高速・微細な多穴加工（円および四角形状）

オプトジェネティクス（光遺伝学）用途に特化。473nm、561nm/594nmレーザーをワンパッケージ化。最大出力150mW＠561nm。変調機能付き。

パワフルで精密なピコ秒ダイオードレーザードライバー、5年間保証の安心品質。繰り返し周波数 1 Hz ～ 100 MHz。バーストパターン、パルス＆CWモードを設定可能

生きた細胞やバイオマテリアルを常温輸送できる細胞定温輸送ボックスです。陸送モデルCellbox Ground 2.0 はカードリッジ式CO2ボンベで、最長72時間以上 CO2濃度を維持。空輸対応のCellbox Flight 2.0 は、ドライアイスでCO2濃度を維持。いずれも CO2濃度、温度、振動、傾きなどあらゆるパラメータを常時モニタし、安全に且つ最適な状態で輸送できます。

レーザー加工の幅広い要求に柔軟に対応、カスタマイズ性、信頼性、品質に優れたレーザー加工ヘッドです。

高いチューナビリティ（繰り返し周波数、パルス幅、波長）と複数のオプションで非常に高い柔軟性。
1μm, 1.55μm, SHG, 波長可変可。平均出力 最大30W。パルス幅 30ps to ms。繰り返し周波数 5MHz to 1GHz。

レーザースペックル低減とビームの均一化が可能.。可動式のディフューザー（拡散版）によるレーザースペックルリダクター。過酷な環境でも使用可能な堅牢設計。高q-factorで低消費電力。振幅範囲 800μm。

Newport社は、高精度なモーションコントロール製品の豊富な納入実績をもつ世界的リーディングカンパニーです。ユニークで多彩な標準の位置決めステージに加え、特定のニーズに合わせて、アセンブリから高度なカスタム/OEMにも対応いたします。ここでは、ヘキサポッド、ジンバルステージ、多軸回転ステージ、多軸ゴニオステージ／クレードルゴニオ、多軸傾斜ステージなどの、標準シリーズやカスタム製品例を紹介しています。

高密度マルチチャンネルのパルスパターン発生器及びビットエラー検出器です。光トランシーバーや光学電子部品での設計、特性評価、製造用のテストで使用いただけます。

ナノメートル分解能の圧電素子モータベース・直進ステージ。単軸/多軸、一体型/モジュール式、オープンループ/クローズドループを用途に応じて選択可能

最先端の量子カスケードレーザー（QCL）技術ベースの次世代ハイパワー・テラヘルツ光源。最大光出力 7mW。マルチ周波数オプション 最高6周波数。極低温冷却不要の永久真空パッケージ。

ご指定の寸法で正確に加工するレーザーウィンドウ

発振波長1900-2050 nm, バンド幅 <1 nm, 平均出力パワー>30 W。2μm コンポーネント試験や産業センシング、分光、イメージングのための汎用光源に好適

最大５つのラインを組合せ1本のファイバーとして結合が可能です。シンプルモード、偏光保持モード、マルチモードなど複数のタイプの伝送モードが使用可能。様々な出力コネクタに対応

1,000 cm-1/sで100cm-1のチューニング。 中心波長< 4 から > 13 μmの量子カスケードレーザー(QCL)ベース 中赤外 (mid-IR) 波長可変レーザー。

NANOSENSORS製AFMカンチレバー。10本、20本、50本、ウエハ（365または370または380）の入り数でご注文可能。製品一覧表からお探しのモデルをすぐに見つけられます。ご相談もお気兼ねなくお問合せください。

完全インライン向けLIBSシステム。20kHzの超高繰返し測定（カスタムで100kHzまで可）

Lumina Instruments社のATシリーズは、ガラス基板、半導体基板、ディスプレイ基板などの基板の欠陥を可視化する欠陥検査イメージング装置です。高速での測定とnm単位の高いPSLパーティクル感度を実現。

レーザー加工に適した短パルスレーザー。3波長ラインナップ（1064, 532, 355 nm）。最高20W出力。繰返し周波数 1-100kHz。最小パルス幅 20ns

超小型で高分解能（0.5μm）のレンズ位置制御と双方向再現性を実現したフォーカスモジュールです。クローズドループ制御で外部コントローラボードが不要。機器への組込みが容易なモジュールです。組込み用途でご使用いただけます。開発キットもご用意いたしております。

あらゆる偏光状態(SOP)を生成・保持するSOP発生器と偏光分析器の兼用装置

最大パルスエネルギー 50 J @ 1064 nm, 最大繰り返し周波数 50 Hz, パルス幅 8 – 20 ns(オプション)の高エネルギー Nd:YAGレーザー。科学研究や、OEM産業用途向けアプリケーションなどに最適です。

感度と解像度、撮影速度に特徴のあるラインナップをご用意。計測対象に合わせて多彩なPIVカメラから選択可能

※デモ機あり、サンプル測定可能 高精度 （±0.1 μm）、12μm から 80mmの広い範囲が測定可能な膜厚計（厚み計）です。独自の非接触光学技術を採用。硬質材料と軟質材料の両方を、損傷や変形なく厚さ測定をすることができます。最大31層の厚みを同時に測定することが可能です。