ピコ秒パルスレーザー光源はレーザーダイオードベースまたはLEDベースのデバイスです。繰返し周波数は最大100MHzまでユーザーせ調整が可能です。 255nmから1990nmまでの離散波長をカバー。 最短パルス幅40ps。RGB3色ピコ秒レーザーをリリース（2021年11月）

M3-LSリニアステージは、コントローラを内蔵した超小型高精度リニアステージです。小型のOEM機器にすぐに組込みが可能。外部ボードも不要です。駆動機器もコンパクトな筐体に内蔵され一体化されています。超小型ながら高精度・安定性・使い易さを兼ね備えています。開発キットもご用意いたしております。

高繰り返し周波数＆広いカバー波長域の、完全自動化オプティカル・パラメトリック・アンプ（OPA）システム。パルス幅：70～300 fs、繰返し周波数：最高 2 MHz、高い変換効率：12%以上 、波長域：210-11000 nm, 325-2500 nm

スペックルパターンのランダム化技術により、マルチモードファイバの出力を均一化

690～950 nm, 1200～2600 nm。繰返し10 or 20Hz (Phocus HR Mini のみ100Hz)。パルス幅5～9 ns。リングキャビティOPOベース 波長可変レーザー

超小型で高分解能（0.5μm）のレンズ位置制御と双方向再現性を実現したフォーカスモジュールです。クローズドループ制御で外部コントローラボードが不要。機器への組込みが容易なモジュールです。組込み用途でご使用いただけます。開発キットもご用意いたしております。

最大10kgもの大荷重でも、高精度な高速ダイナミック・ナノ/マイクロポジショニングを実現。複数のポジショナを組み合わせることも可能。

高出力波長可変CWレーザー光源。可視光から近赤外の広範囲な波長領域で波長可変可能な光パラメトリック発振器（ OPO ）

各種システム・装置の偏波特性を多様化し、性能の最適化をサポートする多彩な偏波関連モジュール

アークランプに代わる長寿命 白色光源。紫外・赤外領域の発光が少なく、生体サンプルに与える影響を抑制

感度と解像度、撮影速度に特徴のあるラインナップをご用意。計測対象に合わせて多彩なPIVカメラから選択可能

数百TW (テラワット) からPW (ペタワット) 級の大出力チタンサファイアレーザーの励起に理想的な小型高エネルギー Nd:YAGレーザー。最大12J＠532nm。繰返し5Hz。パルス幅 12ns。

市販品で最高のダイナミックレンジを持つ3次フェムト秒クロスコリレーター。高ピークパワー・フェムト秒レーザーシステムのレーザーパルス形状の厳密な制御に理想的。

シリコンナイトライドカンチレバー・チップのガラスホルダーチップの両側に2つ配置。用途としてソフトコンタクトモードで使われます。

実際の粒子映像を使用して、粒子サイズや速度とその分布を正確に自動測定

業界一の超高速でケミカルイメージ（化学組成マッピング）を測定可能です。1視野のケミカルイメージは35秒で取得できます。固定波数でのイメージングは、毎秒30フレームのリアルタイム取得です。工業サンプルの赤外像を可視化できます。バイオ・医療分野ではがん細胞と正常細胞を赤外吸収スペクトルの違いで判別する研究に応用されています。詳しくは応用例タブをご覧ください。

発振波長1550-1570 nm からご指定, 平均出力パワー1 W / 1.5 W。ツリウムファイバレーザーのポンプ用 高安定性 CW レーザー光源に最適

Lumina Instruments社のATシリーズは、ガラス基板、半導体基板、ディスプレイ基板などの基板の欠陥を可視化する欠陥検査イメージング装置です。高速での測定とnm単位の高いPSLパーティクル感度を実現。

UV～ミリ波。CW、パルスの両レーザー光に対応。高精度で信頼性の高いレーザビーム計測機器

発振波長1900-2050 nm, バンド幅 <1 nm, 平均出力パワー>30 W。2μm コンポーネント試験や産業センシング、分光、イメージングのための汎用光源に好適

高いチューナビリティ（繰り返し周波数、パルス幅、波長）と複数のオプションで非常に高い柔軟性。
1μm, 1.55μm, SHG, 波長可変可。平均出力 最大30W。パルス幅 30ps to ms。繰り返し周波数 5MHz to 1GHz。

レーザースペックル低減とビームの均一化が可能.。可動式のディフューザー（拡散版）によるレーザースペックルリダクター。過酷な環境でも使用可能な堅牢設計。高q-factorで低消費電力。振幅範囲 800μm。

波長範囲 1880-2000 / 1900-2050 nm, 平均出力 >100 mW /1.3 W。 幅広いゲイン波長域、低ノイズ、優れた出力安定性を有します。

高出力超短パルスファイバレーザーに最適な、高性能なイッテルビウム（Yb）ファイバゲインモジュール。低非線形、高出力、高いポインティング安定性。