革新的なファイバアンプ技術によるコンパクト、ハイパワー、高エネルギー、高繰り返しのフェムト秒/ピコ秒ファイバレーザー。パルス幅 <350 fs to >10 ps または最短 150 fs まで、繰返し周波数 single shot to 40MHz、最大平均出力 50W、最大パルスエネルギー 250 µJ。

CW＆パルス対応の高分解能CCDタイプと低コスト＆広帯域のナイフエッジ式

最大出力 10 W。繰返し周波数 固定または可変。シングルショット/バーストモードなど、用途に応じて最適なウルトラファーストレーザーを提案します。信頼性の高い高品質レーザーで、カスタマイズも対応。最先端の研究用途に最適な製品を提案いたします。

高耐荷重・ロングトラベルタイプから高精度タイプまで幅広い精密垂直ステージをラインナップ

バイオテクノロジーや工業用途に最適な小型のワンボックスデザイン。紫外375nm～赤外1550nm 36波長。最大300mW出力。高速変調機能付き。

PER (偏光消光比) 範囲 50dB。ブロードバンド光源のPERを直接計測可能。1ch. or 2 ch.

オプトジェネティクス（光遺伝学）用途に特化。473nm、561nm/594nmレーザーをワンパッケージ化。最大出力150mW＠561nm。変調機能付き。

中心波長 1930±20 nm, バンド幅 (-20dB) >170 nm, 平均出力パワー>10 mW。広範な波長域と優れたパワー安定性。光コンポーネントの試験、分光、ガスセンシング、バイオメディカル、OCTなど幅広い用途に応用可

世界最高クラスの1PW級ピーク出力を実現。信頼性の高い超高強度フェムト秒レーザー。最大25J。パルス幅 20fs以下。繰返し周波数 最高5Hz

527nm ナノ秒DPSSレーザー.Beamtech Optronics. Tolarシリーズは、DPSS EO-Qスイッチナノ秒DPSSレーザーです。 最大エネルギー 50 mJ @ 1kHz, パルス幅 < 160 ns。

レーザービームを2次元で偏向・集光するXY偏向ユニットです。小～中規模程度の加工エリアで、高速処理が必要なさまざまなアプリケーションに好適です。

高速＆高精度分析。目的に最適なレーザーアブレーションを最高の性能で提供。

量子相関と蛍光測定に特化したソフトウェアを提供。FLIM、FLIM-FRET、FCS、FCCS、FLCS、同時計測、蛍光タイムトレース分析等に対応しています。QuCoa、SymPhoTime 64 、EasyTau 2のすべてのデモ機ご用意しております。

キャリーケースで運搬のでき、取り扱いの簡単な小型軽量タイプ。粒径5μm～3,900μm。速度同時測定モデル

最大出力パワー 400W。最大パルスエネルギー 15mJ。OPCPAポンピングや材料加工に好適。

オールインワンデザインの高エネルギー120mJ 波長チューニング出力システム。210～3450nm。繰り返し周波数10 or 20 Hz。パルス幅 5-7ns。

導電性プローブ：- Pt プラチナ、Cr-Au 金 コーティング, – 高分解能導電性 DPERシリーズ, – 低ノイズ導電性 DPEシリーズ

レーザーを使った非破壊検査システム。計測・測定ソリューションOCT、LIDAR、共焦点イメージング、フォトルミネッセンス分光測定、3Dマッピング、深度計測が可能。レーザー診断、高精度大型製品向け検査、リベット検査（航空宇宙）、自動車など様々で活用されています。

ピコ秒レーザー加工、OEM組込みに最適なモードロック・ダイオード励起Nd:YVO4レーザー。透明材料を含む多彩な素材の非熱加工や、高繰り返し周波数、ピコ秒パルスによる高速加工、精密加工に最適。SHG, THG可。最大平均出力50W、最大繰返し1MHz、パルス幅15ps、最大パルスエネルギー300 μJ

窓材に熱歪みがなく、透過光(レーザー)の偏光・歪み・散乱を抑制した高精度測定を実現。加速器関連など高精度透過を必要とする全ての実験・開発用の真空窓に。

レーザー干渉を利用した厚さ測定装置。厚膜(1～500μm)測定用。小型・高速・高精度

最大10kgもの大荷重でも、高精度な高速ダイナミック・ナノ/マイクロポジショニングを実現。複数のポジショナを組み合わせることも可能。

位相イメージングは、異種材料や特性の不均一性を持つサンプルにおいて、ナノスケールの違いをイメージングするために用いられるAFM技術の一つです。位相コントラストは、チップとサンプル間の相互作用に基づきますが、これらの相互作用は、スキャンパラメーターや、イメージングの測定モード（原子間力の引力領域か斥力領域で捜査しているかなど）に依存します。O’DeaとBurratoは、位相イメージングを使用して、Nafion膜のプロトン伝導ドメインをマッピングしました。彼らは、先端とサンプルの間の特定の相互作用力がプロトン伝導ドメインの分解能に大きく影響することを発見しました。斥力レジームでのイメージングにより、ドメインの面積が大きめに表示され、ドメインの数が少なめに表示されました。引力領域でのイメージングにより、水やフルオロカーボンのドメインが最も正確に測定できました。AFMのフィードバックループが最適化されていない場合、またはカンチレバーが共振周波数を超えて駆動していた時、位相イメージングは組成の違いではなく、形状の変化に対応するイメージになりました。

超安定、長寿命、コンパクトなCO2、COレーザーです。堅牢で信頼性の高いレーザーシステムを設計、開発、製造を行っています。