感度と解像度、撮影速度に特徴のあるラインナップをご用意。計測対象に合わせて多彩なPIVカメラから選択可能

テラヘルツ実験スタートに最適。高出力モデルTC2000の廉価版。最先端の量子カスケードレーザー（QCL）ベース。2～5THz。パルス（QCW）。シングル/マルチモード。出力0.1mＷ以上 at 3.2THz。窒素冷却

完全インライン向けLIBSシステム。20kHzの超高繰返し測定（カスタムで100kHzまで可）

AFM 超高感度電流増幅器

蛍光寿命分光計。コンパクトモジュール方式　TCSPC,MCS（マルチチャンネルスケーリング）の双方データ取得可能。測定可能蛍光寿命約10psから数百ms。スペクトル範囲：255〜1550nm。完全自動化されたハードウェア制御。アプリケーションウィザード・スクリプト言語により多彩な機器に対応可能

あらゆる原子・分子分光に好適なパルス色素レーザー。370～920 nm

S neox は、性能、機能、効率、デザインの全ての面で既存の光学3Dプロファイリング顕微鏡を凌駕する、クラス最高の面形状計測システムです。

極微量滴下を可能にしたツインエアー方式。独自技術のセルフサックバックで液だれ、濡れ上がり無し

イタリアのNIREOS社のGEMINI-2Dは、過渡吸収分光測定を最先端の2次元分光装置に変換します。
GEMINI 2Dはコンパクトで非常に安定的に使用できる干渉計であり、フェムト秒レーザーパルスの2つの同一線上で位相ロックされたレプリカを生成し、比類なき安定性と堅牢性を備えています。

最高 20W。超コンパクト・オールインワン・ピコ秒レーザー。パルス幅 4～45 ps。繰返し周波数 シングルショット ～100 MHz。パルスエネルギー 500 nJ。

OEM向けレーザー。繰り返し周波数 10Hz, パルス幅 ~ 300 ps, 高エネルギー出力：50J @ 755nm、90J @ 1064nm。

微細加工向けフェムト秒ファイバレーザー。きわめて高い堅牢性と優れた安定性。クリーンな超短パルスにより非熱加工を実現。波長1030nm、平均パワー10W、可変パルス幅　450f~2ps

リアルタイムで質量変化と粘弾性、膜厚を分析高性能で低価格

キャリーケースで運搬のでき、取り扱いの簡単な小型軽量タイプ。粒径5μm～3,900μm。速度同時測定モデル

レーザー出力を無偏光化するデポラライザです。外部からの電源供給が不要なパッシブデバイスです。標準仕様ではコヒレンス長10mの光源まで使用可能です。数kmのコヒレンス長を持つレーザーのためにカスタムすることも可能です。

平均出力18W、1342nmの高出力LD励起固体レーザー。24時間365日の連続稼働の産業用途に最適

革新的なファイバアンプ技術によるコンパクト、ハイパワー、高エネルギー、高繰り返しのフェムト秒/ピコ秒ファイバレーザー。パルス幅 最短 500 fs – 10 ps、繰返し周波数 single shot to 40MHz、最大平均出力 100W、最大パルスエネルギー 500 µJ。

レーザー干渉を利用した厚さ測定装置。厚膜(1～500μm)測定用。小型・高速・高精度

ナノ秒レーザー Ivyは、ピークパワー ＞9 kW、 平均出力数ナノ秒のパルス幅を持つ業界初のオールインワンの中赤外レーザーです。

レーザービームスキャン（ランダム位置、ラインスキャン、連続スポットディフレクション）に最適なRF周波数制御ディフレクタ。高効率。スキャンレート　最高 250 kHz

50kW/cm²超のパワー密度でも歪みのない正確なビームサンプリングを実現

ファイバ径 80 µm to 2500 µm、スプライスロス < 0.1 dB。CO₂レーザーを使用した加熱によるクリーンで汚染のないガラスファイバ融着接続やファイバ-オプティクス融着などのガラス加工ソリューションを提供します。

3D形状や表面粗さを測定、解析するための直感的で使いやすいソフトウェアパッケージを装置とセットで提供しています。

汎用性の高いリアルタイム・テラヘルツ・イメージング・システムで、高解像度アプリケーションに好適。25 FPS。2~5 THz範囲で最大6つのQCLチップを搭載可能。高解像度 最小 250 µm。複数の照明オプション。1クリックで簡単光学構成（反射／透過）。