6軸（X、Y、Z、ピッチ、ロール、ヨー）動作。複雑なモーションコントロールに高い耐荷重と高精度を提供する6軸自由度ステージ。

光パワーの保持率98%以上で、ガスまたは粒子の充填が可能。センシング、イメージング、超短パルスアプリケーションに最適。

世界最高精細の光造形装置。迅速かつ超精密の微細加工を実現。

完全インライン向けLIBSシステム。20kHzの超高繰返し測定（カスタムで100kHzまで可）

パワフルで精密なピコ秒ダイオードレーザードライバー、5年間保証の安心品質。繰り返し周波数 1 Hz ～ 100 MHz。バーストパターン、パルス＆CWモードを設定可能

PicoQuant社製 TCSPC製品による蛍光分光計制御 及び データ分析ソフトウェア。定常的な励起・発光スペクトル、蛍光・燐光の寿命、異方性測定など、幅広い蛍光分光アプリケーションに対応。スクリプトによる自動化・拡張かが可能。デモ機をご用意しております。

レーザー超音波による非接触非破壊検査／非接触厚さ測定

SuperK シリーズをはじめとするNKT Photonics社のスーパーコンティニューム光源を目的に合わせてより柔軟に使用できる多彩なアクセサリをラインナップ

最高 20W。超コンパクト・オールインワン・ピコ秒レーザー。パルス幅 4～45 ps。繰返し周波数 シングルショット ～100 MHz。パルスエネルギー 500 nJ。

非破壊・非接触検査ができるプラグ＆プレイのテラヘルツ・スペクトロメータ。周波数範囲 0.1～2.5 THz、最大ダイナミックレンジ 54 dB

ナノ秒レーザー Ivyは、ピークパワー ＞9 kW、 平均出力数ナノ秒のパルス幅を持つ業界初のオールインワンの中赤外レーザーです。

中赤外 MIR 2.8～4.2umの波長範囲で調整可能、ピコ秒パルスレーザー。最大出力1W以上。ガスセンシング・リモートセンシング・バイオメディカルで好適

カスタム顕微鏡対物レンズを設計の経験からOEMを含めた最適な対物レンズを提供します。高NA開口部、広視野角、長作動距離、特殊材料制約に対応。多光子顕微鏡、共焦点顕微鏡、超解像顕微鏡、液浸顕微鏡、
STED顕微鏡、生細胞蛍光顕微鏡、深部組織イメージング、超解像顕微鏡、ボーズ=アインシュタイン凝集実験などで活用されています。

高性能コンパクトな A シリーズ プラットフォームは、ナノ秒、ピコ秒、またはフェムト秒パルス レーザーを搭載できるレーザー マイクロマシニング設備です。

最先端の量子カスケードレーザー（QCL）技術ベースの次世代ハイパワー・テラヘルツ光源。最大光出力 7mW。マルチ周波数オプション 最高6周波数。極低温冷却不要の永久真空パッケージ。

ORIGAMI IROは、費用対効果の高いフェムト秒レーザーと光パラメトリック増幅器（OPA）で構成され、広い波長可変域をもつチューナブル・フェムト秒レーザーシステムです。空冷式ORIGAMI XPの優れたビームポインティング安定性とコンパクトさ、およびORIGAMI IROの環境安定性の高い完全自動化OPA技術を兼ね備えています。

4～12 μm 中赤外パルスレーザーの検出に最適な室温動作ディテクタ

時間相関単一光子計数 (TCSPC)、一致相関、マルチチャネルでのスケーリング 、イベント・タイミング（ピコ秒～ミリ秒の時間分解能）用のモジュールです。シングルチャンネルおよびマルチチャンネル。USBまたはPCIeインターフェイスを装備。※HydraHarp 400 デモ機あり

CO2レーザーを効率的・高品質にビーム伝送。リーズナブルなコンプリート・システム

高速減衰速度、低挿入損失、パワーメータ内蔵の MEMS ベースの可変光減衰器。非常にコンパクトで費用対効果の高い可変光減衰器・バリアブルアッテネータです。 高度なパワー安定化機能により、入力パワーが変動しても出力パワーを設定により安定化させ、維持することが可能です。

生産ライン近くの分析室や分析ラボ向けのスタンドアローンLIBS元素分析装置
スラグ、コンクリート、金属などの迅速分析や元素マッピング分析に最適

アウトガス極少で超高真空領域までの立ち上げが短時間で可。熱歪みのない窓材で、透過光(レーザー)の偏光・歪み・散乱を抑制した高精度測定を実現。加速器関連など高精度透過を必要とする全ての実験・開発用の真空窓に。

新製品 Nimma-Lシリーズ をリリース（2022年7月） 最大 2000mJ @ 1064nm, 繰り返し周波数 1 – 100Hz, パルス幅 5 – 10 ns。コンパクトなナノ秒パルスレーザーで、LIBSやLIDAR等のアプリケーションに最適です。

ナノ粒子のSEM・TEMまたはAFM観察を容易にするサンプル・プレパレーション装置。
分散溶媒中に溶かしたナノ粒子を、静電噴霧でSi基板やカーボン蒸着膜基板へ分散塗布します。