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製品情報
簡易型レーザークリーニング装置
ナノ秒パルスファイバーレーザー使用 高速＆高品質 表面クリーニング。100W or 200W出力モデル
粒度分布測定装置 “VisiSize” PDIA式（新画像解析式）
最新解析アルゴリズムと新特許光学系により、在来型や他方式を超える安定性と精度を実現。測定レンジ。サイズ：1μm ～15,600μm。速度：～1,000m/s@100μm
白色干渉計 高速・多機能モデル ”S neox”
S neox は、性能、機能、効率、デザインの全ての面で既存の光学3Dプロファイリング顕微鏡を凌駕する、クラス最高の面形状計測システムです。
偏波感受型バランスフォトディテクタ “PBPD-001”
PBPD-001 は偏波に対する感受性を持った差分フォトディテクタです。低ノイズかつ高いコモンモードノイズ除去比、高コンバージョンゲイン、ワイドバンド、コンパクトな使いやすいモデルです。
超高安定性・二次元分光干渉計 “GEMINI 2D”
イタリアのNIREOS社のGEMINI-2Dは、過渡吸収分光測定を最先端の2次元分光装置に変換します。
GEMINI 2Dはコンパクトで非常に安定的に使用できる干渉計であり、フェムト秒レーザーパルスの2つの同一線上で位相ロックされたレプリカを生成し、比類なき安定性と堅牢性を備えています。
2軸ガルバノスキャナ
レーザービームを2次元で偏向・集光するXY偏向ユニットです。小～中規模程度の加工エリアで、高速処理が必要なさまざまなアプリケーションに好適です。
縦シングルモード（狭線幅） DPSSレーザー
473～640nmの多彩な波長ラインナップ。線幅<1MHz, 長コヒーレンス, 単一縦モード。最大出力500mW（空間）
電動垂直ステージ（自動垂直ステージ）
高耐荷重・ロングトラベルタイプから高精度タイプまで幅広い精密垂直ステージをラインナップ
小型Qスイッチ固体レーザー Q-switchedシリーズ
超コンパクト・多彩な波長・高出力・高安定性・高信頼性。CrystaLaser社のベストセラー製品。260-1444nm。最大出力1mJ。100kHz, 5-200nsパルス
PIV 非コヒーレント・マルチ・パルス・レーザー“FireFly300W”
境界層や壁面流、噴霧の可視化 / PIVに適した非コヒーレント光特性のレーザーです。鏡面やメタルの反射が低く、金属面などの照明に最適です。最大50 kHzの繰り返しが出来るパルス発振により、ハイスピードカメラの撮影コマ数に関係なく一定の明るさで撮影が可能です。
レーザー・ファイバ融着接続機
ファイバ径 80 µm to 2500 µm、スプライスロス < 0.1 dB。CO₂レーザーを使用した加熱によるクリーンで汚染のないガラスファイバ融着接続やファイバ-オプティクス融着などのガラス加工ソリューションを提供します。
通信用レーザー光源 “波長可変レーザー・ 固定波長レーザー・SLED光源・掃引レーザー”
Cバンド、Lバンドの通信用波長可変レーザー光源、カスタマイズ可能な固定波長レーザー光源、広帯域スーパールミネッセンス（SLED）光源、掃引レーザー光源をご提供しています。
AMPHOS 高出力ピコ秒レーザーシステム 一覧
最大1000W、mJエネルギー出力。繰返し 最高100MHz。フェムト秒～ピコ秒パルスのコンパクト、堅牢、高安定性なターンキーシステム
最大3mJ出力 フェムト秒/ピコ秒レーザー Tangor 300
信頼性が高く、コンパクトで多用途、費用対効果の高いパッケージの高エネルギー超短パルスレーザーです。 IR, Green, UV波長出力可能。
AOディフレクタ（音響光学ディフレクタ）
レーザービームスキャン（ランダム位置、ラインスキャン、連続スポットディフレクション）に最適なRF周波数制御ディフレクタ。高効率。スキャンレート 最高 250 kHz
AFMプローブ 磁気力顕微鏡 Co-Cr コーテイング コバルトクロム
HQ:NSCプローブモデルには、磁気力顕微鏡（MFM)用のコーティングを施した製品もご用意しております。コーティングはチップサイドに膜厚60 nmのコバルト層があり、さらに酸化防止のクロムフィルム膜厚20 nmがカバーしています。トポグラフィーと磁気特性の安定した測定のためにカンチレバーのパラメーターは最適化されています。
AO Qスイッチ（音響光学Qスイッチ）
音響光学デバイスによる短パルスレーザー発振用Qスイッチデバイス。様々な結晶素材で多様なアプリケーションに対応
高機能ピコ秒ファイバレーザー“MANNYシリーズ”
高いチューナビリティ（繰り返し周波数、パルス幅、波長）と複数のオプションで非常に高い柔軟性。
1μm, 1.55μm, SHG, 波長可変可。平均出力 最大30W。パルス幅 30ps to ms。繰り返し周波数 5MHz to 1GHz。
ピコ秒レーザーマーキングシステム
レーザーマーキング・コンプリートシステム。光源、光学系、機械系コンポーネント、ソフトウェア含む。比類のない高い柔軟性と直感的な操作性。独立型デバイスでも組込み用にも提供可能。
レーザーアブレーション装置
高速＆高精度分析。目的に最適なレーザーアブレーションを最高の性能で提供。
レーザースタビライザー”LASS-II”
最新の電気光学フィードバックループにより、レーザーの特性と機能を簡単に制御
超小型 高分解能 リニアアクチュエータ “M3-L”
M3-Lは小型の高分解能位置決めシステムです。アクチュエータにドライバーとクローズドループコントローラを内蔵。3.3V 駆動、I2C、SPIなどシリアル制御可能。コンパクトで組み込みし易くOEM機器への使用に最適です。開発キットもご用意いたしております。
ビームシフティングデバイス XPRシリーズ、BSW-20
拡張ピクセル分解能を備えた2位置または4位置のアクチュエータによるビームシフティングデバイス です。標準開口径 9～33mm。3Dプリンタ、カメラ、計測、光結合などでご活用いただけます。
NanoX 高速ポジショナ
最大10kgもの大荷重でも、高精度な高速ダイナミック・ナノ/マイクロポジショニングを実現。複数のポジショナを組み合わせることも可能。
