VisiVector PIVシステムには、PIV計測を行うための様々なアクセサリーがあります

クリーンルーム対応。高い柔軟性を持つ装置組込み用顕微鏡ヘッド。さまざまなアプリケーションに適合します。ISO Class 1及びESDの規格に対応。

カスタム顕微鏡対物レンズを設計の経験からOEMを含めた最適な対物レンズを提供します。高NA開口部、広視野角、長作動距離、特殊材料制約に対応。多光子顕微鏡、共焦点顕微鏡、超解像顕微鏡、液浸顕微鏡、
STED顕微鏡、生細胞蛍光顕微鏡、深部組織イメージング、超解像顕微鏡、ボーズ=アインシュタイン凝集実験などで活用されています。

レーザー光強度の制御や高速スイッチングに最適。デジタル/アナログ、RF周波数、シングル/ダブルなど、広範なラインナップから選択可。

偏波関連の計測装置 / 分析装置をラインナップ。

一般的な動的光散乱法とは異なり、光源とセンサを2つずつ用いる「クロスコリレーション法」を採用しています。そのため、高濃度な試料でも多重散乱の影響を排除した正確な測定が可能です。（測定範囲 0.5 nm～10 μm）

高性能コンパクトな A シリーズ プラットフォームは、ナノ秒、ピコ秒、またはフェムト秒パルス レーザーを搭載できるレーザー マイクロマシニング設備です。

光源や光学部品の PMD, PDL 等 偏光特性を測定。光磁気結晶を用いた特許デザインで高い精度と再現性を達成

日常業務用、教育用のコンパクトな卓上分光計から、数ピコ秒単位で測定可能な高性能の分光計まで多彩な蛍光分光計をラインナップ。サンプルは液体（キュベット）、固体、ウェファーに対応。　ソフトウェアでデータフィッティング、減衰分析に対応。

波長750～1700nmの光信号出力を-60～+10dBmの範囲で高速モニタリングが可能です。1500シリーズパワーメータは、アクティブファイバーアライメントに最適な対数アナログ出力を備えています。

HQ:NSCプローブモデルには、磁気力顕微鏡（MFM)用のコーティングを施した製品もご用意しております。コーティングはチップサイドに膜厚60 nmのコバルト層があり、さらに酸化防止のクロムフィルム膜厚20 nmがカバーしています。トポグラフィーと磁気特性の安定した測定のためにカンチレバーのパラメーターは最適化されています。

波長244～4500nmで光強度＆位相を変調。高安定性・低電圧・高速

DGD, 2次 PMD, PDL の校正標準器。使用材料固有の光学及び複屈折特性により、高い精度を保証。

生産ライン近くの分析室や分析ラボ向けのスタンドアローンLIBS元素分析装置
スラグ、コンクリート、金属などの迅速分析や元素マッピング分析に最適

S mart 2は、白色干渉計とエリア共焦点（コンフォーカル）の技術による３D表面形状測定が可能な装置組込み用顕微鏡ユニットです。3Dレーザー顕微鏡と同等の分解能と精度、再現性による表面形状・粗さ測定を実現可能です。

高性能短波長赤外カメラ。超低ノイズ&高いダイナミックレンジ。幅広い用途で使用可能なInGaAsセンサベースSWIR。200 fps。液体窒素不要。

独自の偏光コントロール・アルゴリズムを搭載した高性能偏光コントローラで多彩なコントロール機能を獲得。種々のSOPスクランブリングやSOP変調が可能。コヒーレント・レシーバ性能評価に最適。

VIS、NIR、SWIR、MWIR、LWIRバンド対応、長距離で検出可能な高輝度マルチスペクトル光信号を提供します。

ナノスケールIR化学分析用のオリジナルPiFM用AFM。 Vista One は、FTIR やナノ FTIR よりも詳細なナノスケールのケミカルマッピングと点スペクトルを取得します。

レーザーマーキング・コンプリートシステム。光源、光学系、機械系コンポーネント、ソフトウェア含む。比類のない高い柔軟性と直感的な操作性。独立型デバイスでも組込み用にも提供可能。

偏光モード分散（PMD）、偏光依存損失（PDL）、SOP（偏光状態）の計測・評価に

高出力（最大10W）で狭線幅（sub-kHz）の単一周波数レーザー。周波数変換により波長ラインナップが増えました。位相と強度の両ノイズを抑制。TEC搭載。ルビジウム、ストロンチウム、バリウム、イッテルビウムの波長に正確に対応でき、最先端の量子アプリケーションに最適です。

平均出力18W、1342nmの高出力LD励起固体レーザー。24時間365日の連続稼働の産業用途に最適

汎用性の高いリアルタイム・テラヘルツ・イメージング・システムで、高解像度アプリケーションに好適。25 FPS。2~5 THz範囲で最大6つのQCLチップを搭載可能。高解像度 最小 250 µm。複数の照明オプション。1クリックで簡単光学構成（反射／透過）。