SuperK シリーズをはじめとするNKT Photonics社のスーパーコンティニューム光源を目的に合わせてより柔軟に使用できる多彩なアクセサリをラインナップ

1TW級ピーク出力を実現。信頼性の高い超高強度フェムト秒レーザー。最大6.25J。パルス幅 20fs以下。繰返し周波数 最高10Hz

超小型で高分解能（0.5μm）のレンズ位置制御と双方向再現性を実現したフォーカスモジュールです。クローズドループ制御で外部コントローラボードが不要。機器への組込みが容易なモジュールです。組込み用途でご使用いただけます。開発キットもご用意いたしております。

長寿命でパワー安定性の高い内部ミラータイプ。空冷で最大40mW。454/457/514nm, シングル/ダブル/マルチ波長。

PDT(Photodynamic Therapy: 光線力学療法)、PIT(Photoimmunotherapy: 光免疫療法)、PDD(Photodynamic Diagnosis:光力学的診断)などのレーザーがん治療・診断に最適な光源
※本製品は研究開発用で実際の治療用途には使用できません。

世界最高精細の光造形装置。迅速かつ超精密の微細加工を実現。

アークランプに代わる長寿命 白色光源。紫外・赤外領域の発光が少なく、生体サンプルに与える影響を抑制

テレスコープ・ビームエキスパンダー・コリメータなどに最適な高い面精度

拡張ピクセル分解能を備えた2位置または4位置のアクチュエータによるビームシフティングデバイス です。標準開口径 9～33mm。3Dプリンタ、カメラ、計測、光結合などでご活用いただけます。

最大500 mJもの高パルスエネルギーと最大 1TWの高いピークパワーを併せ持つ世界初の工業用グレード・ピコ秒/フェムト秒レーザー。モジュール式プラットフォームでアプリケーションの要件に合わせてカスタマイズ可能。パルス幅 < 500 fs

Spacetek Technology社の IonTamer™ は飛行時間型の質量分析計 / 残留ガス分析器 (TOF-RGA) です。ガス組成をリアルタイムで、高分解能、高感度にモニターします。世界最高性能のRGAであるIonTamer™は、これまで実験室用装置でしか得られなかった性能を、コンパクトで扱いやすく、組み込み可能にしました。半導体製造、OLEDディスプレイ製造、光学部品、ソーラーパネル製造、真空コーティングプロセス（CVD、PVD、ALD）、真空炉、冶金、超高真空などでの研究、過酷な環境下での用途に対応します。

LDなど光学部品の精密ポジショニング及びスキャニング用途に適した、安定性に優れたピエゾ駆動の高精度ステージ。X, Z, XY, XYZ, 5軸, 回転。可動距離 最高1500μm

6軸（X、Y、Z、ピッチ、ロール、ヨー）動作。複雑なモーションコントロールに高い耐荷重と高精度を提供する6軸自由度ステージ。

Quantum X shapeは、2光子重合（2PP）をベースに独自のプリンティングテクノロジーを組み合わせた、多用途での活用が可能な3Dプリンタです。あらゆる2.5D/3D形状での、サブミクロン精度と高い正確性でのラピッドプロトタイピング可能。またウェハースケールのバッチ生産に最適なツールとなっています。

ニューポートの光測定機器は、連続光やパルス光のパワーおよびエネルギーや波長などビーム特性測定をに好適な機器です。
ニューポート社製 Optical Measurement製品の詳細は、専用サイトをご参照下さい。

光源の偏光度 (DOP) をリアルタイムに計測。特許の最大/最小サーチ技術により、低DOPも高DOPも正確に測定

波長750～1700nmの光信号出力を-60～+10dBmの範囲で高速モニタリングが可能です。1500シリーズパワーメータは、アクティブファイバーアライメントに最適な対数アナログ出力を備えています。

100Wと200Wモデルがございます。200Wモデルは錆取りや塗装膜除去に最適なレーザーを搭載しております。

最大５波長のDPSS / LDレーザーモジュール（375～808 nm）をコンパクトパッケージに格納。1波長当り最大2500mW

流れの可視化光源に適した非常にコンパクトな筐体のレーザー

平均出力パワー 最大20W、4波長同時出力、フルカスタマイズ可能、波長域257nmから最大4000nmまでの範囲で選択可能、繰返し周波数 2 MHz

ピコオーダ、超高速(10MHz)、長作動距離(最大5m)、多様な材質や極端環境（超高真空、高磁場）に対応する変位測定干渉計【レーザー干渉式変位センサ】

キャリーケースで運搬のでき、取り扱いの簡単な小型軽量タイプ。粒径5μm～3,900μm。速度同時測定モデル

ファイバ出力レーザー製造で培われた高い光ファイバ技術。 400～875 nm。APC or PC。ジャケット選択可。