数Qスイッチ LD励起レーザー“IXION-193-SLM”
高品質 TEM00 ビーム, スペクトル幅 <120MHz フーリエ限界の単一周波数全固体レーザー
高出力レーザー用非接触ビームプロファイラ“BeamWatch”
BeamWatch™ ビームウォッチ 非接触・集光スポット径・ビーム位置計測ビームモニタリングシステム。測定パワー範囲 400W – 100kW。波長 980-1080 nm
フォトニック集積回路向け マルチチャンネルソース測定システム SMU
フォトニック集積回路向けマルチチャンネル・ソース測定機器（SMU）です。XPOW は複数の電圧/電流の印加と電圧/電流の測定が可能です。高い汎用性でシンプルな電子回路から複雑なフォトニック集積回路まで、低消費電力の用途にて最適です。また、 XPOWのアップグレード版で、より高速なXDAC はユニポーラ、バイポーラ、ディファレンシャルなど、柔軟なチャンネル出力が可能です。
低価格 Sub-THz発振 非破壊イメージング・センシングツール TeraScan100
Sub-THz 発振でNDT 非破壊検査 センシング・イメージングを実現する簡易検査ツールです。FMCWレーダー技術をベースに深さ方向3Dサブテラヘルツスキャナーの組合せ。データ取得、スキャナー制御用ソフトウェアと画像処理・可視化ソフトウェアも含めオールインワンでご提供。
ナノポジショニング・リニアステージ（ピエゾ駆動直進ステージ）
ナノメートル分解能の圧電素子モータベース・直進ステージ。単軸/多軸、一体型/モジュール式、オープンループ/クローズドループを用途に応じて選択可能
光コネクタ端面3D測定干渉計
光コネクタの端面を3Dで測定可能な干渉計です。マイケルソン干渉計使用、幅広いタイプのファイバコネクタに対応した高分解能・広範囲で測定が可能。IEC（国際規格）に準拠した研磨品質の確認・コネクタ端面の形状の検査が可能です。
装置組込み用白色干渉計・共焦点顕微鏡 S neox sensor
S neoxは多機能かつ高性能な機能をもつ組込み可能な3D測定センサです。共焦点・白色干渉計・焦点移動による3D表面形状測定加えて、膜厚測定ができ、幅広いアプリケーションに対応。自動3D測定が可能。
266nm CW, 超小型UV DPSSレーザー“FQCW266シリーズ”
266nm, CW(連続波)レーザー, 出力 10～550mW 空冷式。縦モードシングル 300kHz
レーザー回折式 粒度分布測定装置 HELOS
乾式測定における試料分散性能と測定再現性に優れており、凝集しやすい試料でも安定して測定できます。世界各国に多数の納入実績があり、製薬、化学、磁性体、食品などの様々な業界で採用されています。（測定範囲: 0.1～3500 µm）
高性能サーモグラフィ “VarioCam HD head” シリーズ
高解像度、高分解能、高精度のサーマルイメージを得ることができる高性能サーモグラフィ
AFMプローブ 磁気力顕微鏡 Co-Cr コーテイング コバルトクロム
HQ:NSCプローブモデルには、磁気力顕微鏡（MFM)用のコーティングを施した製品もご用意しております。コーティングはチップサイドに膜厚60 nmのコバルト層があり、さらに酸化防止のクロムフィルム膜厚20 nmがカバーしています。トポグラフィーと磁気特性の安定した測定のためにカンチレバーのパラメーターは最適化されています。
測定用標準基板・テストサンプル・校正構造体
測定用標準基板・テストサンプル・校正構造体：- AFM 校正用構造体 測定用標準基板 HOPG,- AFM 校正用構造体 TGXYZ,- AFM 校正用構造体 TGX,- AFM 校正用構造体 TGF11シリーズ
