特殊な材料や前処理を必要とせずに、透明な樹脂のレーザー溶着を可能にします。コンパクト、低コストな産業向けファイバーレーザーです。材料の特性に合わせて、1900 nm – 2000 nm から波長を指定できます。

フォトニック集積回路向けマルチチャンネル・ソース測定機器（SMU）です。XPOW は複数の電圧/電流の印加と電圧/電流の測定が可能です。高い汎用性でシンプルな電子回路から複雑なフォトニック集積回路まで、低消費電力の用途にて最適です。また、 XPOWのアップグレード版で、より高速なXDAC はユニポーラ、バイポーラ、ディファレンシャルなど、柔軟なチャンネル出力が可能です。

信頼性が高く、コンパクトで多用途、費用対効果の高いパッケージの高エネルギー超短パルスレーザーです。 IR, Green, UV波長出力可能。

融着部保護用にUV硬化樹脂を塗布・硬化させ、被覆を再構築する装置。シリコン樹脂モールド使用。

高速トランレシーバなどのPDL誤差計測やPDLトラッキング速度の定量化などPDL関連の検査・計測に最適なPDL発生＆エミュレータ

高出力 MIR 中赤外 ナノ秒レーザー。ピークパワー 500kW, 平均出力 2 W。オールインワンで一体型のコンパクトな設計になっています。

PBPD-001 は偏波に対する感受性を持った差分フォトディテクタです。低ノイズかつ高いコモンモードノイズ除去比、高コンバージョンゲイン、ワイドバンド、コンパクトな使いやすいモデルです。

外部・内部量子効率を同時測定できる経済的なソリューションです

中空コアファイバ技術で、分散と非線形の影響を抑えた超短パルスレーザー。ファイバ長 1, 2, 5 m（応相談）、波長 1030nm。

高濃度対応 インラインSS（浮遊物質測定）・濁度　計測
後方光散乱方式採用
過酷な環境下でもメンテフリーで使用可能な堅牢デザイン

AFM 超高感度電流増幅器

クリーンルーム対応。高い柔軟性を持つ装置組込み用顕微鏡ヘッド。さまざまなアプリケーションに適合します。ISO Class 1及びESDの規格に対応。

アウトガス極少で超高真空領域までの立ち上げが短時間で可。熱歪みのない窓材で、透過光(レーザー)の偏光・歪み・散乱を抑制した高精度測定を実現。加速器関連など高精度透過を必要とする全ての実験・開発用の真空窓に。

CrabiAFMは、コンパクトで低価格な簡易原子間力顕微鏡（AFM）です。リサーチ用途、ナノ教育、またはすでにAFM経験をお持ちの方のサブ機として最適です。

あらゆる偏光状態(SOP)を生成・保持するSOP発生器と偏光分析器の兼用装置

213nm 150mW / 224nm 300mW。最高繰返し周波数 30kHz。最小パルス幅 7ns。最大エネルギー30 μJ＠224nm

電動チューナブルレンズ、手動チューナブルレンズ、ELM（電気式レンズモジュール）の3つの製品ランナップ。高速応答、堅牢性、高信頼性を備えレーザー加工から研究分野、3Dプリント等まで幅広いアプリケーションでご使用いただけます。

LDなど光学部品の精密ポジショニング及びスキャニング用途に適した、安定性に優れたピエゾ駆動の高精度ステージ。X, Z, XY, XYZ, 5軸, 回転。可動距離 最高1500μm

世界最高クラスの1PW級ピーク出力を実現。信頼性の高い超高強度フェムト秒レーザー。最大25J。パルス幅 20fs以下。繰返し周波数 最高5Hz

反射モード（2Dミラー）、透過モード（チューナブルプリズム）で使用可能な、革新的な2次元ビームステアリングミラーです。ビームシフト無。システム組込みに対応。LiDAR、アダプティブヘッドライト、OCT、マシンビジョン、3Dプリンティング、セキュリティなど多彩なアプリケーションで活用いただけます。

最先端の量子カスケードレーザー（QCL）技術ベースの次世代ハイパワー・テラヘルツ光源。最大光出力 7mW。マルチ周波数オプション 最高6周波数。極低温冷却不要の永久真空パッケージ。

最大パルスエネルギー 50 J @ 1064 nm, 最大繰り返し周波数 50 Hz, パルス幅 8 – 20 ns(オプション)の高エネルギー Nd:YAGレーザー。科学研究や、OEM産業用途向けアプリケーションなどに最適です。

多彩な波長ラインナップ 255～950 nm。最大出力800mW（近赤外）。温度調節機能付き

完全自動プロセスでアクリルコーティングを除去。ファイバの強度と完全性を維持したまま残渣を除去するストリッピングおよびファイバプリパレーションシステム。