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製品情報
ピコ秒パルス＆CW発振 ダイオードレーザー“QuixXシリーズ”
ピコ秒（最小パルス幅50ps, 最高100MHz繰返し）＆CWの両発振が可能な高機能エレクトロニクス完全一体型ダイオードレーザーシステム。375～2090 nm範囲の多彩な波長ラインナップ。最大CW出力500mW、ピークパワー 最高2.5W
周波数分解型光ゲーティングパルスアナライザ
IQFROG周波数分解光ゲートパルスアナライザは、300fs～50psのパルスの強度・位相測定に適した分光分解第二高調波発生（SHG）自己相関器です。
高出力マイクロチップレーザー装置 ナノ秒mJパルス“HiPoLas”
最大出力 40 mJ, 最大繰り返し周波数 1kHz, パルス幅 2～10 ns。レーザー点火等 過酷環境下での使用に好適。超コンパクト＆高出力
ビーム位置測定装置一覧
シンプル・高速・低コスト。お手持ちのPCでレーザービームをリアルタイム制御
ピコ秒パルスドライバー （シングルチャンネル／マルチチャンネル）
ピコ秒パルスダイオードレーザードライバー。PicoQuantのレーザー、LEDヘッドで繰り返し周波数率とパルスエネルギーを制御可能。 コンピューター制御のシングルチャネル、またはマルチチャネルユニットが利用可能。 独自の5年間限定保証。
最大500μJ出力 高機能フェムト秒/ピコ秒レーザー Tangor
革新的なファイバアンプ技術によるコンパクト、ハイパワー、高エネルギー、高繰り返しのフェムト秒/ピコ秒ファイバレーザー。パルス幅 最短 500 fs – 10 ps、繰返し周波数 single shot to 40MHz、最大平均出力 100W、最大パルスエネルギー 500 µJ。
OEMレーザーマーカー
レーザーマーキングシステムへの搭載用レーザーマーカー。独立型＆コンプリートシステムで他のアセンブリラインや特殊マシンへの組み込みにも最適。
レーザー ベースの非破壊検査システム
レーザーを使った非破壊検査システム。計測・測定ソリューションOCT、LIDAR、共焦点イメージング、フォトルミネッセンス分光測定、3Dマッピング、深度計測が可能。レーザー診断、高精度大型製品向け検査、リベット検査（航空宇宙）、自動車など様々で活用されています。
PDL エミュレータ“PDLE-101”
高速トランレシーバなどのPDL誤差計測やPDLトラッキング速度の定量化などPDL関連の検査・計測に最適なPDL発生＆エミュレータ
低価格 Qスイッチ半導体励起固体レーザー“CL100シリーズ”
レーザー微細加工に適した低価格な高繰返しナノ秒パルスレーザー。2波長ラインナップ（1064, 532 nm）。最高3W出力。繰返し周波数 1-100kHz。最小パルス幅 15ns
厚膜ポジティブ/ネガティブ・トーン・フォトレジスト
400nm近傍の波長に感度を有する厚膜フォトレジスト。マスクレス・リソグラフィのアプリケーションを拡げます
レーザ光用遮光保護めがね・ゴーグル
レーザー使用時に必須の保護めがねとゴーグル等を提供しております。形状・機能･用途に応じて幅広いモデルをラインナップ。適合規格EN CE に対応した製品もご用意しております。
装置組込み用非接触面粗さ計 S onix sensor
S onixは高スループットな産業向け装置組込み用白色干渉計顕微鏡です。ハイスピードカメラと最適化された光学的・機械設計により、S onixは白色干渉計として最速のシステムとなっています。
インプリント・モールド
3Dから高アスぺクト比形状まで対応
マイクロレンズアレイ・DOE試作用 3D光造形装置 Quantum X
世界初、マスクレス微細加工のための2光子グレースケール・リソグラフィシステム。屈折型、回折型マイクロ光学素子製造のための最先端装置。
ラインスキャナ型 非接触温度計“MP150シリーズ”
512ポイントでの測定が可能な温度計測用高精度ラインスキャナ
高出力レーザーとUVレーザー VisUV / VisIR
VisUVでは波長266nm～590nm、最大100mW、レーザービームを3本まで平行出力可能。VisIRでは1064nm 、1530nmで高出力用途に対応。STED顕微鏡用ディプレッション・レーザー (766nm) に最適。オプションで周波数変換も可能。
フォトンカウンティング 光子計数実験用 アクセサリ
フォトン カウンティング（光子計数 ）実験用のアクセサリを提供しています。PicoHarp 300 TCSPC 用ルーター、SPAD 用専用デュアル チャネル電源、ピコ秒分解能のディレーヤー、トリガー ダイオード 信号コンディショナー、信号ケーブル
キセノン／ハロゲン・イルミネータ“APEX 2”
簡単操作、アライメント不要、小型、ターンキー操作の完全一体型システム
溶接の可視化装置 VisiWeld
溶接のアークや炎の光の中を可視化する溶接可視化システム
最大 50 J 高エネルギー Nd:YAGレーザー
最大パルスエネルギー 50 J @ 1064 nm, 最大繰り返し周波数 50 Hz, パルス幅 8 – 20 ns(オプション)の高エネルギー Nd:YAGレーザー。科学研究や、OEM産業用途向けアプリケーションなどに最適です。
320nm & 349nm 単一周波数 CW DPSSレーザー NXシリーズ
波長 320, 349, 532, 640, 780 nm、狭線幅 (< 0.5 MHz)、非常に小さい強度ノイズ (< 0.1% RMS)、回折限界 TEM00 ビーム。 独自の光学アーキテクチャとハーメチックシールドパッケージにより、長期間にわたって非常に安定した動作と性能を保持します。要件の厳しい組み込み用途で高い堅牢性と耐久性を発揮します。また、高い精度、安定性、スペクトル純度が求められる、ラマン分光、干渉実験、ホログラフィ、量子技術開発など、高度な研究用途にも最適です。
ビームプロファイラ装置一覧
CW＆パルス対応の高分解能CCDタイプと低コスト＆広帯域のナイフエッジ式
パルスコンプレッサモジュール COMPRESS
ピコ秒/サブピコ秒パルスレーザーシステムのパルス幅を大幅に短縮するモジュール。最高のスループット効率、良好なビーム品質、高い安定性。入力パルス幅 < 150 fs to 1 psを数サイクルパルスまで短縮可能。対応波長 1030nm, 515nm
